公开(公告)号：CN102472608A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN200980159740.7

申请日：2009-09-11

Applicant: 株式会社拓普康

Inventor： 大友文夫 ,  布川和夫 ,  籾内正幸 ,  矶崎久 ,  宫川一宏

IPC: G01B9/02 ,  G01B11/24 ,  G01N21/956

CPC classification number: G01B9/02032 ,  G01B9/02007 ,  G01B9/0209 ,  G01B9/04 ,  G01B11/2441 ,  G01B2290/45 ,  G01N21/9501 ,  G02B21/0016

Abstract: 在向晶片等试样照射激光，并利用干涉仪观察并检查试样的表面内部的干涉显微镜和测定装置中，在分光器和参照镜之间设置用于引导光的参照光路，同时在分光器和试样之间设置用于引导光的测定光路，在参照光路和测定光路中设置光学光程差。而且，通过使参照镜发生微小量的倾斜，在检测单元形成干涉条纹。通过简单的结构，仅通过使参照镜稍微倾斜，测量晶片等试样(被测物)的表面形状，可以限定灰尘和磁极片等的准确坐标位置。

公开(公告)号：CN1497291A

公开(公告)日：2004-05-19

申请号：CN03125499.3

申请日：2003-09-24

Applicant: 株式会社拓普康

Inventor： 岩阳一郎 ,  关根胆彦 ,  宫川一宏 ,  矶崎久

IPC: G02B27/16 ,  G02B27/30 ,  H01S5/00 ,  G02B6/00 ,  G01N21/88

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/47 ,  G02B6/2848 ,  G02B6/32 ,  G02B6/4206 ,  G02B6/425

Abstract: 激光光源装置2由光源单元11构成，光源单元11包括将从一个半导体激光器12射出的激光聚光的一个聚光透镜14、将从其它半导体激光器13射出的激光聚光的其它聚光透镜15、及使由一个聚光透镜聚光的激光和由其它的聚光透镜聚光的激光聚焦射入一个导光手段16的射入端面16a的聚焦透镜17。

公开(公告)号：CN100523780C

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200510114966.9

申请日：2005-11-16

Applicant: 株式会社拓普康 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 岩阳一郎 ,  宫川一宏 ,  齐藤进

IPC: G01N15/02 ,  G01N21/51 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01N15/1434 ,  G01N2015/1486 ,  G01N2015/1493

Abstract: 本发明提供的粒子监测装置，能够防止或降低监测出的散射光强度，相应于气流通过区域中的粒子通过位置产生变化，从而可以提高对粒子尺寸的监测精度。其方式是由激光光源(10)射出呈一维形式排列的10条激光光束(L1、…L10)，通过投射光学系统(20)将这些光束(L1、…L10)转换为整体呈一条带状(带状宽度方向为d)的光束(LO)，并且按照使所述光束(LO)的光强度，在半导体制造工序(200)的气流贯穿区域(R)中相对其带状宽度方向(d)呈大致均匀分布的方式，使由激光光源(10)射出的10条激光光束(L1、…L10)部分彼此重合。

公开(公告)号：CN100367055C

公开(公告)日：2008-02-06

申请号：CN03125499.3

申请日：2003-09-24

Applicant: 株式会社拓普康

Inventor： 岩阳一郎 ,  关根明彦 ,  宫川一宏 ,  矶崎久

IPC: G02B6/28 ,  G02B6/42 ,  G02B27/16 ,  G02B27/30 ,  H01S5/00 ,  G01N21/95 ,  G01N21/88

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/47 ,  G02B6/2848 ,  G02B6/32 ,  G02B6/4206 ,  G02B6/425

Abstract: 激光光源装置2由光源单元11构成，光源单元11包括将从一个半导体激光器12射出的激光聚光的一个聚光透镜14、将从其它半导体激光器13射出的激光聚光的其它聚光透镜15、及使由一个聚光透镜聚光的激光和由其它的聚光透镜聚光的激光聚焦射入一个导光手段16的射入端面16a的聚焦透镜17。

公开(公告)号：CN1776400A

公开(公告)日：2006-05-24

申请号：CN200510114966.9

申请日：2005-11-16

Applicant: 株式会社拓普康 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 岩阳一郎 ,  宫川一宏 ,  齐藤进

IPC: G01N15/02 ,  G01N21/51 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01N15/1434 ,  G01N2015/1486 ,  G01N2015/1493

Abstract: 本发明提供的粒子监测装置，能够防止或降低监测出的散射光强度，相应于气流通过区域中的粒子通过位置产生变化，从而可以提高对粒子尺寸的监测精度。其方式是由激光光源(10)射出呈一维形式排列的10条激光光束(L1、......L10)，通过投射光学系统(20)将这些光束(L1、......L10)转换为整体呈一条带状(带状宽度方向为d)的光束(L0)，并且按照使所述光束(L0)的光强度，在半导体制造工序(200)的气流贯穿区域(R)中相对其带状宽度方向(d)呈大致均匀分布的方式，使由激光光源(10)射出的10条激光光束(L1、......L10)部分彼此重合。