公开(公告)号：CN100380232C

公开(公告)日：2008-04-09

申请号：CN99118105.0

申请日：1999-08-17

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 水泽龙马 ,  朝日伸吉 ,  中里俊二 ,  带谷洋之

IPC: G03F7/035 ,  G03F7/027

CPC classification number: C08G18/3206 ,  B24C1/04 ,  C08G18/6492 ,  C08G18/672 ,  G03F7/027 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/112 ,  Y10S430/114

Abstract: 公开了一种砂磨用光敏组合物和具有包括该光敏组合物的光敏层的光敏膜层压物。所述光敏组合物包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团并具有如下结构单元的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)碱溶性化合物，和(C)光致聚合引发剂。

公开(公告)号：CN1245300A

公开(公告)日：2000-02-23

申请号：CN99118105.0

申请日：1999-08-17

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 水泽龙马 ,  朝日伸吉 ,  中里俊二 ,  带谷洋之

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/09

CPC classification number: C08G18/3206 ,  B24C1/04 ,  C08G18/6492 ,  C08G18/672 ,  G03F7/027 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/112 ,  Y10S430/114

Abstract: 公开了一种砂磨用光敏组合物和具有包括该光敏组合物的光敏层的光敏膜层压物。所述光敏组合物包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团并具有如右结构单元的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物,(B)碱溶性化合物,和(C)光致聚合引发剂。