半导体发光装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118448547A

    公开(公告)日:2024-08-06

    申请号:CN202410126584.0

    申请日:2024-01-30

    Abstract: 一种半导体发光装置包括:第一导电类型半导体层;第二导电类型半导体层,其布置在第一导电类型半导体层上;有源层;电极层,其形成在第二导电类型半导体层的顶表面上;反射层,其形成在电极层的顶表面的一部分上;接合焊盘,其形成在反射层的顶表面上;绝缘层,其形成在电极层的顶表面的另一部分上;以及绝缘间隔件,其沿着衬底的表面共形地形成。反射层包括不被水溶液蚀刻的材料,水溶液包括四甲基氢氧化铵(TMAH)、KOH、NaOH和NH4OH中的一种,并且接合焊盘具有外壳形状,该外壳形状包括其宽度随着其远离反射层而逐渐减小的部分。

    制造氮化物半导体发光器件的方法以及由此制造出的氮化物半导体发光器件

    公开(公告)号:CN103797591A

    公开(公告)日:2014-05-14

    申请号:CN201180073488.5

    申请日:2011-08-17

    CPC classification number: H01L33/405 H01L33/44 H01L2933/0016

    Abstract: 根据本发明的一个方面,提供了用于制造氮化物半导体发光器件的方法和通过该方法制造的氮化物半导体发光器件。所述用于制造氮化物半导体发光器件的方法包括步骤:在衬底上形成第一和第二导电类型氮化物半导体层以形成在第一与第二导电类型氮化物半导体层之间包括有源层的发光结构;顺序地形成第一导电类型氮化物半导体层、有源层和第二导电类型氮化物半导体层;形成连接到第一导电类型氮化物半导体层的第一电极;在第二导电类型氮化物半导体层上形成光致抗蚀剂膜以暴露第二导电类型氮化物半导体层的一部分;以及在被光致抗蚀剂膜暴露的第二导电类型氮化物半导体层上顺序地形成用作第二电极的反射金属层和阻挡层之后去除光致抗蚀剂膜。

    半导体发光装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109585634B

    公开(公告)日:2023-11-03

    申请号:CN201810834091.7

    申请日:2018-07-26

    Abstract: 一种半导体发光装置包括:发光结构,其包括沿着第一方向在衬底上按次序堆叠的第一导电类型的半导体层、有源层和第二导电类型的半导体层,并且包括暴露出第一导电类型的半导体层的暴露区。第一接触电极在暴露区中,第二接触电极在第二导电类型的半导体层上,并且绝缘层覆盖发光结构。分离的电极焊盘穿过绝缘层以电连接至第一接触电极和第二接触电极。第一电极焊盘和第二电极焊盘中的至少一个的侧表面可延伸以沿着第一方向与衬底的侧表面共面。

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