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公开(公告)号:CN100480689C
公开(公告)日:2009-04-22
申请号:CN200310122075.9
申请日:2003-12-22
Applicant: 株式会社拓普康
IPC: G01N21/892 , G01N21/47 , H01L21/66
CPC classification number: G01N21/9501
Abstract: 本发明的表面检查方法包括:用同一投影透镜,将波长不同的至少两个激光束照射到相同检查部位的步骤;设定两激光束的入射角,使各激光束的反射率值的变动互补的步骤;以及检测反射散射光的步骤。
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公开(公告)号:CN1250960C
公开(公告)日:2006-04-12
申请号:CN02142907.3
申请日:2002-08-10
Applicant: 株式会社拓普康
CPC classification number: G01N21/93 , G01N21/9501
Abstract: 一种表面检测装置,包括:具有用于搬运晶片的自动搬运装置的晶片搬运部、表面检测部、收纳附着规格已知的微粒的校正用晶片的校正用晶片收纳部和用于供送纯净空气的净化装置,其中,在前述表面检测部的晶片装载面的上方设置前述校正用晶片收纳部,所述净化装置设置成使得前述校正用晶片收纳部配置在纯净空气流的上游处。
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公开(公告)号:CN101995228A
公开(公告)日:2011-03-30
申请号:CN201010255057.8
申请日:2010-08-17
Applicant: 株式会社拓普康
IPC: G01B11/24
CPC classification number: G01B11/25 , G01B11/0608 , G01N21/951 , G01N21/956
Abstract: 本发明提供一种具有照射线状光的出射光学系统和获得从被测量物反射的线状反射光的摄像元件并根据所获得的线状反射光在被测量物上的几何学位置关系来测量被测量物的表面形状的测量装置,具备:多个成像光学系统,设置在被测量物与摄像元件之间,使线状反射光成像于摄像元件的受光面上以获得线状光在被测量物上的形状;光束分束机构,设置在被测量物与各成像光学系统之间,将线状反射光分束并导向关于被测量物的测量对象的光学设定彼此不同的各成像光学系统。摄像元件在受光面上设定有被划分为多个区域的多个片段,各个片段的至少一个或更多的区域用作受光区域,各成像光学系统使被分束的线状反射光成像于受光面上彼此不同的片段的受光区域上。
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公开(公告)号:CN1497291A
公开(公告)日:2004-05-19
申请号:CN03125499.3
申请日:2003-09-24
Applicant: 株式会社拓普康
CPC classification number: G01N21/9501 , G01N21/47 , G02B6/2848 , G02B6/32 , G02B6/4206 , G02B6/425
Abstract: 激光光源装置2由光源单元11构成,光源单元11包括将从一个半导体激光器12射出的激光聚光的一个聚光透镜14、将从其它半导体激光器13射出的激光聚光的其它聚光透镜15、及使由一个聚光透镜聚光的激光和由其它的聚光透镜聚光的激光聚焦射入一个导光手段16的射入端面16a的聚焦透镜17。
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公开(公告)号:CN1789971B
公开(公告)日:2010-05-12
申请号:CN200510125855.8
申请日:2005-11-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 株式会社拓普康
IPC: G01N15/06 , G01N15/02 , G01N21/49 , H01L21/3065
Abstract: 本发明涉及一种能够精确地检测低速粒子数量的粒子检测方法,以及一种粒子检测设备。使用光接收感测器以预定时间间隔测量当发射入气流的光被粒子散射时所产生的散射光的强度。将用以测量散射光强度的测量周期分成每个定义为一预定周期的测量周期,并且在每个测量周期中选择一可测量所测量的散射光强度最大值的测量时间点。根据在每个测量周期选择的所测量的时间点对已自光接收感测器前方通过的粒子数量进行计数。
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公开(公告)号:CN1298036C
公开(公告)日:2007-01-31
申请号:CN03128610.0
申请日:2003-03-27
IPC: H01L21/66
Abstract: 一种表面检查方法,其是在具有受光部和受光偏振角变更部件的表面检查装置中进行表面检查的,该方法包括:利用受光偏振角变更部件改变受光偏振角和接受来自涂有标准粒子的基片表面的散射反射光的步骤;通过对以直方图得到的极小值、极大值进行明确分离、以得到异物散射受光输出和基片表面散射受光输出的比、即S/N比变为最大的步骤;在上述S/N中以极小值、极大值的比为0.7以上时判断该S/N比为最大的步骤;以及在受光输出的S/N比变为最大的状态下设定受光偏振角进行表面检查的步骤。本发明还提供一种表面检查装置。
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公开(公告)号:CN1789971A
公开(公告)日:2006-06-21
申请号:CN200510125855.8
申请日:2005-11-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 株式会社拓普康
IPC: G01N15/06 , G01N15/02 , G01N21/49 , H01L21/3065
Abstract: 本发明涉及一种能够精确地检测低速粒子数量的粒子检测方法,以及一种储存用以实施该方法的程序的存储介质。使用光接收感测器以预定时间间隔测量当发射入气流的光被粒子散射时所产生的散射光的强度。将用以测量散射光强度的测量周期分成每个定义为一预定周期的测量周期,并且在每个测量周期中选择一可测量所测量的散射光强度最大值的测量时间点。根据在每个测量周期选择的所测量的时间点对已自光接收感测器前方通过的粒子数量进行计数。
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公开(公告)号:CN1191470C
公开(公告)日:2005-03-02
申请号:CN02154380.1
申请日:2002-12-04
Applicant: 株式会社拓普康
CPC classification number: G01N21/8806 , G01N21/9501
Abstract: 本发明的课题是,在对基板表面照射激光光线、通过检测该激光光线的散射反射光来检测异物的表面检查装置中,包含具有发射激光光线的多个发光源的光源部和将来自该各发光源的激光光线照射到基板表面上的照射光学系统。
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公开(公告)号:CN102472608A
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:CN200980159740.7
申请日:2009-09-11
Applicant: 株式会社拓普康
IPC: G01B9/02 , G01B11/24 , G01N21/956
CPC classification number: G01B9/02032 , G01B9/02007 , G01B9/0209 , G01B9/04 , G01B11/2441 , G01B2290/45 , G01N21/9501 , G02B21/0016
Abstract: 在向晶片等试样照射激光,并利用干涉仪观察并检查试样的表面内部的干涉显微镜和测定装置中,在分光器和参照镜之间设置用于引导光的参照光路,同时在分光器和试样之间设置用于引导光的测定光路,在参照光路和测定光路中设置光学光程差。而且,通过使参照镜发生微小量的倾斜,在检测单元形成干涉条纹。通过简单的结构,仅通过使参照镜稍微倾斜,测量晶片等试样(被测物)的表面形状,可以限定灰尘和磁极片等的准确坐标位置。
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公开(公告)号:CN1447411A
公开(公告)日:2003-10-08
申请号:CN03128610.0
申请日:2003-03-27
IPC: H01L21/66
Abstract: 一种表面检查方法,它包括:在具备受光部和受光偏振角变更部件的表面检查装置中,利用上述受光偏振角变更部件改变受光偏振角,接受来自涂有标准粒子的基片表面的散射反射光的步骤,和在受光输出的S/N比变为最大的状态下设定受光偏振角,进行表面检查的步骤。
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