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公开(公告)号：CN103301992A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201310070532.8
申请日：2013-03-06
Applicant: 株式会社东芝 , 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使在利用回收的处理液进行处理的情况下也能够进行恰当的处理的处理装置和处理方法。根据一个实施方式，处理装置具备输送被处理物的输送部、回收已供给到由输送部输送的被处理物的处理面上的第一处理液的回收部、将由回收部回收的第一处理液向被处理物的处理面喷出的第一喷嘴、设置在第一喷嘴的输送方向的下游侧且向被处理物的处理面喷出第二处理液的第二喷嘴、以及设置在第二喷嘴的输送方向的下游侧且向被处理物的处理面喷出清洗液的第三喷嘴。而且，第二喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向输送方向的下游侧喷出第二处理液，第三喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向输送方向的上游侧喷出清洗液。
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公开(公告)号：CN1853799B
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN200610074624.3
申请日：2006-04-20
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: B05C5/02 , B05C11/10 , B05B13/04 , B05B1/14 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种可向基板供给不含气泡的处理液的处理装置。本发明的基板处理装置，利用从处理液供给装置(31)供给的处理液处理被搬运的基板的上表面，处理液供给装置包括：容器主体(32)；间隔体(33)，将该容器主体内部划分成被供给处理液的流入部(34)和被供给到该流入部的处理液溢出而流入的储液部(35)；喷嘴孔(40)，形成在储液部的底壁，将从流入部流入到该储液部并按规定高度储存的处理液供给到上述基板的上表面；凹凸部(41)，形成在流入部的侧壁的上端部，在被供给到流入部的处理液的液面上升到与间隔体的上端大致相同的高度时，使浮游在其液面上的气泡不流入储液部(35)而流出到容器主体的外部。
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公开(公告)号：CN101578688B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200880001955.1
申请日：2008-01-11
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/027
Abstract: 一种基板的处理装置，通过处理液来处理基板，其特征在于，具备：纳米气泡产生机构，用于产生纳米气泡，并使该纳米气泡与上述处理液混合；处理液供给机构，向上述基板的板面供给含有该纳米气泡产生机构所产生的纳米气泡的上述处理液；以及加压机构，对通过该处理液供给机构向上述基板的板面供给的处理液中所含有的纳米气泡进行加压，并在上述基板的板面压破所述纳米气泡。
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公开(公告)号：CN101114573B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200710136755.4
申请日：2007-07-27
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/30 , H01L21/306 , H01L21/67 , G02F1/1333 , B08B3/02
Abstract: 本发明提供一种基板的处理装置，防止以规定的角度倾斜搬运的基板从支持背面的支持辊上浮起。一种基板的处理装置，将基板以规定的角度倾斜搬运并用处理液处理，具备：腔(3)；支持辊(14)，设在腔内，并支持基板的倾斜方向下侧的背面；驱动辊(17)，将由支持辊支持背面的基板的下端，利用外周面支持并旋转驱动，由此在规定方向上搬运基板；喷嘴体(62)，向基板的倾斜方向上侧的前面喷射处理液；及流体回流防止部件(65)，设置在与被搬运的基板的背面对置的腔的后壁内表面，防止从喷嘴体喷射后冲撞腔的壁内表面而反射的处理液与基板的背面接触。
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公开(公告)号：CN100470754C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200510074898.8
申请日：2005-06-03
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种在使基板倾斜后在处理腔室进行处理时，可有效地进行基板对处理腔室的移交的基板输送装置，具有：将以水平状态送来的基板倾斜到设定的倾斜角度后，移交到处理腔室(6)的搬入移交部(3)；接受在搬入移交部倾斜到设定角度的所述基板后，以该倾斜角度在所述处理部内输送的倾斜输送部(4)；和从倾斜输送部接受以设定的倾斜角度在所述处理部腔室内输送的处理过的基板后，恢复到水平状态的搬出移交部(5)，搬入移交部和搬出移交部的至少一方，由在沿基板的输送方向依次并列设置并可分别设定基板的倾斜角度而且按照长度尺寸以比基板的沿输送方向的长度尺寸短而设定的第一、第二搬入或者搬出输送机(31-34)组成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110391132B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN201910293044.0
申请日：2019-04-12
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种有机膜形成装置，其对涂布有含有有机材料和溶剂的溶液的基板进行热损失较少且蓄热效率较高的加热，能够形成有机膜。具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；排气部，可对所述腔的内部进行排气；第1加热部，设置在所述腔的内部，具有第1加热器；第2加热部，具有第2加热器；第1均热板；第2均热板；溶液，含有涂布于所述基板的上面的有机材料和溶剂；处理区域，支撑有工件；及第1反射板，设置在所述腔的内部，所述第1均热板及所述第2均热板向所述处理区域侧放射从所述第1加热器及所述第2加热器射入的热，所述第1反射板向所述处理区域侧反射从所述第1加热器及所述第2加热器射入的热。
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公开(公告)号：CN105785605B
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201510810502.5
申请日：2015-11-20
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: G02F1/13
Abstract: 提供一种基板处理装置，能够防止气泡的影响并且通过处理液良好地进行处理。实施方式的基板清洗装置(100)(基板处理装置的一个例子)从喷淋喷嘴(11)对由搬送机构(13)搬送的基板(W)供给清洗液(L)并进行清洗处理。第一回收配管(14)从清洗槽(10)的底部将在清洗处理使用后的清洗液(L)回收到罐(T)。第二回收配管(15)将在清洗工序中产生的气泡回收到罐(T)。在第二回收配管(15)具备强制地回收气泡的吸气器(16)。
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公开(公告)号：CN105185726B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：CN201510240390.4
申请日：2015-05-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 提供能够良好地进行使用了处理液的针对基板的处理的基板处理装置及基板处理方法、基板制造装置及基板制造方法。作为实施方式所涉及的基板处理装置的洗净部20具有，针对被搬送的基板(W)的表面供给流体(例如洗净液L)的第1喷嘴(21)、及以夹着第1喷嘴(21)的方式在基板(W)的搬送方向上排列并相对于与基板(W)的表面垂直的面倾斜地喷出流体(例如洗净液L)的一对第2喷嘴(22A、22B)。与喷嘴(21)相比位于下游侧的喷嘴(22B)朝向基板(W)搬送方向(A)的下游侧喷出流体，与喷嘴(21)相比位于上游侧的喷嘴(22A)朝向上游侧喷出流体。
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公开(公告)号：CN104668217B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201410679982.1
申请日：2014-11-24
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 提供一种能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒的基板处理装置。实施方式的基板处理装置，具备：与基板(W)上的防静电膜(Wa)的表面接触而相对移动、对该防静电膜(Wa)的表面进行擦拭的擦拭部件(11)。该擦拭部件(11)具备：作为基体的弹性体(11a)；和在该弹性体(11a)的表面上设置、与相对移动的防静电膜(Wa)的表面接触的布(11b)。
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公开(公告)号：CN103943539A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201410185437.7
申请日：2010-02-19
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
CPC classification number: H01L21/67051 , G02F1/1303 , G03F7/30 , H01L21/67017
Abstract: 本发明具备：处理部(2)，被供给要通过处理液处理的基板；储液箱(1)，存储有处理液；供液管(3)以及回收管(28)，将储液箱的处理液供给到处理部而处理基板之后返回储液箱；以及除气装置(12)，设于供液管，将处理液中包含的气体除去。
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