公开(公告)号：CN1603953A

公开(公告)日：2005-04-06

申请号：CN200410095130.4

申请日：2004-09-30

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 谷津克也

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供作为适用于形成液晶显示元件、集成电路元件、固体摄像元件等电子部件的保护膜和层间绝缘膜的感光性树脂组合物所希望的所谓“由于能形成透明性、耐热性、平整性优异的保护膜或层间绝缘膜，且涂布性、显影性优异，即使在大型衬底上也可容易形成均匀被膜，并且贮存稳定性良好”的特性得到更进一步提高的感光性树脂组合物以及使用其的图案形成的方法。本发明使构成组分至少为(a)不饱和羧酸或不饱和羧酸酐与含环氧基的聚合性不饱和化合物的共聚物、(b)必须具有苯乙烯和/或苯乙烯衍生物单体单元和不饱和有机酸单体单元的聚合物、(c)含有醌二叠氮基的化合物和(d)有机溶剂，并使与上述(b)聚合物的组成比平均值偏离超过3％的组成比的聚合物，相对于该(b)聚合物的含有比例为20质量％以下。

公开(公告)号：CN100432839C

公开(公告)日：2008-11-12

申请号：CN200410095130.4

申请日：2004-09-30

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 谷津克也

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供作为适用于形成液晶显示元件、集成电路元件、固体摄像元件等电子部件的保护膜和层间绝缘膜的感光性树脂组合物所希望的所谓“由于能形成透明性、耐热性、平整性优异的保护膜或层间绝缘膜，且涂布性、显影性优异，即使在大型衬底上也可容易形成均匀被膜，并且贮存稳定性良好”的特性得到更进一步提高的感光性树脂组合物以及使用其的图案形成的方法。本发明使构成组分至少为(a)不饱和羧酸或不饱和羧酸酐与含环氧基的聚合性不饱和化合物的共聚物、(b)必须具有苯乙烯和/或苯乙烯衍生物单体单元和不饱和有机酸单体单元的聚合物、(c)含有醌二叠氮基的化合物和(d)有机溶剂，并使与上述(b)聚合物的组成比平均值偏离超过3%的组成比的聚合物，相对于该(b)聚合物的含有比例为20质量%以下。