-
公开(公告)号：CN109478501A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780045976.2
申请日：2017-06-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05B7/16 , B05B7/04 , B05D1/02 , B05D3/02
Abstract: 涂敷膜形成方法包括：对包括基片(W1)和设置于基片(W1)的表面的凸部(W2)的被处理体(W)进行加热的第一工序；加热涂敷液来得到加热液体的第二工序；和将加热液体以液滴的状态从喷嘴(N)喷洒到第一工序中加热后的被处理体(W)的表面的第三工序。
-
公开(公告)号：CN108695212B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN201810319692.4
申请日：2018-04-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置。该基片处理装置的液处理单元(U1)包括：保持晶片(W)的旋转卡盘(61)；使旋转卡盘(61)旋转的旋转驱动部(64)；对由旋转驱动部(64)的驱动而旋转的旋转卡盘(61)所保持的晶片(W)供给涂敷液的涂敷液供给喷嘴(62)；回收从晶片(W)的与被供给涂敷液的面(表面(W1))相反一侧的面即背面(W2)落下的涂敷液的杯体基座(65)；和配置在背面(W2)与杯体基座(65)之间，用于收集由于对旋转的晶片W供给涂敷液而产生的线状物的收集板(30)。由此，能够抑制在对旋转的基片供给处理液时产生的线状物堆积在回收部。
-
公开(公告)号：CN108695212A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810319692.4
申请日：2018-04-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种基片处理装置。该基片处理装置的液处理单元(U1)包括：保持晶片(W)的旋转卡盘(61)；使旋转卡盘(61)旋转的旋转驱动部(64)；对由旋转驱动部(64)的驱动而旋转的旋转卡盘(61)所保持的晶片(W)供给涂敷液的涂敷液供给喷嘴(62)；回收从晶片(W)的与被供给涂敷液的面(表面(W1))相反一侧的面即背面(W2)落下的涂敷液的杯体基座(65)；和配置在背面(W2)与杯体基座(65)之间，用于收集由于对旋转的晶片W供给涂敷液而产生的线状物的收集板(30)。由此，能够抑制在对旋转的基片供给处理液时产生的线状物堆积在回收部。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117339808A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202310736663.9
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种液处理装置，其在基板上涂布涂布液，其中，液处理装置具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被基板保持部保持的基板涂布涂布液；以及杯，其包围被基板保持部保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下方延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；以及涂布液收集部，其设有供排气流穿过的多个开口部，在内杯部的壁体的下方，在与壁体的下端之间空开间隙地向下方延伸，液处理装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部。
-
公开(公告)号：CN117339809A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202310737045.6
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被保持的基板涂布涂布液；和杯，其包围被保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；筒状壁部，其设于内杯部之下，具有与排气路径连通的向上开口的排气口；和涂布液收集部，其在内杯部的壁体之下在与壁体的下端之间空开间隙地配置，该装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部，涂布液收集部固定于筒状壁部。
-
公开(公告)号：CN109478501B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN201780045976.2
申请日：2017-06-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05B7/16 , B05B7/04 , B05D1/02 , B05D3/02
Abstract: 涂敷膜形成方法包括：对包括基片(W1)和设置于基片(W1)的表面的凸部(W2)的被处理体(W)进行加热的第一工序；加热涂敷液来得到加热液体的第二工序；和将加热液体以液滴的状态从喷嘴(N)喷洒到第一工序中加热后的被处理体(W)的表面的第三工序。
-
公开(公告)号：CN220496741U
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202321585992.X
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本实用新型涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种在基板上涂布涂布液的液处理装置，其具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被保持的基板涂布涂布液；和杯，其包围被保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；筒状壁部，其设于内杯部之下，具有与排气路径连通的向上开口的排气口；和涂布液收集部，其在内杯部的壁体之下在与壁体的下端之间空开间隙地配置，该装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部，涂布液收集部固定于筒状壁部。
-
公开(公告)号：CN220496740U
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202321585260.0
申请日：2023-06-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本实用新型涉及液处理装置。抑制由基板的旋转涂布处理时产生的异物导致的排气路径的堵塞。一种液处理装置，其在基板上涂布涂布液，其中，液处理装置具备：基板保持部，其保持基板并使之旋转；涂布液供给部，其向被基板保持部保持的基板涂布涂布液；以及杯，其包围被基板保持部保持的基板，杯具有：外杯部，其配置于基板保持部的外侧；内杯部，其配置于外杯部的内周侧且是基板保持部的下方，具有向下方延伸的壁体；排气路径，其设于外杯部与内杯部之间；以及涂布液收集部，其设有供排气流穿过的多个开口部，在内杯部的壁体的下方，在与壁体的下端之间空开间隙地向下方延伸，液处理装置具备向涂布液收集部供给涂布液的溶剂的溶剂供给部。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.02 seconds)
