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公开(公告)号:CN106992162B
公开(公告)日:2019-12-13
申请号:CN201710037091.X
申请日:2017-01-18
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L23/48 , H01L25/065
Abstract: 本公开提供一种具有TSV结构的多重堆叠器件。该多重堆叠器件包括:下部器件,具有下基板、在下基板上的第一绝缘层以及在第一绝缘层上的硅通孔(TSV)焊盘;中间器件,具有中间基板、在中间基板上的第二绝缘层以及在第二绝缘层上的第一TSV凸块;上部器件,具有上基板、在上基板上的第三绝缘层以及在第三绝缘层上的第二TSV凸块;以及TSV结构,穿过上基板、第三绝缘层、第二绝缘层以及中间基板以连接到第一TSV凸块、第二TSV凸块和TSV焊盘。在中间基板与TSV结构之间的绝缘的第一TSV间隔物和在上基板与TSV结构之间的绝缘的第二TSV间隔物沿堆叠方向间隔开。
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公开(公告)号:CN107768305A
公开(公告)日:2018-03-06
申请号:CN201710709806.1
申请日:2017-08-17
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/768
CPC classification number: H01L27/1463 , H01L21/76898 , H01L23/481 , H01L24/13 , H01L27/14621 , H01L27/14627 , H01L27/14636 , H01L27/14645 , H01L27/14683 , H01L2224/13025 , H01L2224/13101 , H01L2924/014 , H01L2924/00014 , H01L21/76802 , H01L21/76804 , H01L21/76816
Abstract: 一种半导体器件包括:具有彼此面对的第一表面和第二表面的半导体衬底;在半导体衬底的第一表面中形成的沟槽中的蚀刻停止图案;在半导体衬底的第一表面上的第一绝缘层;以及穿过半导体衬底和第一绝缘层的通孔。蚀刻停止图案包围通孔的侧表面的一部分。
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