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公开(公告)号：CN111868907A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980017669.2
申请日：2019-03-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/673 , H01L21/67
Abstract: 提供了一种水平式衬底承载装置，例如用于在水平式热处理期间保持半导体衬底的承载装置。水平式衬底承载装置具有不对称放置的支承导轨。水平式衬底承载装置的一侧没有上导轨，而水平式衬底承载装置的另一侧具有在相对高位置处放置的上导轨，例如处于60°或更大的角位置，更优选地处于70°或更大的角位置，并且最优选地处于90°的角位置。没有上导轨的一侧可以用于水平式衬底承载装置的机械手装载。在优选实施方式中，设置了仅三个导轨：两个下导轨以及在一侧的一个上导轨。这三个导轨的使用和放置可以将衬底保持在精确均匀的位置，使衬底移动最小化，并且使颗粒生成最小化，与此同时还使得能够轻松进行机械手接近。
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公开(公告)号：CN118901297A
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202380028888.7
申请日：2023-03-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 伊恩·科尔根 , 伊万·多姆沙 , 乔治·艾尔斯 , 鲍特洛米耶·布尔科维奇 , 巴里·克拉克 , 大卫·赫尔利 , 爱因斯坦·诺埃尔·阿巴拉
IPC: H10N50/01 , H01L21/67 , H01L21/687 , H10N50/10
Abstract: 本披露内容描述了用于对衬底进行磁退火的设备，该设备包括：退火室，该退火室被配置为加热和冷却在该退火室内沿着第一方向被固持在浸泡位置处的衬底，该退火室包括：加热器、冷却器、以及包括衬底固持器的衬底提升器，其中，该衬底固持器被配置成支撑衬底，该衬底被定向成使得该第一方向垂直于该衬底的主表面；以及磁体组件，该磁体组件被配置为在该退火室中建立均质区，该浸泡位置在该均质区内，该均质区包括磁场区域。
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公开(公告)号：CN111868907B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN201980017669.2
申请日：2019-03-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/673 , H01L21/67
Abstract: 提供了一种水平式衬底承载装置，例如用于在水平式热处理期间保持半导体衬底的承载装置。水平式衬底承载装置具有不对称放置的支承导轨。水平式衬底承载装置的一侧没有上导轨，而水平式衬底承载装置的另一侧具有在相对高位置处放置的上导轨，例如处于60°或更大的角位置，更优选地处于70°或更大的角位置，并且最优选地处于90°的角位置。没有上导轨的一侧可以用于水平式衬底承载装置的机械手装载。在优选实施方式中，设置了仅三个导轨：两个下导轨以及在一侧的一个上导轨。这三个导轨的使用和放置可以将衬底保持在精确均匀的位置，使衬底移动最小化，并且使颗粒生成最小化，与此同时还使得能够轻松进行机械手接近。
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公开(公告)号：CN110741467B
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN201880037487.7
申请日：2018-05-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/324 , H01L21/677
Abstract: 描述了关于使用竖直多批次直立磁性退火系统来处理微电子工件的退火系统和相关方法的实施方式，该磁性退火系统允许多个退火系统的并排配置以满足减小的占用空间要求。
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公开(公告)号：CN110741467A
公开(公告)日：2020-01-31
申请号：CN201880037487.7
申请日：2018-05-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/324 , H01L21/677
Abstract: 描述了关于使用竖直多批次直立磁性退火系统来处理微电子工件的退火系统和相关方法的实施方式，该磁性退火系统允许多个退火系统的并排配置以满足减小的占用空间要求。
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