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公开(公告)号：CN1680875B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200510064839.2
申请日：2005-04-06
申请人： 东京应化工业株式会社
摘要： 本发明涉及一种化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于：其含有树脂成分(A)和通过放射线的照射产生酸成分的化合物(C)以及有机溶剂，通过由前述(C)成分所产生的酸成分的作用，该组合物具有对碱性水溶液溶解性增大的性质，其中前述(A)成分含有下述酚醛清漆树脂(a1)的所有酚性羟基中的一部分通过酸解离性溶解抑制基保护而形成的碱难溶性或不溶性树脂成分，所述酚醛清漆树脂(a1)是通过使芳香族羟基化合物与至少含有甲醛和羟基取代芳香醛的醛类缩合反应而得到的酚醛清漆树脂。
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公开(公告)号：CN101297010A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200680039580.9
申请日：2006-10-23
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： C09J133/06 , C09J7/02 , B24B37/04 , H01L21/301 , H01L21/304
CPC分类号： C09J133/06 , B24B37/30 , B24B37/34 , C09J7/385 , C09J133/08 , C09J133/10 , C09J2203/326 , H01L21/67132 , H01L21/6835 , H01L21/6836 , H01L2221/68327 , H01L2221/6834 , Y10T428/2861 , Y10T428/2891 , Y10T428/31935
摘要： 本发明提供一种粘接剂组合物以及包含此粘接剂组合物的粘接薄膜，所述粘接剂组合物，加热时所产生的气体少(吸湿性低)，耐碱性也高，具有200℃以上的耐热性，并且容易利用剥离液进行剥离。本发明制备一种至少以丙烯酸类聚合物作为主成分的粘接剂组合物，所述丙烯酸类聚合物包含(a)苯乙烯、(b)含环状骨架的(甲基)丙烯酸酯单体以及(c)(甲基)丙烯酸烷基酯单体。另外，利用所述粘接剂组合物来形成粘接薄膜的粘接剂组合物层。
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公开(公告)号：CN1690856A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200510067313.X
申请日：2005-04-18
申请人： 东京应化工业株式会社
摘要： 本发明提供高温加热处理时抗蚀剂图案形状不变形，升华物的产生也少，耐热性优异的光致抗蚀剂组合物。所述化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物，含有(A)树脂成分、(C)通过放射线的照射产生酸成分的化合物、和有机溶剂，具有通过由所述(C)成分产生的酸成分的作用，对于碱水溶液的溶解性增大的性质，其中，所述(A)成分含有树脂成分(a1)，树脂成分(a1)是用酸解离性溶解抑制基将碱可溶性酚醛清漆树脂的全部酚性羟基的一部分保护，对形成的碱难溶性或不溶性的树脂实施将低分子量体分离去除的处理而得到的。
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公开(公告)号：CN1680875A
公开(公告)日：2005-10-12
申请号：CN200510064839.2
申请日：2005-04-06
申请人： 东京应化工业株式会社
摘要： 本发明涉及一种化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物，其特征在于：其含有树脂成分(A)和通过放射线的照射产生酸成分的化合物(C)以及有机溶剂，通过由前述(C)成分所产生的酸成分的作用，该组合物具有对碱性水溶液溶解性增大的性质，其中前述(A)成分含有下述酚醛清漆树脂(a1)的所有酚性羟基中的一部分通过酸解离性溶解抑制基保护而形成的碱难溶性或不溶性树脂成分，所述酚醛清漆树脂(a1)是通过使芳香族羟基化合物与至少含有甲醛和羟基取代芳香醛的醛类缩合反应而得到的酚醛清漆树脂。
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公开(公告)号：CN117957282A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202280061759.3
申请日：2022-09-20
申请人： 东京应化工业株式会社
摘要： 一种相分离结构形成用树脂组合物，含有：具有第1a嵌段与第1b嵌段的第1嵌段共聚物、具有第2a嵌段与第2b嵌段的第2嵌段共聚物、能够与第1a嵌段及第2a嵌段相溶的均聚物A、能够与第1b嵌段及第2b嵌段相溶的均聚物B，构成第1a嵌段及第2a嵌段的结构单元相同，构成第1b嵌段及第2b嵌段的结构单元相同，第2嵌段共聚物的数均分子量大于第1嵌段共聚物。
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公开(公告)号：CN109790312B
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN201780059252.3
申请日：2017-09-26
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： C08J7/00 , B05D3/00 , B05D5/00 , C09D153/00
摘要： 一种包含相分离结构的结构体的制造方法，其具有：使用含有嵌段共聚物和离子液体的相分离结构形成用树脂组合物在基板(1)上形成包含嵌段共聚物的层(BCP层)(3)的工序，其中，所述离子液体包含具有阳离子部和阴离子部的化合物(IL)；和使化合物(IL)的至少一部分气化、并且使BCP层(3)发生相分离而得到包含相分离结构的结构体(3’)的工序。
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公开(公告)号：CN1698016A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200480000692.4
申请日：2004-05-19
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/12 , Y10S430/122
摘要： 本发明提供了一种化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，它具有极好的以抗蚀剂溶液形式在瓶中储存的稳定性。酚醛清漆树脂或羟基苯乙烯树脂与交联剂反应给出微溶于碱或不溶于碱的树脂，它具有在酸存在下可提高其在碱性水溶液中溶解度的这种特性，然后这种树脂溶于有机溶剂，与(B)在射线照射下产生酸的一种化合物一起得到化学放大型正性光致抗蚀剂组合物，其中酸性成分的含量为10ppm或10ppm以下。
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公开(公告)号：CN101297010B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200680039580.9
申请日：2006-10-23
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： C09J133/06 , C09J7/02 , B24B37/04 , H01L21/301 , H01L21/304
CPC分类号： C09J133/06 , B24B37/30 , B24B37/34 , C09J7/385 , C09J133/08 , C09J133/10 , C09J2203/326 , H01L21/67132 , H01L21/6835 , H01L21/6836 , H01L2221/68327 , H01L2221/6834 , Y10T428/2861 , Y10T428/2891 , Y10T428/31935
摘要： 本发明提供一种粘接剂组合物以及包含此粘接剂组合物的粘接薄膜，所述粘接剂组合物，加热时所产生的气体少(吸湿性低)，耐碱性也高，具有200℃以上的耐热性，并且容易利用剥离液进行剥离。本发明制备一种至少以丙烯酸类聚合物作为主成分的粘接剂组合物，所述丙烯酸类聚合物包含(a)苯乙烯、(b)含环状骨架的(甲基)丙烯酸酯单体以及(c)(甲基)丙烯酸烷基酯单体。另外，利用所述粘接剂组合物来形成粘接薄膜的粘接剂组合物层。
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公开(公告)号：CN1235090C
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN03148995.8
申请日：2003-07-03
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/022 , H01L21/027 , G02F1/133
摘要： 本发明提供一种适用于系统液晶显示器(LCD)的制造且线性优异并可以形成微细抗蚀剂图案的材料以及使用此材料的抗蚀剂图案形成方法。本发明正型光致抗蚀剂组合物用于制造1块基板上形成集成电路和液晶显示元件部分的基板，其特征在于含有(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二迭氮酯化合物、(C)特定结构的含酚性羟基的化合物以及(D)有机溶剂。本发明的抗蚀剂图案形成方法的特征在于，包括：用该正型抗蚀剂组合物在基板上形成抗蚀剂涂膜的工序、用画有用于形成集成电路用抗蚀剂图案的掩膜图案和用于形成液晶显示部分用抗蚀剂图案的掩膜图案的掩膜，进行选择性曝光，同时形成集成电路用抗蚀剂图案和液晶显示部分用抗蚀剂图案的工序。
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公开(公告)号：CN1497347A
公开(公告)日：2004-05-19
申请号：CN200310101490.6
申请日：2003-10-21
申请人： 东京应化工业株式会社
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/26 , G02F1/13 , H01L21/027
摘要： 本发明提供一种即使在低NA条件下，也可以高清晰度形成抗蚀图的，LCD制造用的抗蚀剂材料。本发明的抗蚀剂材料，是含有(A)由对于23℃的2.38重量％的氢氧化四甲基铵水溶液的碱溶解性在100～400nm/秒范围内的酚醛树脂形成的碱可溶性树脂，(B)通过放射线照射产生酸的化合物以及(C)交联性聚乙烯醚化合物的LCD制造用正型抗蚀剂组合物。
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