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公开(公告)号：CN116018558A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202180046897.X
申请日：2021-06-02
Applicant: 三亚普罗股份有限公司 , 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明采用含有含环氧基树脂与阳离子聚合引发剂的负型感光性树脂组合物，包含以下述通式(I0)表示的锍盐。式(I0)中，R1及R2表示芳基、杂环式烃基或烷基。R3～R5为烷基、羟基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、酰氧基、芳硫基、烷硫基、芳基、杂环式烃基、芳氧基、羟基(聚)亚烷氧基或卤素原子。k为0～4的整数，m为0～3的整数，n为1～4的整数。A是以‑S‑、‑O‑、‑SO‑、‑SO2‑或‑CO‑表示的基团。X‑表示一价的多原子阴离子。
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公开(公告)号：CN1698016A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200480000692.4
申请日：2004-05-19
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/12 , Y10S430/122
Abstract: 本发明提供了一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，它具有极好的以抗蚀剂溶液形式在瓶中储存的稳定性。酚醛清漆树脂或羟基苯乙烯树脂与交联剂反应给出微溶于碱或不溶于碱的树脂，它具有在酸存在下可提高其在碱性水溶液中溶解度的这种特性，然后这种树脂溶于有机溶剂，与(B)在射线照射下产生酸的一种化合物一起得到化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，其中酸性成分的含量为10ppm或10ppm以下。
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公开(公告)号：CN102964837A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201210308808.7
申请日：2012-08-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供能够对经高温烧成而形成的透明膜赋予良好的抗裂性和透明性的技术。一种透明膜用组合物，所述透明膜经500℃以上的高温烧成而形成，所述组合物含有将下述通式(1)表示的第1烷氧基硅烷和下述通式(2)表示的第2烷氧基硅烷作为起始原料的缩合生成物(A)、和有机溶剂(B)，直接键与缩合生成物(A)中的硅原子键和的甲基相对于缩合生成物(A)的含量为15～25％。(CH3)nSi(OR1)4-n (1)[通式(1)中，R1是碳原子数1～5的烷基。n是1或2的整数。多个(OR1)可以相同、也可以不同。]Si(OR2)4 (2)[通式(2)中，R2是碳原子数1～5的烷基。多个(OR2)可以相同、也可以不同]。
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公开(公告)号：CN102964837B
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201210308808.7
申请日：2012-08-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供能够对经高温烧成而形成的透明膜赋予良好的抗裂性和透明性的技术。一种透明膜用组合物，所述透明膜经500℃以上的高温烧成而形成，所述组合物含有将下述通式(1)表示的第1烷氧基硅烷和下述通式(2)表示的第2烷氧基硅烷作为起始原料的缩合生成物(A)、和有机溶剂(B)，直接键与缩合生成物(A)中的硅原子键和的甲基相对于缩合生成物(A)的含量为15～25％。(CH3)nSi(OR1)4‑n (1)[通式(1)中，R1是碳原子数1～5的烷基。n是1或2的整数。多个(OR1)可以相同、也可以不同。]Si(OR2)4 (2)[通式(2)中，R2是碳原子数1～5的烷基。多个(OR2)可以相同、也可以不同]。
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公开(公告)号：CN100545753C
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200480000888.3
申请日：2004-05-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039
Abstract: 提供一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法，所述组合物具有高灵敏度、高耐热性和高分辨率(高对比度)并能够抑制波动现象。制备包括含有羟基苯乙烯构成单元(a1)和苯乙烯构成单元(a2)的碱溶树脂(A)、交联剂(B)、光酸生成剂(C)和有机溶剂的化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，并且使用该组合物形成抗蚀剂图案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1277157C
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：CN02824026.X
申请日：2002-12-02
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 三星电子株式会社
IPC: G03F7/40 , G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/027 , G03F7/40 , H01L21/0273
Abstract: 一种用于形成精细抗蚀图形的方法，其中在基体上提供的一种图形化正性光致抗蚀膜通过热流处理降低尺寸，其特征在于，(I)正性抗蚀剂是一种正性抗蚀剂组合物，它包括(A)一种可通过与酸反应而增加其在碱性水溶液中的溶解度的树脂成分，(B)一种在射线照射下能产生酸的化合物，(C)一种其每分子中具有至少二个在加热时能与树脂成分(A)反应形成交联的乙烯醚基团的化合物，和(D)有机胺化合物，以及要这样进行热流处理，其中对图形化抗蚀剂的热处理至少在100-200℃温度范围内进行二次，并且第二次后的加热温度不低于前一次的加热温度。方法可以使每单位温度的抗蚀图形尺寸的变化降低以导致改善所得抗蚀穿孔图形尺寸在平面内的均匀性并且形成横截面形状良好的抗蚀图形。
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公开(公告)号：CN114675492A
公开(公告)日：2022-06-28
申请号：CN202111269347.2
申请日：2021-10-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种在图案形成中难以产生底切的负型感光性树脂组合物以及图案形成方法。采用含有含环氧基化合物、光阳离子聚合引发剂、具有以通式(ahs1)表示的结构单元的树脂的负型感光性树脂组合物。含环氧基化合物包含酚醛清漆型环氧树脂。光阳离子聚合引发剂包含鎓硼酸盐。通式(ahs1)中，R为氢原子、碳原子数为1～5的烷基或者碳原子数为1～5的卤代烷基。YaX1为单键或者2价的连接基团。Wax1为可具有取代基的芳香族烃基。nax1为1以上的整数。[化1]
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公开(公告)号：CN107230613A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201710183294.X
申请日：2017-03-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: H01L21/20 , H01L23/14 , C09D163/00 , C09D163/02 , C09D183/06 , C09D133/14 , C09D5/08 , C09D7/12
CPC classification number: H01L21/2007 , C09D5/08 , C09D133/14 , C09D163/00 , C09D183/06 , H01L23/145
Abstract: 本发明提供一种可通过涂布而顺利地形成耐化学药品性高的分离层的新型分离层形成用组合物。所述分离层形成用组合物用于形成层合体中的分离层，所述层合体是介由粘接层和通过照射光而改性的所述分离层、将基板和透光的支撑体进行层合而形成的，所述分离层形成用组合物含有聚合性树脂成分及聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN1701280A
公开(公告)日：2005-11-23
申请号：CN200480000888.3
申请日：2004-05-20
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039
Abstract: 提供一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法，所述组合物具有高灵敏度、高耐热性和高分辨率(高对比度)并能够抑制波动现象。制备包括含有羟基苯乙烯构成单元(a1)和苯乙烯构成单元(a2)的碱溶树脂(A)、交联剂(B)、光酸生成剂(C)和有机溶剂的化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，并且使用该组合物形成抗蚀剂图案。
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公开(公告)号：CN1599887A
公开(公告)日：2005-03-23
申请号：CN02824026.X
申请日：2002-12-02
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 三星电子株式会社
IPC: G03F7/40 , G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0045 , G03F7/027 , G03F7/40 , H01L21/0273
Abstract: 一种用于形成精细抗蚀图形的方法，其中在基体上提供的一种图形化正性光致抗蚀膜通过热流处理降低尺寸，其特征在于，(I)正性抗蚀剂是一种正性抗蚀剂组合物，它包括(A)一种可通过与酸反应而增加其在碱性水溶液中的溶解度的树脂成分，(B)一种在射线照射下能产生酸的化合物，(C)一种其每分子中具有至少二个在加热时能与树脂成分(A)反应形成交联的乙烯醚基团的化合物，和(D)有机胺化合物，以及要这样进行热流处理，其中对图形化抗蚀剂的热处理至少在100－200℃温度范围内进行二次，并且第二次后的加热温度不低于前一次的加热温度。方法可以使每单位温度的抗蚀图形尺寸的变化降低以导致改善所得抗蚀穿孔图形尺寸在平面内的均匀性并且形成横截面形状良好的抗蚀图形。
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