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公开(公告)号：CN115079412B
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202210650112.6
申请日：2018-05-30
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本文描述的实施方式涉及显示设备，例如，虚拟现实和扩增实境显示器和应用。在一个实施方式中，平面的基板具有：形成于其上的阶梯特征和形成于数个特征中的每一特征上的发射器结构。封装层设置在该基板上，并且多个均匀的介电纳米结构形成于该封装层上。由本文公开的设备产生的虚拟图像通过减小在图像平面处的色差来提供改善的图像清晰度。
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公开(公告)号：CN118056485A
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202280067103.2
申请日：2022-09-23
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 示例性子像素结构包括定向发光二极管结构，其以具有小于或约10°的发散角的发射光的半峰全宽(FWHM)为特征。子像素结构进一步包括透镜，透镜位于距发光二极管结构第一距离处，其中透镜的形状被设置以聚焦从发光二极管结构的发射光。子像素结构又进一步包括图案化的光吸收屏障，图案化的光吸收屏障位于距透镜第二距离处。图案化的光吸收屏障界定屏障中的开口，且由透镜聚焦的光的焦点位于开口中。子像素结构可结合到像素结构中，且像素结构可结合到没有偏光层的显示器中。
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公开(公告)号：CN116520644A
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202310338255.8
申请日：2018-11-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 迈克尔·于-泰克·扬 , 韦恩·麦克米兰 , 罗格•梅耶•蒂默曼•蒂杰森 , 罗伯特·简·维瑟
IPC: G03F7/20 , G03F7/00 , G03F1/22 , G03F1/80 , H01L21/033 , H01L21/3065 , G02B6/00
Abstract: 本文所述的实施方式涉及用于利用基板制造波导结构的方法。形成具有由基板形成的输入耦合区域、波导区域，和输出耦合区域的波导结构。所述区域是通过将印模压印到抗蚀剂中以形成正波导图案来形成，所述抗蚀剂安置在硬掩模上，所述硬掩模形成在基板表面上。正波导图案的部分和形成在所述部分下的硬掩模被去除。基板被掩模和蚀刻以在输入耦合区域和输出耦合区域中形成光栅。正波导图案的剩余残留部分和安置在所述剩余残留部分下方的硬掩模被去除以形成波导结构，所述波导结构具有由基板形成的输入耦合区域、波导区域，和输出耦合区域。
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公开(公告)号：CN111480262B
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN201880081384.0
申请日：2018-11-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 迈克尔·于-泰克·扬 , 韦恩·麦克米兰 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 罗伯特·简·维瑟
Abstract: 本文所描述的实施方式涉及用于制造波导组合器的方法。所述方法提供波导组合器，所述波导组合器具有限定精细光栅的由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域。在一个实施方式中，由压印印模形成波导结构，所述压印印模在设置在基板的表面上的抗蚀剂上具有正波导图案以形成负波导结构。将所述无机或混合材料沉积在所述基板上并然后移除所述抗蚀剂以形成具有与由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域中的至少一个相对应的区域的波导结构。
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公开(公告)号：CN112041710B
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN201980028904.6
申请日：2019-02-26
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塔帕什里·罗伊 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 罗伯特·简·维瑟
Abstract: 本文描述的实施方式涉及具有亚波长尺寸的纳米结构的透反射滤光器。在一个实施方式中，所述透反射滤光器包括膜堆叠，所述膜堆叠透射一波长范围内的过滤光，并反射不在第一波长范围内的光。所述膜堆叠包括：第一金属膜，设置在基板上，具有第一厚度；第一介电膜，设置在所述第一金属膜上，具有第二厚度；第二金属膜，设置在所述第一介电膜上，具有第三厚度；和第二介电膜，设置在所述第二金属膜上，具有第四厚度。
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公开(公告)号：CN111971611B
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN201980024539.1
申请日：2019-04-24
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 迈克尔·于-泰克·扬 , 卢多维克·戈代 , 罗伯特·简·维瑟 , 韦恩·麦克米兰
IPC: G02B27/44
Abstract: 本文描述的实施方式涉及制造具有光栅的波导结构的方法，此光栅具有小于约45°的前角与小于约45°的后角。此方法包括将印模压印至设置在基板上的纳米压印抗蚀剂。此纳米压印抗蚀剂经受固化处理。使用脱模方法将此印模以脱模角θ从此纳米压印抗蚀剂脱模。此纳米压印抗蚀剂经受退火处理以形成包括多个光栅的波导结构，这些光栅具有相对于基板表面的第二平面的小于约45°的前角α与后角β。
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公开(公告)号：CN112088298B
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN201980029120.5
申请日：2019-03-29
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 一种用于确定光致发光(PL)层的特性的设备，包括：光源，所述光源产生激发光，所述激发光包含来自可见或近可见光谱的光；光学组件，所述光学组件被配置为将激发光引导到PL层上；检测器，所述检测器被配置为接收PL发射，并基于PL发射产生信号，所述PL发射由PL层响应于与PL层相互作用的激发光而产生；以及计算装置，所述计算装置耦接至检测器，且计算装置被配置为接收来自检测器的信号，并基于所述信号确定PL层的特性。
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公开(公告)号：CN111480262A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201880081384.0
申请日：2018-11-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 迈克尔·于-泰克·扬 , 韦恩·麦克米兰 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 罗伯特·简·维瑟
Abstract: 本文所描述的实施方式涉及用于制造波导组合器的方法。所述方法提供波导组合器，所述波导组合器具有限定精细光栅的由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域。在一个实施方式中，由压印印模形成波导结构，所述压印印模在设置在基板的表面上的抗蚀剂上具有正波导图案以形成负波导结构。将所述无机或混合材料沉积在所述基板上并然后移除所述抗蚀剂以形成具有与由无机或混合(有机和无机)材料形成的输入耦合区域、波导区域和输出耦合区域中的至少一个相对应的区域的波导结构。
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公开(公告)号：CN107406977A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680011976.6
申请日：2016-02-25
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/30 , C23C16/40 , C23C16/505 , C23C16/56
CPC classification number: H01L21/28518 , C23C16/24 , C23C16/30 , C23C16/308 , C23C16/401 , C23C16/45523 , C23C16/505 , C23C16/56 , C30B25/165 , C30B29/06 , C30B29/52 , H01L21/0262 , H01L21/02636
Abstract: 本文提供了使用自组装单层(self-assembled monolayer；SAM)的选择性电介质沉积的方法。一种在具有暴露的硅表面和暴露的含硅表面的基板顶上选择性沉积低k电介质层的方法，包括：(a)在暴露的含硅表面顶上生长基于有机硅烷的自组装单层，其中基于有机硅烷的自组装单层在大于约300摄氏度的第一温度下是热稳定的；以及(b)在基板的暴露的硅表面顶上选择性地沉积低k电介质层，其中基于有机硅烷的自组装单层抑制低k电介质层沉积在含硅表面顶上。
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