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公开(公告)号：CN117293051A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202310702566.8
申请日：2023-06-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01J37/32 , C23C16/455 , C23C16/34 , C23C16/52
Abstract: 本发明提供一种能够提高吞吐量的基片处理装置和基片处理方法。一种基片处理装置，其包括：收纳基片的处理容器；向所述处理容器内供给处理气体的处理气体供给部；对所述处理容器内进行排气的排气部；加热所述处理容器的加热机构；和喷射用于冷却所述基片的冷却气体的冷却气体喷射部。
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公开(公告)号：CN104060074B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：CN201410108338.9
申请日：2014-03-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67781 , G11C11/16 , H01L21/67754
Abstract: 本发明的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，该磁性退火装置包括：收纳容器，其用于收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件；上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104060074A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201410108338.9
申请日：2014-03-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67781 , G11C11/16 , H01L21/67754
Abstract: 本发明的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，该磁性退火装置包括：收纳容器，其用于收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件；上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。
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公开(公告)号：CN113293360A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202110096134.8
申请日：2021-01-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/458 , C23C16/46
Abstract: 本发明涉及成膜装置和成膜方法。提供能够形成高品质的半导体膜的技术。本公开的一技术方案的成膜装置具有：旋转台，其设于真空容器内；载置台，其沿着所述旋转台的周向设置，用于载置基板；处理区域，在该处理区域，朝向所述旋转台的上表面供给处理气体；热处理区域，其沿着所述旋转台的周向与所述处理区域分离开地配置，在该热处理区域，以比所述处理区域的温度高的温度对所述基板进行热处理；以及冷却区域，其沿着所述旋转台的周向与所述热处理区域分离开地配置，在该冷却区域，冷却所述基板。
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公开(公告)号：CN110313077A
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201880012792.0
申请日：2018-02-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L43/12 , C23C14/58 , H01L21/26 , H01L21/324 , H01L21/677 , H01L21/8239 , H01L27/105
Abstract: 一个实施方式中的基片处理装置(10)和处理系统(100)对具有磁性层的基片(W)进行单片式处理，包括：支承基片的支承部(PP)；加热由支承部支承的基片的加热部(HT)；冷却由支承部支承的基片的冷却部(CR)；用于产生磁场的磁铁部(2)；和收纳支承部、加热部及冷却部的处理容器(1)，磁铁部包括彼此平行地延伸的第一端面(2a1)和第二端面(2b1)，第一端面与第二端面隔开间隔地相对，第一端面对应于磁铁部的第一磁极，第二端面对应于磁铁部的第二磁极，处理容器配置在第一端面与第二端面之间。
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公开(公告)号：CN104060073B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201410108086.X
申请日：2014-03-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L39/02 , C21D1/04 , C21D2281/00 , F27B5/06 , F27B5/12 , F27B5/13 , F27D3/0024 , F27D3/0084 , F27D11/12 , F27D19/00 , F27D2003/0003 , F27D2003/0018 , G11C11/16 , H01L43/12
Abstract: 在本发明的磁性退火装置中，隔着开闭门形成有用于输送收纳有一组被处理体的收纳容器的收纳容器输送区域和用于输送被处理体的被处理体输送区域，磁性退火装置具有控制部，在收纳容器输送区域内配置有：第1载置台；多个第2载置台；保存部；以及收纳容器输送机构，其用于在第1载置台、第2载置台以及保存部之间输入、输出收纳容器；在被处理体输送区域内配置有：对准器；被处理体保持部件；被处理体输送机构，其用于在载置于第2载置台的收纳容器、对准器以及被处理体保持部件之间输送被处理体；加热部件；磁场产生部件；以及移载机构，其用于将保持于被处理体保持部件的被处理体移载到磁场产生部件内。
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公开(公告)号：CN104060073A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201410108086.X
申请日：2014-03-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L39/02 , C21D1/04 , C21D2281/00 , F27B5/06 , F27B5/12 , F27B5/13 , F27D3/0024 , F27D3/0084 , F27D11/12 , F27D19/00 , F27D2003/0003 , F27D2003/0018 , G11C11/16 , H01L43/12
Abstract: 在本发明的磁性退火装置中，隔着开闭门形成有用于输送收纳有一组被处理体的收纳容器的收纳容器输送区域和用于输送被处理体的被处理体输送区域，磁性退火装置具有控制部，在收纳容器输送区域内配置有：第1载置台；多个第2载置台；保存部；以及收纳容器输送机构，其用于在第1载置台、第2载置台以及保存部之间输入、输出收纳容器；在被处理体输送区域内配置有：对准器；被处理体保持部件；被处理体输送机构，其用于在载置于第2载置台的收纳容器、对准器以及被处理体保持部件之间输送被处理体；加热部件；磁场产生部件；以及移载机构，其用于将保持于被处理体保持部件的被处理体移载到磁场产生部件内。
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