一种用于红外热成像法检测微电子封装结构缺陷的装置

    公开(公告)号:CN102338763A

    公开(公告)日:2012-02-01

    申请号:CN201110147793.6

    申请日:2011-06-02

    IPC分类号: G01N25/72

    摘要: 一种用于红外热成像法检测微电子封装结构缺陷的装置,属于电子封装行业无损检测领域。底座1由两端的两个接地脚,一个中间承力梁组成,承力梁开有两个贯通的圆孔.立柱7的下端以过盈配合的方式装配到贯通的圆孔内。立柱7上分别装配了下横梁2,上横梁6,螺杆传动轴承9和托环13.下横梁2的前端用小螺栓12连接了一个试样台16,后端用螺栓连接螺杆套3,钠灯13通过连接块4,连接架5和圆环夹子14固定在立柱7上。螺杆传动轴承装配在立柱的上端,螺杆传动轴承上装有把手,通过转动把手可以改变下横梁在立柱上的位置,从而实现试样台高低位置的变化。本发明结构简单,装置平稳,操作方便,可以实现红外无损检测。

    一种CMOS图像传感器封装结构及其制造方法

    公开(公告)号:CN103000649B

    公开(公告)日:2015-08-05

    申请号:CN201210480106.7

    申请日:2012-11-22

    IPC分类号: H01L27/146

    摘要: 一种CMOS图像传感器封装结构及其制造方法,属传感器领域。光学交互区位于硅衬底正面第一表面的中央,在光学交互区的上方形成有金属互连层,微镜头阵列放置在金属互联层上方,金属互联层外侧有第一保护层;在第一表面制作未穿透硅衬底的硅通孔和重分布层,光学交互区周围的I/O通过重分布层连接硅通孔;硅通孔孔壁上有作钝化层并填充;在重分布层上有第二保护层;硅衬底同玻璃片键合,玻璃片和硅衬底之间设空腔;硅衬底的第二表面减薄暴露出硅通孔;硅衬底第二表面上制作线路层将硅通孔连接到焊盘垫,线路层上制作防焊层并暴露出焊盘垫;焊球在焊盘垫上。本发明改善了封装结构中玻璃和硅衬底之间的分层问题,提高了可靠性,封装结构适合更大尺寸芯片。

    一种晶圆级芯片尺寸封装及其制造方法

    公开(公告)号:CN103021983B

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201210478722.9

    申请日:2012-11-22

    摘要: 一种晶圆级芯片尺寸封装及其制造方法,属于传感器领域。其包括晶圆,晶圆的正面为形成图像传感区的第一表面,晶圆的负面为第二表面;第一表面自上而下:微镜头、金属互联层和光学交互区;在第一表面制作未穿透硅衬底的硅通孔和重分布层,光学交互区周围的I/O连接到硅通孔;硅通孔孔壁制作作钝化层并填充;在重分布层上用聚合物材料制作第二保护层;第一表面与玻璃片之间键合,玻璃片和晶圆之间形成空腔;第二表面进行减薄,通过蚀刻工艺形成凹槽结构并暴露出硅通孔;第二表面上制作线路层将硅通孔连接到焊盘垫;在线路层上制作防焊层并暴露焊盘垫;焊球在焊盘垫上。本发明减少了工艺流程,提高了产品可靠性、生产效率,降低了生产的成本。