公开(公告)号：CN101185033A

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：CN200680018671.4

申请日：2006-07-14

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 中山一彦 ,  秀坂慎一

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/16 ,  C11D7/26 ,  C11D7/60 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: C11D11/0041 ,  C11D7/5022 ,  G03F7/422

Abstract: 本发明涉及一种光刻用清洗液，其用于通过光刻技术制造抗蚀图案时，将设置于基板上的抗蚀膜的不需要部分或残留于光致抗蚀剂供应装置中的光致抗蚀剂洗净并去除。作为该清洗液，要求其使用可将不需要的抗蚀剂完全溶解去除后能够迅速干燥的溶剂，并对处理后的抗蚀膜不会产生不良影响，故其成分取决于所使用的抗蚀剂的种类。但是，目前为止尚未知晓对于以丙烯酸系聚合物作为成分的ArF准分子激光用光致抗蚀剂有效的清洗液。本发明提供一种光刻用清洗液，其包含单独的烷氧基羧酸烷基酯，或其与烷氧基苯的混合溶剂，该清洗液可有效去除ArF准分子激光用光致抗蚀剂。

公开(公告)号：CN101408728A

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200810212866.3

申请日：2008-09-10

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 川上晃也 ,  岩井武 ,  羽田英夫 ,  秀坂慎一 ,  黑泽刚志 ,  圆山夏子 ,  松泽贤介 ,  濑下武广 ,  清水宏明 ,  中村刚

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/00 ,  C07D493/18 ,  C08L33/14 ,  C08K5/42

Abstract: 本发明涉及含有能用作产酸剂的新型化合物的抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、所述化合物、能用作所述化合物的前体的化合物及其制造方法。其中，涉及式(I)表示的化合物以及式(b1－1)表示的化合物[式中，X是－O－、－S－、－O－R3－或－S－R4－，R3和R4分别独立地是碳原子数为1～5的亚烷基；R2是碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为1～6的烷氧基、碳原子数为1～6的卤代烷基、卤原子、碳原子数为1～6的羟烷基、羟基或氰基；a是0～2的整数；Q1是碳原子数为1～12的亚烷基或单键；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；M+是碱金属离子；A+是有机阳离子。

公开(公告)号：CN100545753C

公开(公告)日：2009-09-30

申请号：CN200480000888.3

申请日：2004-05-20

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 中川裕介 ,  秀坂慎一 ,  丸山健治 ,  嶋谷聪 ,  增岛正宏 ,  新田和行

IPC: G03F7/039

Abstract: 提供一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法，所述组合物具有高灵敏度、高耐热性和高分辨率(高对比度)并能够抑制波动现象。制备包括含有羟基苯乙烯构成单元(a1)和苯乙烯构成单元(a2)的碱溶树脂(A)、交联剂(B)、光酸生成剂(C)和有机溶剂的化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，并且使用该组合物形成抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN101408728B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN200810212866.3

申请日：2008-09-10

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 川上晃也 ,  岩井武 ,  羽田英夫 ,  秀坂慎一 ,  黑泽刚志 ,  圆山夏子 ,  松泽贤介 ,  濑下武广 ,  清水宏明 ,  中村刚

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/00 ,  C07D493/18 ,  C08L33/14 ,  C08K5/42

Abstract: 本发明涉及含有能用作产酸剂的新型化合物的抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、所述化合物、能用作所述化合物的前体的化合物及其制造方法。其中，涉及式(I)表示的化合物以及式(b1-1)表示的化合物式，其中，X是-O-、-S-、-O-R3-或-S-R4-，R3和R4分别独立地是碳原子数为1～5的亚烷基；R2是碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为1～6的烷氧基、碳原子数为1～6的卤代烷基、卤原子、碳原子数为1～6的羟烷基、羟基或氰基；a是0～2的整数；Q1是碳原子数为1～12的亚烷基或单键；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；M+是碱金属离子；A+是有机阳离子。

公开(公告)号：CN1701280A

公开(公告)日：2005-11-23

申请号：CN200480000888.3

申请日：2004-05-20

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 中川裕介 ,  秀坂慎一 ,  丸山健治 ,  嶋谷聪 ,  增岛正宏 ,  新田和行

IPC: G03F7/039

Abstract: 提供一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法，所述组合物具有高灵敏度、高耐热性和高分辨率(高对比度)并能够抑制波动现象。制备包括含有羟基苯乙烯构成单元(a1)和苯乙烯构成单元(a2)的碱溶树脂(A)、交联剂(B)、光酸生成剂(C)和有机溶剂的化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，并且使用该组合物形成抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN1573551A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410045733.3

申请日：2004-05-24

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 秀坂慎一 ,  栗原政树 ,  中川裕介 ,  馆俊聪

IPC: G03F7/039

Abstract: 一种系统LCD用化学增幅型正型抗蚀剂组合物，其特征在于含有以下成分：是(A1)碱溶性酚醛清漆树脂和(B)上述通式(I)所示的化合物的反应生成物、并且具有在酸存在下对碱性水溶液的溶解性增大的性质的(A)碱难溶性或不溶性的酚醛清漆树脂、和(C)经放射线的照射产生酸成分的化合物、和有机溶剂。[式中，R1表示可以含有取代基的碳原子数1～10的亚烷基、或上述通式(II)表示的基团中的任一个(式中，R4表示可以含有取代基的碳原子数1～10的亚烷基，m表示0或1)]。本发明提供在不使感度下降的条件下能够达到用于制造一个基板上形成集成电路和液晶显示部分的系统LCD时所要求的高耐热性的光致抗蚀剂组合物。