基板处理装置、基板处理方法

    公开(公告)号:CN100407367C

    公开(公告)日:2008-07-30

    申请号:CN200610058060.4

    申请日:2006-02-28

    Abstract: 本发明提供一利基板处理装置,第一和第二基板搬运部(84A、84B)一起保持基板(G)进行搬运的区间,不是从搬入位置到搬出位置的全部搬运区间,而是从涂敷开始位置到涂敷结束位置的中间区间。第一基板搬运部(84A)当将基板(Gi)搬运到涂敷结束位置时,结束对该基板(G)的搬运目的,直接返回到搬入位置,开始后续新基板(Gi+1)的搬运。此外,第二基板搬运部(84B)单独将基板(Gi)从涂敷结束位置搬运到搬出位置,接着从搬入位置返回到面前的涂敷开始位置,等待第一基板搬运部(84A)单独将下一块基板(Gi+1)搬运到该位置。本发明能大幅缩短以无旋转方式将处理液供给或涂敷在被处理基板上的处到工作的间歇时间。

    接合装置、系统、方法、程序以及计算机存储介质

    公开(公告)号:CN115985812A

    公开(公告)日:2023-04-18

    申请号:CN202211605831.2

    申请日:2017-12-01

    Abstract: 提供一种接合装置、系统、方法、程序以及计算机存储介质。检查基板的接合处理的状态来恰当地进行该接合处理。用于将上晶圆(WU)与下晶圆(WL)进行接合的接合装置具有:上卡盘(140),其进行抽真空来将上晶圆(WU)吸附保持在其下表面;下卡盘(141),其设置在上卡盘(140)的下方,进行抽真空来将下晶圆(WL)吸附保持在其上表面;压动构件(190),其设置于上卡盘(140),用于按压上晶圆(WU)的中心部;以及多个传感器(175),多个传感器(175)设置于上卡盘(140),检测上晶圆(WU)的从上卡盘(140)的脱离。

    基板处理装置和基板处理方法
    34.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114121716A

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN202110950623.5

    申请日:2021-08-18

    Abstract: 本公开涉及一种基板处理装置和基板处理方法。接合装置包括第一保持部、第二保持部以及移动机构。所述第一保持部用于从所述第一基板的上方保持所述第一基板。所述第二保持部用于从所述第二基板的下方保持所述第二基板。所述移动机构用于使所述第一保持部与所述第二保持部的相对位置在基板交接位置与接合位置之间移动。所述控制装置使所述搬送装置在所述搬送装置从相对于所述接合装置的基板搬入搬出位置开始移动后,同所述第一保持部与所述第二保持部的所述相对位置返回到所述基板交接位置同时地到达所述基板搬入搬出位置、或在所述第一保持部与所述第二保持部的所述相对位置返回到所述基板交接位置之前到达所述基板搬入搬出位置。

    基板输送装置以及基板输送方法

    公开(公告)号:CN102005402B

    公开(公告)日:2015-07-08

    申请号:CN201010268514.7

    申请日:2010-08-30

    Abstract: 本发明提供一种基板输送装置以及基板输送方法,不用停止基板的输送而将其从浮起台运出,抑制产生对基板的被处理面的转印痕,能够提高生产能力。该基板输送装置具有将基板(G)以浮起的状态输送的浮起输送部(2A)以及配置在所述浮起输送部的后段,从所述浮起输送部取得所述基板,由输送滚体输送的滚动输送部(2B)。所述浮起输送部具有:使所述基板浮起的浮起台(3);与所述浮起台的左右侧方平行配置并延伸到所述滚动输送部的左右侧方的导轨(5);以及、沿所述导轨分别能够移动地设置,能够从下方吸附保持所述基板的缘部的基板载体(6),所述基板由所述基板载体吸附保持,沿所述导轨输送,所述基板的前端到达所述滚动输送部的规定位置时,解除基板载体的吸附。

    涂敷膜形成装置和涂敷膜形成方法

    公开(公告)号:CN102693901A

    公开(公告)日:2012-09-26

    申请号:CN201210076863.8

    申请日:2012-03-21

    Abstract: 本发明提供涂敷膜形成装置和涂敷膜形成方法。通过使用两个喷嘴提高基板的涂敷处理的生产节拍时间并抑制成本。涂敷膜形成装置包括:喷嘴保持部件(12),其保持沿基板输送方向前后配置的第1喷嘴(16)和第2喷嘴(17);喷嘴移动部件(11),其使喷嘴保持部件沿基板输送方向移动;控制部件(40),其进行第1喷嘴及上述第2喷嘴的驱动控制、上述喷嘴移动部件的驱动控制,上述控制部件控制上述喷嘴移动部件以便将上述第1喷嘴和上述第2喷嘴配置在基板输送路径上的同一个涂敷位置,并进行控制以便利用该喷嘴移动部件使上述喷嘴保持部件移动,利用配置在上述同一个涂敷位置的上述第1喷嘴和第2喷嘴中的任一个喷嘴向上述基板喷出处理液。

    光学式异物检测装置以及搭载它的处理液涂布装置

    公开(公告)号:CN101685070B

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:CN200910176670.8

    申请日:2009-09-24

    Abstract: 本发明提供一种能够高灵敏度地检测异物的光学式异物检测装置以及搭载它的处理液涂布装置。构成为使以水平状态载置在载物台(2)上的被处理基板(1)和具有沿上述基板(1)的宽度方向延伸的狭缝状喷出开口(11b)的处理液供给喷嘴(11)相对地移动,从而将从处理液供给喷嘴(11)带状地喷出的处理液涂布到基板(1)的表面。在上述处理液供给喷嘴(11)的相对移动方向的前方搭载有由光投射部(5)和受光部(6)构成的光透过型传感器单元。提供一种光学式异物检测装置,在沿着上述传感器单元的相对移动方向设定有多个检查区域,通过追溯异物的移动方向的历史记录而对由传感器单元得到的受光数据进行统计,来提高对异物的反应灵敏度。

    涂敷方法和涂敷装置
    38.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101192008B

    公开(公告)日:2011-07-20

    申请号:CN200710196021.5

    申请日:2007-11-28

    Abstract: 本发明提供一种涂敷方法和涂敷装置,其在浮起搬送中不会使被处理基板的前端部和后端部产生波动而能够正确稳定地控制基板的浮起高度,使涂敷膜的膜厚品质提高。基板搬送部(84)包括:平行地配置在利用气体压力的力在空中使基板G浮起的浮起式台(80)的两侧的左右一对导轨(100L、100R);沿搬送方向(X方向)可移动地安装在这些的导轨(100L、100R)上的左右一对滑动件(102L、102R);使两滑动件(102L、102R)在两导轨(100L、100R)上同时或平行地直进移动地搬送驱动部;和为了可装卸保持基板(G)的四角而搭载在两滑动件(102L、102R)上的保持部(106)。

    基板处理装置
    39.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100594584C

    公开(公告)日:2010-03-17

    申请号:CN200710160567.5

    申请日:2007-12-25

    Abstract: 本发明提供一种浮起搬送式的基板处理装置。从搬送方向(X方向)看,在台(80)的左右两侧沿搬送方向分别以成一列的方式以一定间距配置有多个滚轮或侧面滚轮(110)。在台(80)上,基板(G)利用从正下方(台上面)的喷出口(100)获得的气体的压力浮在空中,同时其左右两侧端部搭载在台两侧的侧面滚轮(110)的上面。通过侧面滚轮(110)的旋转运动,在台(80)上浮起的基板(G)在侧面滚轮(110)上辗转传送并向搬送方向(X方向)平流移动。

    涂敷方法和涂敷装置
    40.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101192008A

    公开(公告)日:2008-06-04

    申请号:CN200710196021.5

    申请日:2007-11-28

    Abstract: 本发明提供一种涂敷方法和涂敷装置,其在浮起搬送中不会使被处理基板的前端部和后端部产生波动而能够正确稳定地控制基板的浮起高度,使涂敷膜的膜厚品质提高。基板搬送部(84)包括:平行地配置在利用气体压力的力在空中使基板G浮起的浮起式台(80)的两侧的左右一对导轨(100L、100R);沿搬送方向(X方向)可移动地安装在这些的导轨(100L、100R)上的左右一对滑动件(102L、102R);使两滑动件(102L、102R)在两导轨(100L、100R)上同时或平行地直进移动地搬送驱动部;和为了可装卸保持基板(G)的四角而搭载在两滑动件(102L、102R)上的保持部(106)。

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