公开(公告)号：CN116457361A

公开(公告)日：2023-07-18

申请号：CN202180077163.8

申请日：2021-11-18

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 山形宪一 ,  近藤崇弘 ,  武内弘明 ,  今井洋文

IPC: C07F5/02

Abstract: 中空封装体的制造方法，其包括：在具有铝布线的基板上形成侧壁的工序；和在前述侧壁上形成顶板部，制作收纳前述铝布线的前述中空结构体的工序，其中，形成前述侧壁及/或前述顶板部的感光性组合物包含通式(I1‑an)表示的阴离子，通式(I1‑an)中，A为杂原子；X为卤原子；R为1价的有机基团；k为1～6的整数；m为0～5的整数，n为1～3的整数；m/(k+m)为0以上且小于0.7。[化学式1]

公开(公告)号：CN116917809A

公开(公告)日：2023-10-20

申请号：CN202280013308.2

申请日：2022-01-31

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 山形宪一 ,  中村亮辅 ,  今井洋文

IPC: G03F7/038

Abstract: 本发明涉及一种负型感光性组合物，是用于形成中空结构体的顶板部的负型感光性组合物，其含有含环氧基化合物、阳离子聚合引发剂、多官能(甲基)丙烯酸酯化合物和光自由基聚合引发剂。

公开(公告)号：CN118696275A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202380021885.0

申请日：2023-02-16

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 片山翔太 ,  山形宪一 ,  今井洋文

IPC: G03F7/004 ,  C09D163/00 ,  C09D201/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/40 ,  H05K3/00

Abstract: 采用中空结构体(100)的制造方法，该中空结构体包括凹部(15)和将凹部(15)的开口面封堵的顶板部，使用支承体(50)与抗蚀剂层(30)的层叠体(80)形成侧壁(20)及顶板部中的至少一者，支承体(50)由波长365nm的光线透过率为85％以上且照射了波长365nm时的雾度值为1.0％以下的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜构成，抗蚀剂层(30)由利用负型感光性组合物形成的感光性层形成，进行下述操作：隔着支承体(50)对抗蚀剂层(30)进行曝光，将曝光后的层叠体(80)用含有有机溶剂的显影液显影，形成负型图案。根据该制造方法，在形成中空结构体的侧壁或顶板部时，能够实现图案的光刻特性(形状、缺陷减少)的进一步提高，能够稳定地制造中空结构体。

公开(公告)号：CN116018558A

公开(公告)日：2023-04-25

申请号：CN202180046897.X

申请日：2021-06-02

Applicant: 三亚普罗股份有限公司 ,  东京应化工业株式会社

Inventor： 中尾拓人 ,  柴垣智幸 ,  中村友治 ,  山形宪一 ,  近藤崇弘 ,  增岛正宏 ,  今井洋文

IPC: G03F7/004

Abstract: 本发明采用含有含环氧基树脂与阳离子聚合引发剂的负型感光性树脂组合物，包含以下述通式(I0)表示的锍盐。式(I0)中，R1及R2表示芳基、杂环式烃基或烷基。R3～R5为烷基、羟基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、酰氧基、芳硫基、烷硫基、芳基、杂环式烃基、芳氧基、羟基(聚)亚烷氧基或卤素原子。k为0～4的整数，m为0～3的整数，n为1～4的整数。A是以‑S‑、‑O‑、‑SO‑、‑SO2‑或‑CO‑表示的基团。X‑表示一价的多原子阴离子。

公开(公告)号：CN114675492A

公开(公告)日：2022-06-28

申请号：CN202111269347.2

申请日：2021-10-29

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 武内弘明 ,  近藤崇弘 ,  山形宪一 ,  增岛正宏

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种在图案形成中难以产生底切的负型感光性树脂组合物以及图案形成方法。采用含有含环氧基化合物、光阳离子聚合引发剂、具有以通式(ahs1)表示的结构单元的树脂的负型感光性树脂组合物。含环氧基化合物包含酚醛清漆型环氧树脂。光阳离子聚合引发剂包含鎓硼酸盐。通式(ahs1)中，R为氢原子、碳原子数为1～5的烷基或者碳原子数为1～5的卤代烷基。YaX1为单键或者2价的连接基团。Wax1为可具有取代基的芳香族烃基。nax1为1以上的整数。[化1]

公开(公告)号：CN117420731A

公开(公告)日：2024-01-19

申请号：CN202310839066.9

申请日：2023-07-10

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 片山翔太 ,  近藤崇弘 ,  山形宪一 ,  今井洋文

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明涉及负型感光性组合物及图案形成方法。采用含有Novolac型多官能芳香族环氧树脂(Ap)、3官能环氧单体(Am)、和式(I0)表示的锍盐的负型感光性组合物。使质量比(Am)/(Ap)为5/5～8/2。式(I0)中，R1及R2表示芳基、杂环式烃基或烷基。R3～R5为烷基、羟基、烷氧基、烷基羰基、芳基羰基、酰氧基、芳基硫基、烷基硫基、芳基、杂环式烃基、芳基氧基、羟基(多)亚烷基氧基或卤素原子。k为0～4的整数，m为0～3的整数，n为1～4的整数。L为‑S‑、‑O‑、‑SO‑、‑SO2‑或‑CO‑。X‑表示一价的多原子阴离子。[化学式1]

公开(公告)号：CN114137796A

公开(公告)日：2022-03-04

申请号：CN202110875042.X

申请日：2021-07-30

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 近藤崇弘 ,  今井洋文 ,  武内弘明 ,  中村亮辅 ,  山形宪一

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种负型感光性组合物，其固化膜内部的应力被抑制得较低，并且模制抗性得以提高，还提供图案形成方法以及中空结构体的制造方法。所述负型感光性组合物含有含环氧基化合物以及阳离子聚合引发剂，含环氧基化合物包含：(A1)成分，环氧当量为300g/eq.以上的环氧树脂；(A2)成分，环氧当量比(A1)成分小的特定的酚醛清漆型环氧树脂，(A1)成分的含量相对于含环氧基化合物的总质量(100质量％)为60～90质量％，(A2)成分的含量相对于含环氧基化合物的总质量(100质量％)为10～40质量％。