公开(公告)号：CN101114573A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：CN200710136755.4

申请日：2007-07-27

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 广濑治道 ,  矶明典 ,  西部幸伸 ,  石川大辅

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  G02F1/1333 ,  B08B3/02

Abstract: 本发明提供一种基板的处理装置，防止以规定的角度倾斜搬运的基板从支持背面的支持辊上浮起。一种基板的处理装置，将基板以规定的角度倾斜搬运并用处理液处理，具备：腔(3)；支持辊(14)，设在腔内，并支持基板的倾斜方向下侧的背面；驱动辊(17)，将由支持辊支持背面的基板的下端，利用外周面支持并旋转驱动，由此在规定方向上搬运基板；喷嘴体(62)，向基板的倾斜方向上侧的前面喷射处理液；及流体回流防止部件(65)，设置在与被搬运的基板的背面对置的腔的后壁内表面，防止从喷嘴体喷射后冲撞腔的壁内表面而反射的处理液与基板的背面接触。

公开(公告)号：CN101114573B

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200710136755.4

申请日：2007-07-27

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 广濑治道 ,  矶明典 ,  西部幸伸 ,  石川大辅

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  G02F1/1333 ,  B08B3/02

Abstract: 本发明提供一种基板的处理装置，防止以规定的角度倾斜搬运的基板从支持背面的支持辊上浮起。一种基板的处理装置，将基板以规定的角度倾斜搬运并用处理液处理，具备：腔(3)；支持辊(14)，设在腔内，并支持基板的倾斜方向下侧的背面；驱动辊(17)，将由支持辊支持背面的基板的下端，利用外周面支持并旋转驱动，由此在规定方向上搬运基板；喷嘴体(62)，向基板的倾斜方向上侧的前面喷射处理液；及流体回流防止部件(65)，设置在与被搬运的基板的背面对置的腔的后壁内表面，防止从喷嘴体喷射后冲撞腔的壁内表面而反射的处理液与基板的背面接触。