公开(公告)号：CN1435733A

公开(公告)日：2003-08-13

申请号：CN03102209.X

申请日：2003-01-28

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 早崎圭 ,  伊藤信一、 ,  江间达彦 ,  高桥理一郎

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027 ,  B05B1/00

CPC classification number: G03F7/3021 ,  H01L21/31133 ,  Y10S134/902

Abstract: 一种基板处理方法包括：向基板上提供处理液；从被设置在喷嘴上的第1喷出区域对基板连续喷出第1洗净液的同时，使上述喷嘴和上述基板相对地在一方向上移动；其中，上述第1喷出区域的与上述一方向正交的方向的长度，在上述基板的最大直径或者最长边同等长度以上；上述喷嘴，从第1吹出区域对上述基板连续吹付第1气体，第1吹出区域的与上述一方向正交的方向的长度，在上述基板的最大直径或者最长边的同等长度以上。