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公开(公告)号：CN118393726A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202410652188.1
申请日：2024-05-24
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
IPC: G02B27/00
Abstract: 本发明提供一种离轴涡旋相位板设计方法、装置、电子设备及可读存储介质，将涡旋相位、透镜相位和离轴相位进行叠加，获得离轴涡旋相位板的相位，进而确定离轴涡旋相位板的高度，完成离轴涡旋相位板的设计，与现有技术相比，设计较为简单，降低了设计门槛，拓展了设计自由性，并且，基于衍射光学原理，将相位分布限制在2π的整数倍，可使微结构关键尺寸增大，从而降低了对生产设备的要求，同时，所设计的离轴涡旋相位板可应用于微光学系统，且结构形貌复杂度较低，利于制备。
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公开(公告)号：CN117973016A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202410097115.0
申请日：2024-01-24
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种空间光调控仿真方法、装置、电子设备及可读存储介质，其基于光调控仿真模型，模拟微反射镜阵列调控空间光线的过程，由光学探测器实时探测光分布数据，进而对光分布情况进行展示，在此过程中，用户可以根据需要调整占空比、排列间隔、排列方式和微反射镜的物理特性参数中的其中一项或者多项，以达到需要的空间光分布，能够快速、精确地对微反射镜阵列中单个微反射镜的占空比、排列间隔、排列方式和或物理特性参数进行调整，能够对基于微反射镜阵列的空间光调控起到指导作用，从而高效地获得符合空间光线调控要求的微反射镜阵列。
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公开(公告)号：CN113359385B
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202110709880.X
申请日：2021-06-25
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司 , 武汉大学
Abstract: 本发明提供了一种基于OPC模型的无掩模光刻优化方法，包括如下步骤：步骤S1、根据光刻胶曝光数据以及光刻胶化学反应函数获得优化的光刻胶函数模型；步骤S2、根据光刻机参数、目标图案以及所述光刻胶函数模型，构建自适应成像模型；步骤S3、将所述目标图案的数值作为晶圆电路板图的像素化数值，来构建第一代价函数和约束条件，并根据所述约束条件对所述目标图案的曝光剂量分布数值进行更新；以及步骤S4、将反向曝光能量分布的数值作为曝光能量分布数值，来构建第二代价函数和约束条件，并根据所述约束条件对所述目标图案的曝光剂量分布数值进行进一步更新。本发明的优化方法计算量小、设置简单以及可根据需要对全局曝光点进行并行优化。
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公开(公告)号：CN113359385A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110709880.X
申请日：2021-06-25
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司 , 武汉大学
Abstract: 本发明提供了一种基于OPC模型的无掩模光刻优化方法，包括如下步骤：步骤S1、根据光刻胶曝光数据以及光刻胶化学反应函数获得优化的光刻胶函数模型；步骤S2、根据光刻机参数、目标图案以及所述光刻胶函数模型，构建自适应成像模型；步骤S3、将所述目标图案的数值作为晶圆电路板图的像素化数值，来构建第一代价函数和约束条件，并根据所述约束条件对所述目标图案的曝光剂量分布数值进行更新；以及步骤S4、将反向曝光能量分布的数值作为曝光能量分布数值，来构建第二代价函数和约束条件，并根据所述约束条件对所述目标图案的曝光剂量分布数值进行进一步更新。本发明的优化方法计算量小、设置简单以及可根据需要对全局曝光点进行并行优化。
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公开(公告)号：CN119479506A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411735339.6
申请日：2024-11-29
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有微图文阵列凹槽的菲涅尔微透镜阵列结构成像薄膜，包括：透明薄膜基底；复合型微聚焦元件阵列层，由多个复合型微聚焦元件单元组成，设置于所述透明薄膜基底的一个表面；所述复合型微聚焦元件阵列层构造为：在菲涅尔微透镜阵列表面，叠加微图文阵列进行逻辑处理，形成具有微图文阵列凹槽的菲涅尔微透镜阵列结构；以及反射膜层，覆盖于所述复合型微聚焦元件阵列层表面。本发明中的成像薄膜可视角大，厚度薄，菲涅尔微透镜阵列与微图文阵列凹槽形成复合结构，优化了工艺流程，降低了生产成本，可以实现具有超薄柔性特性的薄膜型成像器件。本发明的成像薄膜通过复合型微聚焦元件阵列层、反射膜层共同作用，提供了多视角、高对比度、黑色效果的动态图像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114325902B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202210024212.8
申请日：2022-01-05
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本发明提出了一种基于激光直写光刻技术的微棱镜阵列制造方法，包括以下步骤：步骤a：选择硅片作为衬底；步骤b：在硅衬底上旋涂光刻胶，并前烘；步骤c：将微棱镜阵列的灰度图输入激光直写设备，利用激光直写光刻技术对所述光刻胶进行曝光；步骤d：运用显影液对曝光后的光刻胶进行显影，获得光刻胶微棱镜阵列；步骤e：在所述光刻胶微棱镜阵列上旋涂材料并烘烤；步骤f：对所述材料进行脱模，获得期望的微棱镜阵列。本发明使用激光直写光刻技术可以有效地制作出具有期望尺寸的微棱镜阵列，生产灵活，大大提高了产品的性能。以及，本发明使用光刻胶作为转运模板，可以有效地对光刻胶模板上的产品进行剥离，较为完整地保存二次转运模板。
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公开(公告)号：CN118215312A
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN202410474173.0
申请日：2024-04-19
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本发明针对现有钙钛矿太阳能电池的疏水和增透功能薄膜成本高、耐久性和耐磨性差以及易污染环境的问题，提供一种用于钙钛矿太阳能电池的疏水增透膜及其制备封装方法，本发明的疏水增透膜通过薄膜表面的疏水增透结构实现疏水和增透功能，降低了成本，可避免环境污染，也提高了耐磨和耐久性能，本发明的制备封装方法通过固化胶合方式将疏水增透膜键合在钙钛矿太阳能电池的基底上，进一步提高了疏水增透膜的耐久性，同时，不需要经历钙钛矿太阳能电池的高温制造过程，故有效地拓宽了增透膜的材料选择范围。
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公开(公告)号：CN117250821A
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202311213164.8
申请日：2023-09-19
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种基于微结构纹理阵列的多功能光学投影屏的制备方法，包括步骤a：利用matlab算法软件转化得到所述多功能光学投影屏的子结构的256灰阶的初步灰度图；所述子结构包括凹形非球面反射镜以及位于所述凹形非球面反射镜周围的周期性排列的多个半尖锥状凸起；步骤b：利用插值算法使所述初步灰度图的灰阶变为4096灰阶的高精度灰度图；步骤c：通过3D激光直写光刻技术采集所述高精度灰度图的灰度信息进行一次性成型4096阶灰度曝光，得到所述子结构的光刻胶模型；步骤d：将多个所述子结构的光刻胶模型进行周期性紧密排列，并将多个所述子结构的光刻胶模型通过ICP刻蚀工艺制备金属模具；以及步骤e：由所述金属模具制备得到基于微结构纹理阵列的多功能光学投影屏。
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公开(公告)号：CN116520464A
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202310412990.9
申请日：2023-04-18
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种复眼透镜制备方法，包括：S101、在玻璃衬底上进行涂胶，形成光刻胶版；S102、激光直写设备根据导入的复眼透镜加工图对所述光刻胶版进行灰度曝光刻蚀；S103、对所述光刻胶版进行后烘；S104、通过显影机对所述光刻胶版进行多次旋涂浸泡式显影，在所述光刻胶版上获得复眼透镜结构；S105、对所述光刻胶版进行硬烘；S106、通过等离子刻蚀机对所述光刻胶版进行等离子干法刻蚀，移除所述玻璃衬底上的胶膜，在所述玻璃衬底表面形成玻璃材质的复眼透镜结构，得到复眼透镜模板；S107、对所述复眼透镜模板进行UV转印。本发明可保证复眼透镜整体结构的一致性和形貌完整性。
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公开(公告)号：CN115826343A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211638513.6
申请日：2022-12-19
Applicant: 矽万(上海)半导体科技有限公司
IPC: G03B21/60
Abstract: 本发明公开了一种基于微结构阵列的多功能投影屏的制备方法，包括：步骤a：利用matlab算法软件转化得到所述多功能投影屏的子结构的灰度图；所述子结构包括凹形非球面反射镜以及位于所述凹形非球面反射镜周围的周期性排列的多个尖锥状凸起；步骤b：通过3D激光直写光刻技术采集所述灰度图的灰阶信息进行一次曝光，得到基于微结构阵列的多功能投影屏的子结构的光刻胶模型；步骤c：将多个所述子结构的光刻胶模型进行周期性紧密排列，并通过周期性紧密排列的多个所述子结构光刻胶模型制备PDMS模具；步骤d：由所述PDMS模具得到所述多功能投影屏的柔性基底；以及步骤e：对所述柔性基底镀上纳米级的增反射膜，从而制备得到基于微结构阵列的多功能投影屏。
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