公开(公告)号：CN116859498A

公开(公告)日：2023-10-10

申请号：CN202310663324.2

申请日：2019-04-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 罗格•梅耶•蒂默曼•蒂杰森 ,  摩根·埃文斯 ,  约瑟夫·C·奥尔森

IPC: G02B5/18 ,  H01J37/305 ,  H01J37/302 ,  H01J37/20 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/67

Abstract: 本文描述的具体实施方式，涉及在基板上形成具有不同倾斜角的光栅的方法，以及使用角度蚀刻系统在循序基板上形成具有不同倾斜角的光栅的方法。方法包括将保持在平台上的基板的部分定位在离子束的路径中。基板上设置有光栅材料。离子束经配置以相对于基板的表面法线的离子束角θ接触光栅材料，并在光栅材料中形成光栅。基板围绕平台的轴线旋转，以在离子束与光栅的表面法线之间产生旋转角φ。光栅相对于基板的表面法线具有倾斜角θ。由方程式φ＝cos‑1(tan(θ')/tan(θ))选出旋转角φ。

公开(公告)号：CN116520644A

公开(公告)日：2023-08-01

申请号：CN202310338255.8

申请日：2018-11-13

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 迈克尔·于-泰克·扬 ,  韦恩·麦克米兰 ,  罗格•梅耶•蒂默曼•蒂杰森 ,  罗伯特·简·维瑟

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  G03F1/22 ,  G03F1/80 ,  H01L21/033 ,  H01L21/3065 ,  G02B6/00

Abstract: 本文所述的实施方式涉及用于利用基板制造波导结构的方法。形成具有由基板形成的输入耦合区域、波导区域，和输出耦合区域的波导结构。所述区域是通过将印模压印到抗蚀剂中以形成正波导图案来形成，所述抗蚀剂安置在硬掩模上，所述硬掩模形成在基板表面上。正波导图案的部分和形成在所述部分下的硬掩模被去除。基板被掩模和蚀刻以在输入耦合区域和输出耦合区域中形成光栅。正波导图案的剩余残留部分和安置在所述剩余残留部分下方的硬掩模被去除以形成波导结构，所述波导结构具有由基板形成的输入耦合区域、波导区域，和输出耦合区域。