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公开(公告)号：CN1770009A
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN200510117520.1
申请日：2005-11-02
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/00 , G03F7/20 , G03F7/38 , G03F7/30 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/38 , G03F7/2004 , G03F7/2006 , G03F7/2008 , G03F7/3021 , G03F7/70425 , G03F7/70558 , G03F7/70783
Abstract: 本发明提供一种图形形成方法，其包括在被处理基板上形成感光性树脂膜，对所述感光性树脂膜有选择地照射能量线，在多个曝光区域各自上形成预期的潜像图形，在形成所述潜像图形后，在设在热板上的衬垫上载置所述被处理基板，采用所述热板加热所述感光性树脂膜，为形成与所述潜像图形对应的感光性树脂膜图形而对所述感光性树脂膜显影，所述图形形成方法，在所述能量线的照射时，以使在所述被处理基板背面和所述热板表面的距离大的曝光区域的所述能量线的照射量，相对大于在所述被处理基板背面和所述热板表面的距离小的曝光区域的所述能量线的照射量的方式，设定所述能量线的照射量。
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公开(公告)号：CN1220245C
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN02103561.X
申请日：2002-02-07
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种图形形成方法，包含前处理工序、显影工序、及清洗工序；在该前处理工序中，将具有氧化作用的氧化性液体涂覆到曝光后的感光性抗蚀剂膜(301a、b)的表面，由该氧化性液体氧化该抗蚀剂膜的表面，形成氧化层(310)；在该显影工序中，向氧化了表面的上述感光性抗蚀剂膜供给显影液(302)，进行该抗蚀剂膜的显影；在该清洗工序中，向上述被处理基板的表面供给清洗液，对该基板进行清洗。这样，可抑制形成于抗蚀剂的图形的基板整个区域和微小区域的尺寸差，减少在显影工序中产生的缺陷。
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公开(公告)号：CN1367407A
公开(公告)日：2002-09-04
申请号：CN01145768.6
申请日：2001-12-26
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/16
CPC classification number: H01L21/6715 , B05C5/0254 , B05C11/08 , G03F7/168 , G03F7/3021 , G03F7/38 , G03F7/70358 , G03F7/70558 , H01L21/67109 , H01L21/67115
Abstract: 具有光刻胶膜的被处理衬底的加热装置。该加热装置具有:具有内部空间的腔室、腔室内用于加热被处理衬底的加热板、及隔壁部件。加热板具有在腔室内支承被处理衬底的载置面。隔壁部件跟载置面对向地配置在腔室内。并且,隔壁部件将内部空间分隔成第1和第2空间,同时具有连通第1和第2空间的多个孔。加热板的载置面配置于第1空间内。第2空间配置有用于形成气体流的气体流形成机构,用该机构排出由光刻胶膜产生的蒸发物。
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公开(公告)号：CN100573320C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200510117520.1
申请日：2005-11-02
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/00 , G03F7/20 , G03F7/38 , G03F7/30 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/38 , G03F7/2004 , G03F7/2006 , G03F7/2008 , G03F7/3021 , G03F7/70425 , G03F7/70558 , G03F7/70783
Abstract: 本发明提供一种图形形成方法，其包括在被处理基板上形成感光性树脂膜，对所述感光性树脂膜有选择地照射能量线，在多个曝光区域各自上形成预期的潜像图形，在形成所述潜像图形后，在设在热板上的衬垫上载置所述被处理基板，采用所述热板加热所述感光性树脂膜，为形成与所述潜像图形对应的感光性树脂膜图形而对所述感光性树脂膜显影，所述图形形成方法，在所述能量线的照射时，以使在所述被处理基板背面和所述热板表面的距离大的曝光区域的所述能量线的照射量，相对大于在所述被处理基板背面和所述热板表面的距离小的曝光区域的所述能量线的照射量的方式，设定所述能量线的照射量。
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公开(公告)号：CN100541330C
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200510082468.0
申请日：2001-12-26
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 为了提高涂布膜或光刻胶的均匀性，本发明提供了一种涂布膜加热装置和光刻胶的处理装置。本发明的涂布膜的加热装置具有内部空间的腔室；上述腔室内具有支撑被处理衬底的载置面并用于加热上述被处理衬底的加热板，所述被处理衬底具有涂布膜；以及对着上述载置面配置于上述腔室内的、用于吸附由上述被处理衬底产生的蒸发物的吸附板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1854907A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200610078614.7
申请日：2006-04-26
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/38 , H01L21/00 , H01L21/027
CPC classification number: F27B17/0025 , F27B5/04 , F27D3/0084 , H01L21/67109
Abstract: 本发明的一种实施方式基板处理方法，是使用具有开闭机构的加热处理装置对涂敷了包含有溶剂的膜的被处理基板逐个连续地进行加热处理的基板处理方法，其中，在第1被处理基板的处理与第2被处理基板的处理之间，在关闭上述开闭机构的状态下，向上述加热处理装置内供给含有被包含在上述第1被处理基板的膜中的溶剂的气体。
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公开(公告)号：CN1811603A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200610006126.5
申请日：2002-05-14
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/32 , G03F7/42 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/31133 , G03F7/3021 , G03F7/322 , G03F7/422 , G03F7/425
Abstract: 为抑制光刻胶膜显影时产生缺陷或者产生疏密图形尺寸差，利用显影液供给喷嘴111在表面已形成经曝光感光性光刻胶膜的被处理基板100上供给溶解有氧化性气体分子的显影液，进行感光性光刻胶膜的显影。
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公开(公告)号：CN1266549C
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN03102209.X
申请日：2003-01-28
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/30 , G03F7/26 , H01L21/027 , B05B1/00
CPC classification number: G03F7/3021 , H01L21/31133 , Y10S134/902
Abstract: 一种基板处理方法包括：向基板上提供处理液；从被设置在喷嘴上的第1喷出区域对基板连续喷出第1洗净液的同时，使上述喷嘴和上述基板相对地在一方向上移动；其中，上述第1喷出区域的与上述一方向正交的方向的长度，在上述基板的最大直径或者最长边同等长度以上；上述喷嘴，从第1吹出区域对上述基板连续吹付第1气体，第1吹出区域的与上述一方向正交的方向的长度，在上述基板的最大直径或者最长边的同等长度以上。
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公开(公告)号：CN1217234C
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：CN01145768.6
申请日：2001-12-26
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/16
CPC classification number: H01L21/6715 , B05C5/0254 , B05C11/08 , G03F7/168 , G03F7/3021 , G03F7/38 , G03F7/70358 , G03F7/70558 , H01L21/67109 , H01L21/67115
Abstract: 具有光刻胶膜的被处理衬底的加热装置。该加热装置具有：具有内部空间的腔室、腔室内用于加热被处理衬底的加热板、及隔壁部件。加热板具有在腔室内支承被处理衬底的载置面。隔壁部件跟载置面对向地配置在腔室内。并且，隔壁部件将内部空间分隔成第1和第2空间，同时具有连通第1和第2空间的多个孔。加热板的载置面配置于第1空间内。第2空间配置有用于形成气体流的气体流形成机构，用该机构排出由光刻胶膜产生的蒸发物。
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公开(公告)号：CN1435733A
公开(公告)日：2003-08-13
申请号：CN03102209.X
申请日：2003-01-28
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F7/30 , G03F7/26 , H01L21/027 , B05B1/00
CPC classification number: G03F7/3021 , H01L21/31133 , Y10S134/902
Abstract: 一种基板处理方法包括：向基板上提供处理液；从被设置在喷嘴上的第1喷出区域对基板连续喷出第1洗净液的同时，使上述喷嘴和上述基板相对地在一方向上移动；其中，上述第1喷出区域的与上述一方向正交的方向的长度，在上述基板的最大直径或者最长边同等长度以上；上述喷嘴，从第1吹出区域对上述基板连续吹付第1气体，第1吹出区域的与上述一方向正交的方向的长度，在上述基板的最大直径或者最长边的同等长度以上。
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