合金材料、合金的热处理方法及合金产品的生产方法

    公开(公告)号:CN117448720A

    公开(公告)日:2024-01-26

    申请号:CN202311707065.5

    申请日:2023-12-12

    Abstract: 本申请提供了一种合金材料、合金的热处理方法及合金产品的生产方法。该合金包括钽钨合金或铌合金,钽钨合金包括Ta2.5W、Ta5W、Ta7.5W和钽高钨合金中的任意一种或多种,铌合金包括Nb521、NbW5‑1、Nb752、Cb752中的任意一种或多种,生产方法包括:采用中频加热炉对合金铸锭进行预热处理,得到预热铸锭;在预热铸锭的表面设置抗氧化层,得到抗氧化铸锭;采用中频加热炉对抗氧化铸锭进行分级加热处理,得到热处理后铸锭,分级加热处理包括在40KW‑145KW的范围内梯度增加中频加热炉的加热功率使温度升温至1500±50℃。提高了铸锭的加工塑性。

    一种钽靶材的制备方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104741872A

    公开(公告)日:2015-07-01

    申请号:CN201510021983.1

    申请日:2015-01-16

    CPC classification number: C23C14/3414

    Abstract: 本发明提供了一种钽靶材的制备方法,包括以下步骤:A)将钽锭进行冷旋锻,将冷旋锻后的钽锭进行酸洗,将酸洗后的钽锭进行热处理;B)将步骤A)得到的钽锭进行三次镦粗拔长的热锻,将热锻后的钽锭进行酸洗,将酸洗后的钽锭进行热处理;C)将步骤B)得到的钽锭进行三次墩粗拔长的热锻,将热锻后的钽锭进行酸洗,将酸洗后的钽锭进行热处理;D)将步骤C)得到的钽锭进行热锻,将热锻后的钽锭进行酸洗,将酸洗后的钽锭进行热处理;E)将步骤D)得到的钽锭进行轧制,将轧制后的钽锭进行酸洗,将酸洗后的钽锭进行热处理,得到钽靶材。本申请通过热锻与热轧相配合,得到了符合半导体使用要求的内部组织织构均匀的高性能钽靶材。

    一种钽靶材的锻造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104532196A

    公开(公告)日:2015-04-22

    申请号:CN201410754282.4

    申请日:2014-12-10

    Abstract: 本发明涉及一种钽靶材的锻造方法。其特点是,包括如下步骤:首先取钽锭进行一次锻造,然后经过酸洗、热处理后再进行二次锻造,最后再次经过酸洗和热处理即可。本发明通过三向镦粗拔长锻造方法,采用合理的锻造道次压下量和后期热处理工艺,彻底破碎铸晶,解决常规锻造方法中钽靶材晶粒尺寸不均、铸晶残留、以及晶粒尺寸不够小的问题,得到细小均匀的微观组织。主要特点:第一,采用本发明的锻造方法,结合后期的热处理工艺,可以得到细小均匀的微观组织;第二,简化锻造流程,实现了大的锻造加工率,可彻底破碎铸晶,同时减少了锻造缺陷,提高了材料利用率。通过本发明的锻造方法,可以有效保证钽靶材在锻造结束后,获得细小、均匀的微观组织。

    一种靶材的制备方法
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106756832B

    公开(公告)日:2019-03-12

    申请号:CN201611229097.9

    申请日:2016-12-27

    Abstract: 本发明提供了一种靶材的制备方法,包括以下步骤:A)将锻造后的坯料酸洗后热处理,所述热处理的升温速率为10~50℃/min;B)将热处理后的坯料放置于轧机的工装上进行轧制;C)将轧制后的坯料进行酸洗,再进行热处理,得到靶材;所述热处理的升温速率为10~50℃/min。本发明通过采用特殊的轧制工装和快速升温热处理工艺,可制备直径在400~1000mm,厚度在6~30mm的大规格靶材,且使该种靶材获得的{111}、{100}织构组分比例控制在20~40%,织构组分分布波动控制在10%以内,能满足28nm及以下制程的半导体应用。

    一种钽靶材的锻造方法
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104532196B

    公开(公告)日:2018-04-03

    申请号:CN201410754282.4

    申请日:2014-12-10

    Abstract: 本发明涉及一种钽靶材的锻造方法。其特点是,包括如下步骤:首先取钽锭进行一次锻造,然后经过酸洗、热处理后再进行二次锻造,最后再次经过酸洗和热处理即可。本发明通过三向镦粗拔长锻造方法,采用合理的锻造道次压下量和后期热处理工艺,彻底破碎铸晶,解决常规锻造方法中钽靶材晶粒尺寸不均、铸晶残留、以及晶粒尺寸不够小的问题,得到细小均匀的微观组织。主要特点:第一,采用本发明的锻造方法,结合后期的热处理工艺,可以得到细小均匀的微观组织;第二,简化锻造流程,实现了大的锻造加工率,可彻底破碎铸晶,同时减少了锻造缺陷,提高了材料利用率。通过本发明的锻造方法,可以有效保证钽靶材在锻造结束后,获得细小、均匀的微观组织。

    一种靶材的制备方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106756832A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201611229097.9

    申请日:2016-12-27

    CPC classification number: C23C14/3414 C22F1/18

    Abstract: 本发明提供了一种靶材的制备方法,包括以下步骤:A)将锻造后的坯料酸洗后热处理,所述热处理的升温速率为10~50℃/min;B)将热处理后的坯料放置于轧机的工装上进行轧制;C)将轧制后的坯料进行酸洗,再进行热处理,得到靶材;所述热处理的升温速率为10~50℃/min。本发明通过采用特殊的轧制工装和快速升温热处理工艺,可制备直径在400~1000mm,厚度在6~30mm的大规格靶材,且使该种靶材获得的{111}、{100}织构组分比例控制在20~40%,织构组分分布波动控制在10%以内,能满足28nm及以下制程的半导体应用。

    坩埚冲压模具
    10.
    发明公开
    坩埚冲压模具 审中-实审

    公开(公告)号:CN117920867A

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202410130360.7

    申请日:2024-01-30

    Abstract: 本公开提供一种坩埚冲压模具,包括:第一模座;第二模座,与第一模座沿预设方向可动地相对设置;拉深凸模;拉深凹模,被配置为随第二模座沿预设方向相对于拉深凸模在第一位置和第二位置之间运动,且相对于拉深凸模在第三位置与第二位置之间与拉深凸模配合;和压筋模体,相对于第二模座沿预设方向可动地设置且与拉深凸模相对,被配置为:在拉深凹模相对于拉深凸模在第一位置和第三位置之间运动时,压筋模体随第二模座沿预设方向运动,在拉深凹模相对于拉深凸模在第三位置与第二位置之间运动时,压筋模体相对于拉深凸模保持静止且形成容纳坯料的中部的第一间隔。本公开的坩埚冲压模具可提升生产效率、降低生产成本、提升产品精度。

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