半导体装置的制造方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1976011B

    公开(公告)日:2011-01-05

    申请号:CN200610163787.9

    申请日:2006-12-04

    Inventor: 山田大干

    CPC classification number: H01L27/1266 H01L27/1248 H01L29/78603

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种有防水性且可靠性高的半导体装置的制造方法,包括如下步骤:在衬底上依次形成剥离层、无机绝缘层、包括有机化合物层的元件形成层;将剥离层和无机绝缘层剥离或者将衬底和无机绝缘层剥离;将无机绝缘层的一部分或无机绝缘层以及元件形成层的一部分去掉来至少使无机绝缘层分离得成为多个部分,并在分离了的无机绝缘层的外缘层叠有机化合物层、柔性衬底和粘合剂中的任两个或更多;以及将有机化合物层、柔性衬底和粘合剂中的任两个或更多层叠的区域分割。

    半导体装置
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101233394A

    公开(公告)日:2008-07-30

    申请号:CN200680027408.1

    申请日:2006-07-20

    CPC classification number: H01L31/102 G01J1/44 H01L31/145 H04N5/2351

    Abstract: 本发明提供了一种能够探测从弱光到强光的光的光电转换器件,并且涉及一种光电转换器件,其具有:具有光电转换层的光电二极管;包括晶体管的放大器电路;以及开关,其中,当入射光的强度低于预定强度时,通过所述开关使所述光电二极管和所述放大器电路相互电连接,从而通过所述放大器电路将光电电流放大,以供输出,并且可以通过所述开关使所述光电二极管和部分或全部所述放大器电路电断开,从而按照放大系数降低光电电流,以供输出。根据这样的光电转换器件,能够探测从弱光到强光的光。

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