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公开(公告)号：CN113675110A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202110495346.3
申请日：2021-05-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/30
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。使基板处理装置的生产率提高。基板处理装置具备：基板出入部；第1群组的处理部，其对第1状态的基板进行一系列的处理；第2群组的处理部，其对第1状态的基板进行与由第1群组的处理部进行的一系列的处理同样的一系列的处理；第1输送部，其从基板出入部向第1群组的处理部输送第1状态的基板，并从第1群组的处理部向基板出入部输送利用第1群组的处理部而成为了第2状态的基板；以及第2输送部，其从基板出入部向第2群组的处理部输送第1状态的基板，并从第2群组的处理部向基板出入部输送利用第2群组的处理部而成为了第2状态的基板。
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公开(公告)号：CN117339808A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202310736663.9
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种液处理装置，其在基板上涂布涂布液，其中，液处理装置具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被基板保持部保持的基板涂布涂布液；以及杯，其包围被基板保持部保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下方延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；以及涂布液收集部，其设有供排气流穿过的多个开口部，在内杯部的壁体的下方，在与壁体的下端之间空开间隙地向下方延伸，液处理装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部。
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公开(公告)号：CN117339809A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202310737045.6
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被保持的基板涂布涂布液；和杯，其包围被保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；筒状壁部，其设于内杯部之下，具有与排气路径连通的向上开口的排气口；和涂布液收集部，其在内杯部的壁体之下在与壁体的下端之间空开间隙地配置，该装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部，涂布液收集部固定于筒状壁部。
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公开(公告)号：CN114509925A
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202111325339.5
申请日：2021-11-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供能够容易且简单地测量基片的处理中使用的处理液的释放量的基片处理系统、液量测量方法和计算机可读存储介质。基片处理系统包括：相对于载置台的载置部可拆装的测量单元；用于处理液的测量的测量治具；包含供给部的液处理单元，该供给部构成为能够对测量治具供给处理液；输送机构，其构成为能够在测量单元与液处理单元之间输送测量治具；和控制部。控制部执行以下处理：将测量单元内的测量治具从测量单元输送到液处理单元的处理；从供给部向测量治具释放处理液的处理；将测量治具从液处理单元输送到测量单元的处理；和基于测量单元中的测量值计算处理液的释放量的处理。
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公开(公告)号：CN113721424A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202110539836.9
申请日：2021-05-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/16
Abstract: 本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。提供一种能够针对基板处理装置减小占地面积的技术。对于包含处理模块的基板处理装置，该处理模块设有分别对基板进行液处理的多个液处理组件，其中，基板输送模块设于处理模块的左侧。基板输送模块具有：容器载置部，其供用于收纳多个基板的容器载置；第1输送机构，其相对于容器交接基板。另外，在处理模块设有沿左右方向延伸的基板的输送路径和在该输送路径移动而相对于液处理组件输送基板的第2输送机构。另外，为了在第1输送机构和第2输送机构之间交接基板而载置基板的交接部在处理模块设于相对于输送路径的前侧且是相对于液处理组件的左侧。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113655692A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202110517270.X
申请日：2021-05-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。提供能够针对该基板处理装置缩小占地面积的技术。对于包括设有分别对基板进行液处理的多个液处理组件的处理模块的基板处理装置，将基板输送模块设于处理模块的左侧。基板输送模块具备供用于收纳多个基板的容器载置的容器载置部和相对于容器交接基板的第1输送机构。另外，在处理模块设置沿左右延伸的基板的输送路径和在该输送路径上移动而向液处理组件输送基板的第2输送机构。而且，在处理模块以相对于所述输送路径向前方突出的方式设置第2处理组件，并且设置相对于该第2处理组件交接所述基板的第3输送机构。
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公开(公告)号：CN215576096U
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202121061660.2
申请日：2021-05-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/16
Abstract: 本实用新型涉及基板处理装置。提供一种能够针对基板处理装置减小占地面积的技术。对于包含处理模块的基板处理装置，该处理模块设有分别对基板进行液处理的多个液处理组件，其中，基板输送模块设于处理模块的左侧。基板输送模块具有：容器载置部，其供用于收纳多个基板的容器载置；第1输送机构，其相对于容器交接基板。另外，在处理模块设有沿左右方向延伸的基板的输送路径和在该输送路径移动而相对于液处理组件输送基板的第2输送机构。另外，为了在第1输送机构和第2输送机构之间交接基板而载置基板的交接部在处理模块设于相对于输送路径的前侧且是相对于液处理组件的左侧。
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公开(公告)号：CN215576095U
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202121008736.5
申请日：2021-05-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本实用新型提供一种基板处理装置。提供能够针对该基板处理装置缩小占地面积的技术。对于包括设有分别对基板进行液处理的多个液处理组件的处理模块的基板处理装置，将基板输送模块设于处理模块的左侧。基板输送模块具备供用于收纳多个基板的容器载置的容器载置部和相对于容器交接基板的第1输送机构。另外，在处理模块设置沿左右延伸的基板的输送路径和在该输送路径上移动而向液处理组件输送基板的第2输送机构。而且，在处理模块以相对于所述输送路径向前方突出的方式设置第2处理组件，并且设置相对于该第2处理组件交接所述基板的第3输送机构。
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公开(公告)号：CN220496741U
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202321585992.X
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本实用新型涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被保持的基板涂布涂布液；和杯，其包围被保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；筒状壁部，其设于内杯部之下，具有与排气路径连通的向上开口的排气口；和涂布液收集部，其在内杯部的壁体之下在与壁体的下端之间空开间隙地配置，该装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部，涂布液收集部固定于筒状壁部。
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公开(公告)号：CN220496740U
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202321585260.0
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本实用新型涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种液处理装置，其在基板上涂布涂布液，其中，液处理装置具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被基板保持部保持的基板涂布涂布液；以及杯，其包围被基板保持部保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下方延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；以及涂布液收集部，其设有供排气流穿过的多个开口部，在内杯部的壁体的下方，在与壁体的下端之间空开间隙地向下方延伸，液处理装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部。
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