高像素影像传感器封装结构及其制作方法

    公开(公告)号:CN105070732A

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:CN201510420471.2

    申请日:2015-07-16

    Abstract: 高像素影像传感器封装结构及其制作方法,所述封装结构包含:分别带有阶梯状收容结构的盖板和支撑盖板,一透明盖板及一带有重布线的晶圆。本发明通过采用刚度较大、强度相对较高的硅或硅基材料作为支撑盖板代替原本的高分子材料的支撑围堰层,解决了高分子聚合物支撑围堰层形成后的均一性差、与接触材料的结合力差等问题,可以减小由于热膨胀系数差异产生的热应力,改善结构中的分层、裂纹等失效。同时,该支撑盖板的高度可以根据实际需求设定,而不局限于几十微米,满足高像素图像传感器对透光盖板与影像传感区间的距离要求。

    一种用于“硅通孔”TSV-Cu结构工艺残余应力的测试方法

    公开(公告)号:CN102818765B

    公开(公告)日:2014-06-11

    申请号:CN201210310455.4

    申请日:2012-08-28

    Abstract: 一种用于“硅通孔”TSV-Cu结构工艺残余应力的测试方法,属于电子信息技术领域。用压头向下对实验试样中硅通孔中的铜柱进行挤压,同时记录压头向下作用时的位移和压力F,获得压力F和位移曲线,得到压力F下降时的门槛值,并将压力F的门槛值代入压力和界面切应力转换公式中,便得到镀铜工艺制作的硅通孔结构TSV-Cu中铜和硅界面处发生滑移时的切应力门槛值τ0;由切应力门槛值τ0计算得到本发明所需要测量的“硅通孔”TSV-Cu残余应力。本发明最大程度保持试样的完整性,不对试样进行切割等影响残余应力释放的操作,测试结果更加精确,同时残余应力的计算方法简单可靠,可以直观的判断残余应力的正负。

    一种CMOS图像传感器封装结构及其制造方法

    公开(公告)号:CN103000649A

    公开(公告)日:2013-03-27

    申请号:CN201210480106.7

    申请日:2012-11-22

    Abstract: 一种CMOS图像传感器封装结构及其制造方法,属传感器领域。光学交互区位于硅衬底正面第一表面的中央,在光学交互区的上方形成有金属互连层,微镜头阵列放置在金属互联层上方,金属互联层外侧有第一保护层;在第一表面制作未穿透硅衬底的硅通孔和重分布层,光学交互区周围的I/O通过重分布层连接硅通孔;硅通孔孔壁上有作钝化层并填充;在重分布层上有第二保护层;硅衬底同玻璃片键合,玻璃片和硅衬底之间设空腔;硅衬底的第二表面减薄暴露出硅通孔;硅衬底第二表面上制作线路层将硅通孔连接到焊盘垫,线路层上制作防焊层并暴露出焊盘垫;焊球在焊盘垫上。本发明改善了封装结构中玻璃和硅衬底之间的分层问题,提高了可靠性,封装结构适合更大尺寸芯片。

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