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公开(公告)号：CN114959604A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210132270.2
申请日：2022-02-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种进行溅射处理的装置和方法。在对基片进行溅射处理的装置中，在处理容器内以沿着包围中心位置的圆排列的方式配置有多个载置台，通过等离子体而从配置在这些载置台的上方位置的靶材释放靶材颗粒。从该靶材的上方侧俯视时，多个载置台配置在能够使重叠区域绕所述中心位置旋转对称的位置，该重叠区域是能够从靶材释放靶材颗粒的释放区域与多个载置台上所载置的各基片成为重叠的状态的区域。根据本发明，能够对配置在共用的处理容器内的多个基片均匀地进行溅射处理。
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公开(公告)号：CN113937043A
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN202110767249.5
申请日：2021-07-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供能够以简单的构造抑制从高温的基板向真空密封部、机构部的热的影响的真空输送装置和基板处理系统。在真空中输送高温的基板的真空输送装置包括：主体部，其包括真空密封部和在内部具有机构部的臂部；基板保持部，其与所述主体部连接，用于保持基板；热输送构件，其设于所述主体部的表面，由沿面方向的热导率比构成所述主体部的材料的沿面方向的热导率高的材料构成，用于输送从所述基板传递至所述基板保持部的热；以及散热部，其对在所述热输送构件中输送来的热进行散热。
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公开(公告)号：CN112153771A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010566187.7
申请日：2020-06-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种加热装置、加热方法以及基板处理装置。对加热对象物进行加热的加热装置具备：加热构件，其包括电磁波吸收体，并且对加热对象物进行支承；电磁波照射部，其向加热构件的与支承加热对象物的面相反一侧的照射面照射电磁波；以及控制部。电磁波照射部具有：电磁波输出部，其输出电磁波；以及天线单元，其构成相控阵天线，天线单元具有多个天线模块，所述多个天线模块具有放射电磁波的天线以及调整从天线放射出的电磁波的相位的移相器，控制部控制多个天线模块的移相器，以使从多个天线放射出的电磁波的相位通过干涉而聚集于加热构件的任意的部分，并且控制部控制多个天线模块的移相器，以使电磁波的聚集部分在加热构件的照射面处扫描。
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公开(公告)号：CN110313077A
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201880012792.0
申请日：2018-02-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L43/12 , C23C14/58 , H01L21/26 , H01L21/324 , H01L21/677 , H01L21/8239 , H01L27/105
Abstract: 一个实施方式中的基片处理装置(10)和处理系统(100)对具有磁性层的基片(W)进行单片式处理，包括：支承基片的支承部(PP)；加热由支承部支承的基片的加热部(HT)；冷却由支承部支承的基片的冷却部(CR)；用于产生磁场的磁铁部(2)；和收纳支承部、加热部及冷却部的处理容器(1)，磁铁部包括彼此平行地延伸的第一端面(2a1)和第二端面(2b1)，第一端面与第二端面隔开间隔地相对，第一端面对应于磁铁部的第一磁极，第二端面对应于磁铁部的第二磁极，处理容器配置在第一端面与第二端面之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119101879A
公开(公告)日：2024-12-10
申请号：CN202410671771.7
申请日：2024-05-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C14/50 , C23C14/54 , C23C16/46 , C23C16/52 , H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种对载置基板的载台进行冷却的载台结构体、基板处理装置和温度控制方法。载台结构体包括：多个载台，用于载置基板；一个冷却板，由多个所述载台共用；冷冻机，用于冷却所述冷却板；以及升降装置，能够将多个所述载台的第一接触面与所述冷却板的第二接触面热连接或分离开。
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公开(公告)号：CN115461489A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202180030110.0
申请日：2021-04-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及PVD装置。PVD装置具备：腔室、多个载置台、第一靶保持部、电力供给机构以及屏蔽件。多个载置台设置在腔室内，并分别能够在上表面载置至少一个基板。第一靶保持部能够保持靶，该靶暴露在腔室内的空间，并针对一个载置台设置至少一个。电力供给机构经由第一靶保持部向靶供给电力。屏蔽件设置于腔室内，一部分配置在多个载置台中的第一载置台与第二载置台之间、以及第一载置台上的第一处理空间与第二载置台上的第二处理空间之间。
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公开(公告)号：CN114730727A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202080080931.0
申请日：2020-11-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 提供一种输送基板的基板输送装置。本公开的一技术方案的基板输送装置包括：平面马达，其设于输送室，并具有排列着的线圈；输送单元，其在所述平面马达上移动；以及控制部，其控制所述线圈的通电，所述输送单元包括：两个基座，其具有排列着的磁体，并在所述平面马达上移动；基板支承构件，其用于支承基板；以及连杆机构，其将所述基板支承构件和两个所述基座连结。
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公开(公告)号：CN114731104B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202080080938.2
申请日：2020-11-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 提供一种输送基板的基板输送装置。基板输送装置包括：第1平面马达，其设于第1室，并具有排列着的线圈；第2平面马达，其设于与所述第1室连接的第2室，并具有排列着的线圈；一对输送单元，其在所述第1平面马达和/或所述第2平面马达上移动，并能够输送基板；以及控制部，其控制所述第1平面马达和所述第2平面马达的线圈的通电。
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公开(公告)号：CN114765121B
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202210002402.X
申请日：2022-01-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本公开涉及一种基板搬送装置、基板搬送方法以及基板处理系统，能够使用平面马达来以高位置精度向处理室内的搬送位置搬送基板。用于搬送基板的基板搬送装置具有：搬送单元，其具有用于保持基板的基板保持部以及内部具有磁体来用于使基板保持部移动的基部；平面马达，其具有主体部、排列在主体部内的多个电磁线圈、以及向电磁线圈供电来使所述基部磁悬浮并且对所述基部进行直线驱动的直线驱动部；基板检测传感器，其在保持于基板保持部的基板通过时检测基板；以及搬送控制部，其基于基板检测传感器的检测数据来运算保持于基板保持部的基板的实际位置，并计算所述实际位置相对于所设定的逻辑位置的校正值，基于该校正值来修正基板的搬送位置。
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