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公开(公告)号：CN114144733A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202080052545.0
申请日：2020-07-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30
Abstract: 本发明提供显影装置和显影方法，在对表面形成有已曝光的抗蚀剂膜的基片供给显影液进行显影时，能够提高在基片的面内的各部形成的抗蚀剂图案的尺寸的均匀性。该装置包括：形成从杯状体的外侧去往该杯状体内的气流的气流形成部；对基片的表面供给显影液来进行显影的显影液供给部；对进行了显影的基片的表面供给清洗液的清洗液供给部；以及用于限制在该基片的表面形成的气流的气流限制部件，其独立于显影液供给部和清洗液供给部设置，位于第一位置而限定地覆盖被供给了显影液的基片的一部分，设置有移动机构，在清洗液被供给到基片时使气流限制部件位于与第一位置相不同的第二位置，或者第一位置为杯状体的外侧的位置，即使在对基片供给清洗液时气流限制部件也位于该第一位置。
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公开(公告)号：CN117339808A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202310736663.9
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种液处理装置，其在基板上涂布涂布液，其中，液处理装置具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被基板保持部保持的基板涂布涂布液；以及杯，其包围被基板保持部保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下方延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；以及涂布液收集部，其设有供排气流穿过的多个开口部，在内杯部的壁体的下方，在与壁体的下端之间空开间隙地向下方延伸，液处理装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部。
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公开(公告)号：CN117339809A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202310737045.6
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被保持的基板涂布涂布液；和杯，其包围被保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；筒状壁部，其设于内杯部之下，具有与排气路径连通的向上开口的排气口；和涂布液收集部，其在内杯部的壁体之下在与壁体的下端之间空开间隙地配置，该装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部，涂布液收集部固定于筒状壁部。
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公开(公告)号：CN220496741U
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202321585992.X
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本实用新型涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被保持的基板涂布涂布液；和杯，其包围被保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；筒状壁部，其设于内杯部之下，具有与排气路径连通的向上开口的排气口；和涂布液收集部，其在内杯部的壁体之下在与壁体的下端之间空开间隙地配置，该装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部，涂布液收集部固定于筒状壁部。
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公开(公告)号：CN220496740U
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202321585260.0
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本实用新型涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种液处理装置，其在基板上涂布涂布液，其中，液处理装置具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被基板保持部保持的基板涂布涂布液；以及杯，其包围被基板保持部保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下方延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；以及涂布液收集部，其设有供排气流穿过的多个开口部，在内杯部的壁体的下方，在与壁体的下端之间空开间隙地向下方延伸，液处理装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部。
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