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公开(公告)号：CN1388414A
公开(公告)日：2003-01-01
申请号：CN02141011.9
申请日：2002-05-17
Applicant: 东京応化工业株式会社
CPC classification number: H01L21/76808 , Y10T428/1419 , Y10T428/15 , Y10T428/31725
Abstract: 提供一种将埋入材料向通孔中填充时,埋入性和平坦性都优异的保护膜形成用材料,其特征是:含有有机溶剂和至少具有2个以上的脂环结构的化合物。另外,作为上述化合物,可以是从螺环烃化合物、二环单萜烯化合物、金刚烷化合物和甾类化合物中选出的至少一种。
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公开(公告)号：CN100537050C
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200510003475.7
申请日：2005-11-29
Applicant: 东京応化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明提供一种在空间上是有利的，可连续地将涂敷液涂敷在玻璃基板上的涂敷装置。在基台(1)上设置有一对平行导轨(2、2)，在该一对平行导轨(2、2)之间的中央配置有基板载置工作台(3)，第1及第2门型移动机构(4、5)以平面上观察与上所述导轨正交的基板载置工作台的宽度方向中心线为基准、左右对称地架设在上述导轨之间并可独立行走，在该第1及第2门型移动机构(4、5)上可升降地保持有狭缝喷嘴(6、7)。
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公开(公告)号：CN100510906C
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200510077986.3
申请日：2005-06-16
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G02F1/1337 , B41N1/12
Abstract: 提供具有对各种印刷液的耐受性，具有优异的印刷适性的印刷版制造用感光性组合物、以及使用了该组合物的印刷用感光性印刷原版积层体及印刷版。在至少含有粘合剂树脂、光聚合性单体、以及光聚合引发剂的印刷版制造用感光性组合物中，作为粘合剂树脂并用弹性体树脂和萜烯树脂，据此得到对备种印刷液、特别是取向膜液等印刷液具有优异的耐受性的感光性组合物。
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公开(公告)号：CN100500303C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200510081789.9
申请日：2005-05-20
Applicant: 东京応化工业株式会社 , 龙云株式会社
Abstract: 本发明提供了一种能有效对加注辊进行粗洗和精洗的狭缝涂布机预备排出装置。附着有涂布液的加注辊向顺时针方向旋转，淋洗嘴向加注辊表面供给循环液，再用涂刷器刮落，潜入储存的洗涤液中，用第二个涂刷器刮落顽固的附着物。最后，用新液淋洗嘴冲洗干净，在新液淋洗嘴的上方，从干燥气体喷嘴中吹出干燥气体，吹开洗涤液，使加注辊的表面干燥。因这时也进行排气，排气也能促进干燥。
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公开(公告)号：CN100487587C
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200410055030.9
申请日：2004-06-10
Applicant: 东京応化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种可以利用简单的结构构成使基板产生倾斜移动，进而可以短时间高效率地回收显像液的显像装置。该装置可以在上升之前，使升降部(13)的上端部处于比滚子(6)还要低的位置处，使其不会与基板W形成干涉，随着臂部件(8)的上升动作，升降部(13)将从滚子(6、6)之间向上方伸出，对基板(W)的背面实施支持，使其向上倾斜移动。通过这种倾斜移动可以使位于基板(W)的表面上的显像液从一端流下的，回收到显像液回收部件15的内部，随后再通过滚子搬运基板，使其移动到漂洗液的供给·回收部(4)处。对于漂洗液，可以将原先供给的漂洗液在被污染后原样排出，经过预定的时间之后，对该漂洗液实施回收。之后，通过滚子将玻璃基板朝向干燥部(5)实施搬运。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100454481C
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200510128592.6
申请日：2005-11-29
Applicant: 东京応化工业株式会社 , E.T.系统工程株式会社
Abstract: 本发明提供一种可将夹在半导体晶片等基板与支承板之间的气体容易地除去而进行压接的粘贴装置。减压腔室(50)经由配管(51)与抽真空装置相连，在一侧面上形成有输入·输出用的开口(52)，开口(52)由闸门(53)开闭。利用压力缸组件(54)使闸门(53)升降移动，在上升的位置上通过用推动器(55)从侧面进行按压，使设置于闸门(53)的内侧面的密封件紧密抵接到开口(52)的周围，使腔室(50)内保持气密。通过使推动器(55)后退并使闸门(53)下降而打开开口(52)，在该状态下使用输送装置将晶片(W)与支承板(2)的层叠体输入输出。在腔室(50)内配置有压接层叠体的保持台(56)与按压板(57)。
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公开(公告)号：CN100445816C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200510078563.3
申请日：2005-06-17
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G02F1/133 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种能可靠地防止大型玻璃基板的端缘部的挠曲的基板端缘部覆膜的除去装置。使基板保持部(2)的轴(4)伸长来使夹具(3)上升，在该上升位置上接取基板(W)。在该状态下，由于自重，基板(W)的周边部向下方挠曲。接着，收缩轴(4)使夹具下降直到与杆部件(17)的上表面同面。于是，基板(W)的周缘部下表面由杆部件(17)支承，基板(W)保持在水平状态下。此时，在清洗组件(10)的狭缝(11)内，利用表面张力保持着清洗液(溶剂)。从这一状态开始，使左右的清洗组件(10)前进，将基板(W)的端缘部插入到清洗组件(10)的狭缝(11)内。
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公开(公告)号：CN100432839C
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200410095130.4
申请日：2004-09-30
Applicant: 东京応化工业株式会社
Inventor： 谷津克也
IPC: G03F7/004 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供作为适用于形成液晶显示元件、集成电路元件、固体摄像元件等电子部件的保护膜和层间绝缘膜的感光性树脂组合物所希望的所谓“由于能形成透明性、耐热性、平整性优异的保护膜或层间绝缘膜，且涂布性、显影性优异，即使在大型衬底上也可容易形成均匀被膜，并且贮存稳定性良好”的特性得到更进一步提高的感光性树脂组合物以及使用其的图案形成的方法。本发明使构成组分至少为(a)不饱和羧酸或不饱和羧酸酐与含环氧基的聚合性不饱和化合物的共聚物、(b)必须具有苯乙烯和/或苯乙烯衍生物单体单元和不饱和有机酸单体单元的聚合物、(c)含有醌二叠氮基的化合物和(d)有机溶剂，并使与上述(b)聚合物的组成比平均值偏离超过3%的组成比的聚合物，相对于该(b)聚合物的含有比例为20质量%以下。
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公开(公告)号：CN100405544C
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200410055260.5
申请日：2004-06-26
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/30
Abstract: 本发明提供一种不增加运送线的长度、不产生显影不均匀的一字排列式显影处理装置。对于在表面上形成了曝光过的抗蚀剂膜的基板(W)，在显影液供给部(2)中向表面供给显影液，在运送的同时进行显影反应，然后在显影液回收部(4)中回收显影液，之后在漂洗液供给·回收部(6)中进行清洗和清洗液回收，最后送至干燥部(8)。在这一系列显影处理的过程中，在基板进入下游侧的处理部的情况下，于该处理部之前的待机部、例如该处理部是显影液回收部(4)的情况下，在其之前的待机部(3)中，使滚轮(10a)重复进行正反旋转，基板(W)往返移动。结果是，在基板(W)的背面，与滚轮(10a)接触的部分始终移动而不停止在一个部位上，基板的温度分布是均匀的。
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公开(公告)号：CN100380232C
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN99118105.0
申请日：1999-08-17
Applicant: 东京応化工业株式会社
CPC classification number: C08G18/3206 , B24C1/04 , C08G18/6492 , C08G18/672 , G03F7/027 , Y10S430/106 , Y10S430/112 , Y10S430/114
Abstract: 公开了一种砂磨用光敏组合物和具有包括该光敏组合物的光敏层的光敏膜层压物。所述光敏组合物包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团并具有如下结构单元的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)碱溶性化合物，和(C)光致聚合引发剂。
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