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公开(公告)号：CN1519955B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200410039503.6
申请日：2004-02-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L21/00 , H01L21/336 , G02F1/136
CPC classification number: G02F1/136227 , G02F2001/136236 , G03F1/00
Abstract: 沉积钝化层并形成光致抗蚀剂。该光致抗蚀剂包括厚度逐渐变小的第一至第三部分，第二部分位于漏极及一部分数据线之上，第三部分位于一部分数据线之上。形成这种光致抗蚀剂的掩膜置于第二部分对应的区域，具有宽度和间距约0.8-2.0μm的多个直线形狭缝。钝化层和其下的半导体层与光致抗蚀剂一同蚀刻，以露出第三部分下面栅极绝缘层部分和第二部分下面钝化层。除去钝化层和栅极绝缘层露出部分，同时露出漏极和栅极线及数据线和一部分半导体层，再除去露出的半导体层部分。
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公开(公告)号：CN1243285C
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN02802928.3
申请日：2002-03-04
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , G09F9/30 , G02F1/133 , H01L21/027
CPC classification number: G03F9/7084 , G02F2001/13625 , G03F1/50 , G03F7/70475 , G03F7/70791
Abstract: 一种用于利用基板制造液晶显示器的掩模，包括具有中心线的位于基板中心的第一掩模图形，以对基板中心进行曝光。第二掩模图形位于第一掩模图形左侧，以对基板左侧进行曝光。该第二掩模图形与第一掩模图形相距第一距离。第三掩模图形位于第一掩模图形右侧，以对基板右侧进行曝光。第三掩模图形与第一掩模图形相距第二距离。
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公开(公告)号：CN1623118A
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：CN02807592.7
申请日：2002-09-18
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/1362 , G02F2001/13625
Abstract: 在一种利用对一个衬底分区曝光制造液晶显示器的方法中，在相邻拍摄区之间的边界处设置一个重叠区，并且分别以拍摄区的面积逐渐减小和增大的方式对边界左侧和右侧拍摄区曝光，从而减小两个拍摄区之间由于压合误差所致的亮度差。例如，当沿压合区的横向向右行进时分配给左侧的单元压合区的数量逐渐减少，而分配给右侧的单元压合区的数量逐渐增多。一个单元压合区包括一个通过将一个像素划分成至少两部分所获得的一个区域。
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公开(公告)号：CN1291280C
公开(公告)日：2006-12-20
申请号：CN02807476.9
申请日：2002-03-05
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/20 , G02F1/1362
CPC classification number: G03F7/0007 , G02F1/1362 , G02F2001/13625 , G03F7/0035 , Y10S438/946
Abstract: 本发明涉及一种在衬底上形成图案的方法以及利用该方法制作液晶显示板的方法。为了减少压合缺陷，各个图案层的拍摄区边界线彼此不重叠以分散。具体地说，根据本发明形成图案的方法，在首先形成第一材料层之后，通过在第一材料层上执行第一光蚀刻形成第一图案，其中第一光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个区域进行分区曝光。随后，在第一图案上形成第二材料层之后，通过在第二材料层上执行第二光蚀刻形成一个第二图案，其中第二光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个拍摄区进行分区曝光，在第二光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线与第一光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线隔开。通过利用此形成方法制作一种液晶显示板。
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公开(公告)号：CN1519955A
公开(公告)日：2004-08-11
申请号：CN200410039503.6
申请日：2004-02-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L21/00 , H01L21/336 , G02F1/136
CPC classification number: G02F1/136227 , G02F2001/136236 , G03F1/00
Abstract: 沉积钝化层并形成光致抗蚀剂。该光致抗蚀剂包括厚度逐渐变小的第一至第三部分，第二部分位于漏极及一部分数据线之上，第三部分位于一部分数据线之上。形成这种光致抗蚀剂的掩膜置于第二部分对应的区域，具有宽度和间距约0.8－2.0μm的多个直线形狭缝。钝化层和其下的半导体层与光致抗蚀剂一同蚀刻，以露出第三部分下面栅极绝缘层部分和第二部分下面钝化层。除去钝化层和栅极绝缘层露出部分，同时露出漏极和栅极线及数据线和一部分半导体层，再除去露出的半导体层部分。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1255740A
公开(公告)日：2000-06-07
申请号：CN99125805.3
申请日：1999-11-26
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/30 , H01L21/027 , G02F1/13 , G02F1/136
CPC classification number: H01L27/1288 , G02F1/13458 , G02F1/136204 , G02F1/136227 , G02F2001/136236 , H01L27/1214
Abstract: 一种供液晶显示器用薄膜晶体管阵列面板及其制造方法,该制造方法包括步骤:形成栅线路;形成栅绝缘膜图案;形成半导体层图案;形成欧姆接触层图案;形成数据线路;形成钝化层图案;和形成与漏极电极相连接的多个像素极,其中,栅绝缘膜图案,是按不同位置使用不同厚度的光致抗蚀层图案,通过一步光刻工艺,随着半导体层图案、欧姆接触层图案、数据线路、钝化层图案和所述像素极中的至少一个形成的。
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公开(公告)号：CN101655643A
公开(公告)日：2010-02-24
申请号：CN200910164010.8
申请日：2004-02-03
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1362 , G03F1/14 , H01L21/84
Abstract: 本发明涉及一种薄膜晶体管阵列面板的制造方法。该方法包括：在绝缘基板上形成栅极线；形成栅极绝缘层；形成半导体；形成包括数据线及漏极的数据导电层；形成钝化层，该钝化层具有露出漏极的一部分及邻接在漏极边界线的栅极绝缘层的上表面的一部分的接触孔；以及形成通过接触孔与漏极连接的像素电极，其中，像素电极通过钝化层中的接触孔与漏极的上表面以及邻接在漏极边界线的栅极绝缘层的上表面的一部分相接触。根据本发明，防止在接触部露出布线边界时，布线下部发生下切，可以缓慢确保接触部的侧面。通过它可以防止在接触部发生断线，可以稳定安装驱动集成电路，因此，可以确保接触部的可靠性。
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公开(公告)号：CN100357831C
公开(公告)日：2007-12-26
申请号：CN02807592.7
申请日：2002-09-18
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/22
CPC classification number: G02F1/1362 , G02F2001/13625
Abstract: 在一种利用对一个衬底分区曝光制造液晶显示器的方法中，在相邻拍摄区之间的边界处设置一个重叠区，并且分别以拍摄区的面积逐渐减小和增大的方式对边界左侧和右侧拍摄区曝光，从而减小两个拍摄区之间由于压合误差所致的亮度差。例如，当沿压合区的横向向右行进时分配给左侧的单元压合区的数量逐渐减少，而分配给右侧的单元压合区的数量逐渐增多。一个单元压合区包括一个通过将一个像素划分成至少两部分所获得的一个区域。
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公开(公告)号：CN1524202A
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：CN02802928.3
申请日：2002-03-04
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , G09F9/30 , G02F1/133 , H01L21/027
CPC classification number: G03F9/7084 , G02F2001/13625 , G03F1/50 , G03F7/70475 , G03F7/70791
Abstract: 一种用于利用基板制造液晶显示器的掩模，包括具有中心线的位于基板中心的第一掩模图形，以对基板中心进行曝光。第二掩模图形位于第一掩模图形左侧，以对基板左侧进行曝光。该第二掩模图形与第一掩模图形相距第一距离。第三掩模图形位于第一掩模图形右侧，以对基板右侧进行曝光。第三掩模图形与第一掩模图形相距第二距离。
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公开(公告)号：CN1139837C
公开(公告)日：2004-02-25
申请号：CN99120542.1
申请日：1999-09-29
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02F1/13458 , G02F1/1362 , G02F1/136227 , G02F2001/136236 , H01L27/12 , H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L29/41733 , H01L29/458 , Y10S438/942 , Y10S438/947 , Y10S438/949
Abstract: 一种液晶显示器用薄膜晶体管阵列基板的制造方法，包括：通过第一光刻工艺，在绝缘基板上形成栅极布线；通过第二光刻工艺，在栅极布线及基板上，形成包括栅绝缘层、半导体层、接触层及数据导体层的四重层；通过第三光刻工艺，在数据导体层上形成导电图案；对没有被导电图案覆盖的数据导体层蚀刻，从而形成数据布线；对没有被数据布线覆盖的接触层蚀刻；和通过第四光刻工艺，在导电图案上形成钝化层图案的步骤。
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