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公开(公告)号：CN106486597A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201610740527.7
申请日：2016-08-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L43/12
Abstract: 本发明提供一种磁化处理装置和磁化处理方法。本实施方式的磁化处理装置具有：载置台，其用于对收纳有多个基板的收纳容器进行载置；磁化处理室，其能够收容所述收纳容器，用于对所述收纳容器内的所述多个基板施加磁场；输送机构，其能够从所述载置台向所述磁化处理室内输送所述收纳容器。
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公开(公告)号：CN111868907B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN201980017669.2
申请日：2019-03-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/673 , H01L21/67
Abstract: 提供了一种水平式衬底承载装置，例如用于在水平式热处理期间保持半导体衬底的承载装置。水平式衬底承载装置具有不对称放置的支承导轨。水平式衬底承载装置的一侧没有上导轨，而水平式衬底承载装置的另一侧具有在相对高位置处放置的上导轨，例如处于60°或更大的角位置，更优选地处于70°或更大的角位置，并且最优选地处于90°的角位置。没有上导轨的一侧可以用于水平式衬底承载装置的机械手装载。在优选实施方式中，设置了仅三个导轨：两个下导轨以及在一侧的一个上导轨。这三个导轨的使用和放置可以将衬底保持在精确均匀的位置，使衬底移动最小化，并且使颗粒生成最小化，与此同时还使得能够轻松进行机械手接近。
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公开(公告)号：CN104060074B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：CN201410108338.9
申请日：2014-03-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67781 , G11C11/16 , H01L21/67754
Abstract: 本发明的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，该磁性退火装置包括：收纳容器，其用于收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件；上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。
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公开(公告)号：CN104060074A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201410108338.9
申请日：2014-03-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67781 , G11C11/16 , H01L21/67754
Abstract: 本发明的磁性退火装置使用卧式的超导磁体作为磁场产生部件，对保持于被处理体保持部件的被处理体进行磁性退火处理，该磁性退火装置包括：收纳容器，其用于收纳磁性退火处理前的上述被处理体；以及被处理体输送机构，其用于将保持于上述收纳容器的上述被处理体输送到上述被处理体保持部件；上述被处理体输送机构能够将上述被处理体保持为水平状态，并且也能够将上述被处理体保持为铅垂状态。
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公开(公告)号：CN110313077A
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201880012792.0
申请日：2018-02-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L43/12 , C23C14/58 , H01L21/26 , H01L21/324 , H01L21/677 , H01L21/8239 , H01L27/105
Abstract: 一个实施方式中的基片处理装置(10)和处理系统(100)对具有磁性层的基片(W)进行单片式处理，包括：支承基片的支承部(PP)；加热由支承部支承的基片的加热部(HT)；冷却由支承部支承的基片的冷却部(CR)；用于产生磁场的磁铁部(2)；和收纳支承部、加热部及冷却部的处理容器(1)，磁铁部包括彼此平行地延伸的第一端面(2a1)和第二端面(2b1)，第一端面与第二端面隔开间隔地相对，第一端面对应于磁铁部的第一磁极，第二端面对应于磁铁部的第二磁极，处理容器配置在第一端面与第二端面之间。
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公开(公告)号：CN111868907A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980017669.2
申请日：2019-03-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/673 , H01L21/67
Abstract: 提供了一种水平式衬底承载装置，例如用于在水平式热处理期间保持半导体衬底的承载装置。水平式衬底承载装置具有不对称放置的支承导轨。水平式衬底承载装置的一侧没有上导轨，而水平式衬底承载装置的另一侧具有在相对高位置处放置的上导轨，例如处于60°或更大的角位置，更优选地处于70°或更大的角位置，并且最优选地处于90°的角位置。没有上导轨的一侧可以用于水平式衬底承载装置的机械手装载。在优选实施方式中，设置了仅三个导轨：两个下导轨以及在一侧的一个上导轨。这三个导轨的使用和放置可以将衬底保持在精确均匀的位置，使衬底移动最小化，并且使颗粒生成最小化，与此同时还使得能够轻松进行机械手接近。
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公开(公告)号：CN104060073B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201410108086.X
申请日：2014-03-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L39/02 , C21D1/04 , C21D2281/00 , F27B5/06 , F27B5/12 , F27B5/13 , F27D3/0024 , F27D3/0084 , F27D11/12 , F27D19/00 , F27D2003/0003 , F27D2003/0018 , G11C11/16 , H01L43/12
Abstract: 在本发明的磁性退火装置中，隔着开闭门形成有用于输送收纳有一组被处理体的收纳容器的收纳容器输送区域和用于输送被处理体的被处理体输送区域，磁性退火装置具有控制部，在收纳容器输送区域内配置有：第1载置台；多个第2载置台；保存部；以及收纳容器输送机构，其用于在第1载置台、第2载置台以及保存部之间输入、输出收纳容器；在被处理体输送区域内配置有：对准器；被处理体保持部件；被处理体输送机构，其用于在载置于第2载置台的收纳容器、对准器以及被处理体保持部件之间输送被处理体；加热部件；磁场产生部件；以及移载机构，其用于将保持于被处理体保持部件的被处理体移载到磁场产生部件内。
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公开(公告)号：CN104060073A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201410108086.X
申请日：2014-03-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L39/02 , C21D1/04 , C21D2281/00 , F27B5/06 , F27B5/12 , F27B5/13 , F27D3/0024 , F27D3/0084 , F27D11/12 , F27D19/00 , F27D2003/0003 , F27D2003/0018 , G11C11/16 , H01L43/12
Abstract: 在本发明的磁性退火装置中，隔着开闭门形成有用于输送收纳有一组被处理体的收纳容器的收纳容器输送区域和用于输送被处理体的被处理体输送区域，磁性退火装置具有控制部，在收纳容器输送区域内配置有：第1载置台；多个第2载置台；保存部；以及收纳容器输送机构，其用于在第1载置台、第2载置台以及保存部之间输入、输出收纳容器；在被处理体输送区域内配置有：对准器；被处理体保持部件；被处理体输送机构，其用于在载置于第2载置台的收纳容器、对准器以及被处理体保持部件之间输送被处理体；加热部件；磁场产生部件；以及移载机构，其用于将保持于被处理体保持部件的被处理体移载到磁场产生部件内。
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公开(公告)号：CN106486597B
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201610740527.7
申请日：2016-08-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L43/12
Abstract: 本发明提供一种磁化处理装置和磁化处理方法。本实施方式的磁化处理装置具有：载置台，其用于对收纳有多个基板的收纳容器进行载置；磁化处理室，其能够收容所述收纳容器，用于对所述收纳容器内的所述多个基板施加磁场；输送机构，其能够从所述载置台向所述磁化处理室内输送所述收纳容器。
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