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公开(公告)号：CN111684580B
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN201980011975.5
申请日：2019-01-23
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 劳拉·哈夫雷查克 , 柴塔尼亚·A·普拉萨德
IPC: H01L21/683 , H01L21/687 , H01L21/67
Abstract: 本公开内容的实施方式大体涉及一种改良的基板支撑基座组件。在一个实施方式中，基板支撑基座组件包括轴。基板支撑基座组件进一步包括基板支撑基座，所述基板支撑基座机械耦接至轴。基板支撑基座包括基板支撑板，所述基板支撑板以陶瓷材料涂布于顶表面。
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公开(公告)号：CN110612593A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201880029034.X
申请日：2018-03-27
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克里斯托弗·S·奥尔森 , 埃里克·克哈雷·施诺 , 劳拉·哈夫雷 , 阿古斯·索菲安·查德拉 , 柴塔尼亚·A·普拉萨德
IPC: H01J37/32
Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及一种用于高深宽比结构的共形氧化的处理腔室。处理腔室包括位于腔室主体的第一侧中的衬里组件和位于基板支撑部中的两个泵送口，基板支撑部邻近腔室主体的与第一侧相对的第二侧。衬里组件包括分流器，以引导流体流离开设置在处理腔室的处理区域中的基板的中心。衬里组件可由石英制成，以尽量减少与处理气体(例如自由基)的相互作用。该衬里组件旨在减少自由基的流动收缩，以致自由基浓度和通量增加。可单独控制两个泵送口以调节通过处理腔室的处理区域的自由基的流动。
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公开(公告)号：CN110612593B
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN201880029034.X
申请日：2018-03-27
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克里斯托弗·S·奥尔森 , 埃里克·克哈雷·施诺 , 劳拉·哈夫雷 , 阿古斯·索菲安·查德拉 , 柴塔尼亚·A·普拉萨德
IPC: H01J37/32
Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及一种用于高深宽比结构的共形氧化的处理腔室。处理腔室包括位于腔室主体的第一侧中的衬里组件和位于基板支撑部中的两个泵送口，基板支撑部邻近腔室主体的与第一侧相对的第二侧。衬里组件包括分流器，以引导流体流离开设置在处理腔室的处理区域中的基板的中心。衬里组件可由石英制成，以尽量减少与处理气体(例如自由基)的相互作用。该衬里组件旨在减少自由基的流动收缩，以致自由基浓度和通量增加。可单独控制两个泵送口以调节通过处理腔室的处理区域的自由基的流动。
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公开(公告)号：CN110724938B
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN201910869304.4
申请日：2015-04-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/455 , H01L21/67
Abstract: 本文所述的实施方式涉及具有反射板的喷头，反射板带有用于径向分配气体的气体注入插件。在一个实施方式中，喷头组件包括反射板与气体注入插件。反射板包括至少一个气体注入口。气体注入插件设置于反射板中，且包括多个孔。气体注入插件还包括设置于气体注入插件中的挡板，其中挡板还包括多个孔。第一气室形成于挡板的第一部分与反射板之间，及第二气室形成于挡板的第二部分与反射板之间。气体注入插件的多个孔与挡板的多个孔不轴向对齐。
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公开(公告)号：CN116705689A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310728550.4
申请日：2019-01-23
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 劳拉•哈夫雷查克 , 柴塔尼亚·A·普拉萨德
IPC: H01L21/687 , H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32 , H01L21/02 , B08B7/00
Abstract: 本公开内容的实施方式大体涉及一种改良的基板支撑基座组件。在一个实施方式中，基板支撑基座组件包括轴。基板支撑基座组件进一步包括基板支撑基座，所述基板支撑基座机械耦接至轴。基板支撑基座包括基板支撑板，所述基板支撑板以陶瓷材料涂布于顶表面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116547794A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202180077833.6
申请日：2021-11-02
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 吉里达尔·卡梅什 , 维诺德•拉马钱德朗 , 柴塔尼亚·A·普拉萨德 , 穆罕默德·阿米尔 , 丹尼尔·C·格洛弗
IPC: H01L21/67
Abstract: 本公开案的实施方式大致关于用于基板处理的装置，且更具体而言，关于用于旋转基板的装置及所述装置的用途。在实施方式中，提供一种用于旋转基板的装置。装置包括可悬浮转子，所述可悬浮转子包含嵌入所述可悬浮转子中的多个磁铁；多个气体轴承，定位以悬浮可悬浮转子；及定子，磁性耦合至可悬浮转子，定子用于产生旋转磁场。亦说明具有用于旋转基板的装置的处理基板的装置，以及使用的方法。
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公开(公告)号：CN108538752A
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201810181692.2
申请日：2018-03-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 劳拉·郝勒查克 , 柴塔尼亚·A·普拉萨德 , 埃姆雷·库瓦利奇
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67109 , B04B7/04 , F01L9/04 , H01L21/02312 , H01L21/67017 , H01L21/67115 , H01L21/67248 , H01L21/68735 , H01L21/68792 , H01L21/67098
Abstract: 本文描述的实施方式大体涉及具有用于预加热处理气体的旋转器盖的处理设备。所述设备包括腔室主体，所述腔室主体具有界定内部处理区的侧壁和底壁。所述腔室还包括设置在所述腔室主体的内部处理区中的基板支撑件、环支撑件和旋转器盖。所述旋转器盖设置在环支撑件上。所述旋转器盖是不透明石英材料。所述旋转器盖有利地提供更有效的处理气体加热，由能够承受处理条件同时提供更有效和均匀的处理的材料构成，且具有低CTE从而减少由于处理期间过度膨胀而导致的颗粒污染。
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公开(公告)号：CN115003856A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202180010250.1
申请日：2021-01-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 柴塔尼亚·A·普拉萨德 , 丹尼尔·C·格洛弗 , 纳曼·阿普瓦
IPC: C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/52 , C23C16/44
Abstract: 一种基板支撑底座，基板支撑底座能连接至轴，基板支撑底座包括：导热主体；第一流体通道，第一流体通道设置在导热主体的外部区域内；和第二流体通道，第二流体通道设置在导热主体的内部区域内。第一流体通道和第二流体通道彼此不流体连通，并且通过基板支撑通道内的热屏障彼此热隔离。
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公开(公告)号：CN110724938A
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201910869304.4
申请日：2015-04-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/455 , H01L21/67
Abstract: 本文所述的实施方式涉及具有反射板的喷头，反射板带有用于径向分配气体的气体注入插件。在一个实施方式中，喷头组件包括反射板与气体注入插件。反射板包括至少一个气体注入口。气体注入插件设置于反射板中，且包括多个孔。气体注入插件还包括设置于气体注入插件中的挡板，其中挡板还包括多个孔。第一气室形成于挡板的第一部分与反射板之间，及第二气室形成于挡板的第二部分与反射板之间。气体注入插件的多个孔与挡板的多个孔不轴向对齐。
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公开(公告)号：CN106463344A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580021593.2
申请日：2015-04-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02
Abstract: 本文所述的实施方式涉及具有反射板的喷头，反射板带有用于径向分配气体的气体注入插件。在一个实施方式中，喷头组件包括反射板与气体注入插件。反射板包括至少一个气体注入口。气体注入插件设置于反射板中，且包括多个孔。气体注入插件还包括设置于气体注入插件中的挡板，其中挡板还包括多个孔。第一气室形成于挡板的第一部分与反射板之间，及第二气室形成于挡板的第二部分与反射板之间。气体注入插件的多个孔与挡板的多个孔不轴向对齐。
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