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公开(公告)号：CN106409670A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201610597359.0
申请日：2016-07-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/302 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及基板处理装置的维护方法。在对晶圆进行加热处理时分解由于晶圆的处理而产生的升华物，从而抑制升华物附着于排气路径的情况。另外，在利用来自光源部的光对晶圆W进行加热等处理时将附着到透光窗的升华物去除。在处理容器的内表面形成热催化剂层，对该热催化剂层进行了加热。因此，在自晶圆上的涂敷膜升华而引入到处理容器内的升华物到达了热催化剂层的附近时，利用热催化剂层的热活性化从而升华物被分解去除。另外，在将附着到透光窗的升华物去除时，将在表面形成有热催化剂层的清洁用基板输入处理容器内，在将热催化剂层靠近了透光窗后，加热清洁用基板，从而将附着到透光窗的表面的升华物去除。
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公开(公告)号：CN117339809A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202310737045.6
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被保持的基板涂布涂布液；和杯，其包围被保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；筒状壁部，其设于内杯部之下，具有与排气路径连通的向上开口的排气口；和涂布液收集部，其在内杯部的壁体之下在与壁体的下端之间空开间隙地配置，该装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部，涂布液收集部固定于筒状壁部。
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公开(公告)号：CN104345580A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201410382270.3
申请日：2014-08-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种显影方法，用于进行显影，其包括：将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；使基板旋转的步骤；使上述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的上述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和与使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与上述显影液喷嘴一起移动的接触部与上述积液接触的步骤，其中，上述接触部与上述基板相对的面比上述基板的表面小。根据该方法能够抑制落到基板外的液体量。另外，由于能够降低基板的转速，所以，能够抑制液体飞溅。并且，通过搅拌显影液，能够提高处理能力。
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公开(公告)号：CN110764374B
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN201911132118.9
申请日：2014-08-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种显影方法，用于进行显影，其包括：将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；使基板旋转的步骤；使上述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的上述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和与使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与上述显影液喷嘴一起移动的接触部与上述积液接触的步骤，其中，上述接触部与上述基板相对的面比上述基板的表面小。根据该方法能够抑制落到基板外的液体量。另外，由于能够降低基板的转速，所以，能够抑制液体飞溅。并且，通过搅拌显影液，能够提高处理能力。
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公开(公告)号：CN110824864B
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN201911132271.1
申请日：2014-08-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30 , H01L21/027 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种显影方法，用于进行显影，其包括：将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；使基板旋转的步骤；使上述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的上述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和与使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与上述显影液喷嘴一起移动的接触部与上述积液接触的步骤，其中，上述接触部与上述基板相对的面比上述基板的表面小。根据该方法能够抑制落到基板外的液体量。另外，由于能够降低基板的转速，所以，能够抑制液体飞溅。并且，通过搅拌显影液，能够提高处理能力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104345580B
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201410382270.3
申请日：2014-08-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种显影方法，用于进行显影，其包括：将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；使基板旋转的步骤；使上述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的上述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和与使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与上述显影液喷嘴一起移动的接触部与上述积液接触的步骤，其中，上述接触部与上述基板相对的面比上述基板的表面小。根据该方法能够抑制落到基板外的液体量。另外，由于能够降低基板的转速，所以，能够抑制液体飞溅。并且，通过搅拌显影液，能够提高处理能力。
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公开(公告)号：CN110824864A
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201911132271.1
申请日：2014-08-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30 , H01L21/027 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种显影方法，用于进行显影，其包括：将曝光后的基板水平地保持在基板保持部上的步骤；从显影液喷嘴向基板的一部分供给显影液形成积液的步骤；使基板旋转的步骤；使上述显影液喷嘴移动，以使得进行旋转的上述基板上的显影液的供给位置沿着该基板的径向进行移动，从而使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤；和与使上述积液扩展到基板的整个表面的步骤并行进行，使与上述显影液喷嘴一起移动的接触部与上述积液接触的步骤，其中，上述接触部与上述基板相对的面比上述基板的表面小。根据该方法能够抑制落到基板外的液体量。另外，由于能够降低基板的转速，所以，能够抑制液体飞溅。并且，通过搅拌显影液，能够提高处理能力。
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公开(公告)号：CN105652610A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201510867084.3
申请日：2015-12-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30
Abstract: 本发明提供能确保显影处理的面内均匀性并提高显影处理的生产率的显影处理方法和显影处理装置。在显影处理方法中，在晶圆的中心部形成经纯水稀释后的稀释显影液的积液(时间t1)，之后，将晶圆加速到第1转速而使所述稀释显影液的积液扩散到晶圆的整个面，在该晶圆的表面上形成所述稀释显影液的液膜(时间t2)。之后，在具有与晶圆平行的液体接触面的显影液供给喷嘴与该晶圆之间确保规定间隔的间隙的状态下，自所述显影液供给喷嘴向晶圆的中心部供给显影液而在晶圆与该显影液供给喷嘴的液体接触面之间形成显影液的积液(时间t3)。一边继续自显影液供给喷嘴供给显影液一边使晶圆旋转，并使所述显影液供给喷嘴自晶圆的中心部向晶圆的外周部移动。
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公开(公告)号：CN117339808A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202310736663.9
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种液处理装置，其在基板上涂布涂布液，其中，液处理装置具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被基板保持部保持的基板涂布涂布液；以及杯，其包围被基板保持部保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下方延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；以及涂布液收集部，其设有供排气流穿过的多个开口部，在内杯部的壁体的下方，在与壁体的下端之间空开间隙地向下方延伸，液处理装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部。
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公开(公告)号：CN106409670B
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN201610597359.0
申请日：2016-07-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/302 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法以及基板处理装置的维护方法。在对晶圆进行加热处理时分解由于晶圆的处理而产生的升华物，从而抑制升华物附着于排气路径的情况。另外，在利用来自光源部的光对晶圆W进行加热等处理时将附着到透光窗的升华物去除。在处理容器的内表面形成热催化剂层，对该热催化剂层进行了加热。因此，在自晶圆上的涂敷膜升华而引入到处理容器内的升华物到达了热催化剂层的附近时，利用热催化剂层的热活性化从而升华物被分解去除。另外，在将附着到透光窗的升华物去除时，将在表面形成有热催化剂层的清洁用基板输入处理容器内，在将热催化剂层靠近了透光窗后，加热清洁用基板，从而将附着到透光窗的表面的升华物去除。
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