PVD装置
    1.
    发明公开
    PVD装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN115461489A

    公开(公告)日:2022-12-09

    申请号:CN202180030110.0

    申请日:2021-04-16

    Abstract: 本发明涉及PVD装置。PVD装置具备:腔室、多个载置台、第一靶保持部、电力供给机构以及屏蔽件。多个载置台设置在腔室内,并分别能够在上表面载置至少一个基板。第一靶保持部能够保持靶,该靶暴露在腔室内的空间,并针对一个载置台设置至少一个。电力供给机构经由第一靶保持部向靶供给电力。屏蔽件设置于腔室内,一部分配置在多个载置台中的第一载置台与第二载置台之间、以及第一载置台上的第一处理空间与第二载置台上的第二处理空间之间。

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