-
公开(公告)号：CN1524202A
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：CN02802928.3
申请日：2002-03-04
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , G09F9/30 , G02F1/133 , H01L21/027
CPC classification number: G03F9/7084 , G02F2001/13625 , G03F1/50 , G03F7/70475 , G03F7/70791
Abstract: 一种用于利用基板制造液晶显示器的掩模，包括具有中心线的位于基板中心的第一掩模图形，以对基板中心进行曝光。第二掩模图形位于第一掩模图形左侧，以对基板左侧进行曝光。该第二掩模图形与第一掩模图形相距第一距离。第三掩模图形位于第一掩模图形右侧，以对基板右侧进行曝光。第三掩模图形与第一掩模图形相距第二距离。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1243285C
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN02802928.3
申请日：2002-03-04
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , G09F9/30 , G02F1/133 , H01L21/027
CPC classification number: G03F9/7084 , G02F2001/13625 , G03F1/50 , G03F7/70475 , G03F7/70791
Abstract: 一种用于利用基板制造液晶显示器的掩模，包括具有中心线的位于基板中心的第一掩模图形，以对基板中心进行曝光。第二掩模图形位于第一掩模图形左侧，以对基板左侧进行曝光。该第二掩模图形与第一掩模图形相距第一距离。第三掩模图形位于第一掩模图形右侧，以对基板右侧进行曝光。第三掩模图形与第一掩模图形相距第二距离。
-
公开(公告)号：CN1500227A
公开(公告)日：2004-05-26
申请号：CN02807476.9
申请日：2002-03-05
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1333
CPC classification number: G03F7/0007 , G02F1/1362 , G02F2001/13625 , G03F7/0035 , Y10S438/946
Abstract: 本发明涉及一种在衬底上形成图案的方法以及利用该方法制作液晶显示板的方法。为了减少压合缺陷，各个图案层的拍摄区边界线彼此不重叠以分散。具体地说，根据本发明形成图案的方法，在首先形成第一材料层之后，通过在第一材料层上执行第一光蚀刻形成第一图案，其中第一光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个区域进行分区曝光。随后，在第一图案上形成第二材料层之后，通过在第二材料层上执行第二光蚀刻形成一个第二图案，其中第二光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个拍摄区进行分区曝光，在第二光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线与第一光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线隔开。通过利用此形成方法制作一种液晶显示板。
-
公开(公告)号：CN1183570A
公开(公告)日：1998-06-03
申请号：CN97122912.0
申请日：1997-11-25
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/133345 , G02F1/136209 , G02F1/136213 , G02F1/136227 , G02F1/1368 , G02F2001/133357 , H01L27/3265
Abstract: 通过在基片上涂可流动的绝缘材料形成一钝化层,薄膜晶体管和存储电容器电极以及像素电极形成于钝化层上。使用像素电极作为掩模刻蚀钝化层的一部分,在薄膜晶体管上形成沟槽,接着,通过在沟槽中填充一种有机黑色光致抗蚀剂形成黑色基体。为增大存储电容,去除钝化层的一部分或者在存储电容器电极上形成一金属图案。一种可流动的绝缘材料用作栅绝缘层以使基片表面平面化。在刻蚀阻挡层型薄膜晶体管中,使用一种感光材料作为刻蚀阻挡层以减小栅电极和漏极间的寄生电容。
-
公开(公告)号：CN1291280C
公开(公告)日：2006-12-20
申请号：CN02807476.9
申请日：2002-03-05
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/20 , G02F1/1362
CPC classification number: G03F7/0007 , G02F1/1362 , G02F2001/13625 , G03F7/0035 , Y10S438/946
Abstract: 本发明涉及一种在衬底上形成图案的方法以及利用该方法制作液晶显示板的方法。为了减少压合缺陷，各个图案层的拍摄区边界线彼此不重叠以分散。具体地说，根据本发明形成图案的方法，在首先形成第一材料层之后，通过在第一材料层上执行第一光蚀刻形成第一图案，其中第一光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个区域进行分区曝光。随后，在第一图案上形成第二材料层之后，通过在第二材料层上执行第二光蚀刻形成一个第二图案，其中第二光蚀刻包括对在至少一个拍摄区边界线两侧的至少两个拍摄区进行分区曝光，在第二光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线与第一光蚀刻中的至少一个拍摄区边界线隔开。通过利用此形成方法制作一种液晶显示板。
-
公开(公告)号：CN1148600C
公开(公告)日：2004-05-05
申请号：CN97122912.0
申请日：1997-11-25
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/133345 , G02F1/136209 , G02F1/136213 , G02F1/136227 , G02F1/1368 , G02F2001/133357 , H01L27/3265
Abstract: 本发明公开了一种薄膜晶体管基片及其制造方法。其中，通过在基片上涂可流动的绝缘材料形成一钝化层，薄膜晶体管和存储电容器电极以及像素电极形成于钝化层上。使用像素电极作为掩模刻蚀钝化层的一部分，在薄膜晶体管上形成沟槽，接着，通过在沟槽中填充一种有机黑色光致抗蚀剂形成黑色基体。为增大存储电容，去除钝化层的一部分或者在存储电容器电极上形成一金属图案。一种可流动的绝缘材料用作栅绝缘层以使基片表面平面化。在刻蚀阻挡层型薄膜晶体管中，使用一种感光材料作为刻蚀阻挡层以减小栅电极和漏极间的寄生电容。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.017 seconds)
