表面检测装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1250960C

    公开(公告)日:2006-04-12

    申请号:CN02142907.3

    申请日:2002-08-10

    CPC classification number: G01N21/93 G01N21/9501

    Abstract: 一种表面检测装置,包括:具有用于搬运晶片的自动搬运装置的晶片搬运部、表面检测部、收纳附着规格已知的微粒的校正用晶片的校正用晶片收纳部和用于供送纯净空气的净化装置,其中,在前述表面检测部的晶片装载面的上方设置前述校正用晶片收纳部,所述净化装置设置成使得前述校正用晶片收纳部配置在纯净空气流的上游处。

    测量装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101995228A

    公开(公告)日:2011-03-30

    申请号:CN201010255057.8

    申请日:2010-08-17

    CPC classification number: G01B11/25 G01B11/0608 G01N21/951 G01N21/956

    Abstract: 本发明提供一种具有照射线状光的出射光学系统和获得从被测量物反射的线状反射光的摄像元件并根据所获得的线状反射光在被测量物上的几何学位置关系来测量被测量物的表面形状的测量装置,具备:多个成像光学系统,设置在被测量物与摄像元件之间,使线状反射光成像于摄像元件的受光面上以获得线状光在被测量物上的形状;光束分束机构,设置在被测量物与各成像光学系统之间,将线状反射光分束并导向关于被测量物的测量对象的光学设定彼此不同的各成像光学系统。摄像元件在受光面上设定有被划分为多个区域的多个片段,各个片段的至少一个或更多的区域用作受光区域,各成像光学系统使被分束的线状反射光成像于受光面上彼此不同的片段的受光区域上。

    表面检查方法及表面检查装置

    公开(公告)号:CN1298036C

    公开(公告)日:2007-01-31

    申请号:CN03128610.0

    申请日:2003-03-27

    CPC classification number: G01N21/21 G01N21/94

    Abstract: 一种表面检查方法,其是在具有受光部和受光偏振角变更部件的表面检查装置中进行表面检查的,该方法包括:利用受光偏振角变更部件改变受光偏振角和接受来自涂有标准粒子的基片表面的散射反射光的步骤;通过对以直方图得到的极小值、极大值进行明确分离、以得到异物散射受光输出和基片表面散射受光输出的比、即S/N比变为最大的步骤;在上述S/N中以极小值、极大值的比为0.7以上时判断该S/N比为最大的步骤;以及在受光输出的S/N比变为最大的状态下设定受光偏振角进行表面检查的步骤。本发明还提供一种表面检查装置。

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