聚合物、光敏树脂组合物、图案形成方法、光敏干膜以及电气及电子部件保护用覆膜

    公开(公告)号:CN110790928A

    公开(公告)日:2020-02-14

    申请号:CN201910708540.8

    申请日:2019-08-01

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种聚合物,其易溶于广泛使用且安全的有机溶剂,可溶于碱性水溶液,且能够作为可形成精细图案并能够得到高分辨率的正型光敏树脂组合物的基础树脂而使用。所述聚合物具有聚酰胺、聚酰胺酰亚胺或聚酰亚胺结构单元,其特征在于,所述聚合物选自聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑、聚苯并噁唑前体,所述聚合物包含二胺与下述通式(3)所表示的四羧酸二酐及下述通式(4)所表示的二羧酸或二羧酸卤化物中的任意一种以上的反应生成物,所述二胺含有下述通式(1)所表示的二胺及通式(2)所表示的二胺中的任意一种以上。[化学式1][化学式2][化学式3] [化学式4]。

    半导体装置、积层型半导体装置、密封后积层型半导体装置、以及这些装置的制造方法

    公开(公告)号:CN106249542A

    公开(公告)日:2016-12-21

    申请号:CN201610405479.6

    申请日:2016-06-08

    Abstract: 本发明提供一种半导体装置,其利用在半导体元件上实施微细电极形成,并在半导体元件外部实施贯穿电极,使在配线基板上的载置和半导体装置的积层变得容易。为了解决上述课题,本发明提供一种半导体装置,其具有半导体元件、和与所述半导体元件电连接的半导体元件上金属焊盘及金属配线,所述金属配线与贯穿电极及焊料凸块电连接,其中,在所述半导体元件上形成有第一感光性绝缘层,在所述第一感光性绝缘层上形成有第二感光性绝缘层,所述第一感光性绝缘层及所述第二感光性绝缘层由光固化性树脂组合物形成,所述光固化性树脂组合物含有:具有由下述通式(1)及(2)所表示的重复单元的硅酮高分子化合物、光致产酸剂、溶剂及交联剂,

    负型感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、及表面保护膜

    公开(公告)号:CN115113482A

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202210286300.5

    申请日:2022-03-22

    Abstract: 本发明涉及负型感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、及表面保护膜。本发明的课题是为了提供在碱水溶液中为可溶,可形成微细的图案并能获得高分辨率,且即使在低温硬化时,断裂延伸率、拉伸强度等机械特性仍良好的负型感光性树脂组成物。该课题的解决手段是一种负型感光性树脂组成物,其特征为含有:(A)含有选自聚酰亚胺结构、聚酰胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱物结构中的至少1种以上的结构的碱可溶性树脂,(B)具有环化聚合而成的结构单元的高分子化合物,(C)因光而产生酸的化合物,及(D)热交联剂。

    聚合物、光敏树脂组合物、图案形成方法、光敏干膜以及电气及电子部件保护用覆膜

    公开(公告)号:CN110790928B

    公开(公告)日:2022-06-07

    申请号:CN201910708540.8

    申请日:2019-08-01

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种聚合物,其易溶于广泛使用且安全的有机溶剂,可溶于碱性水溶液,且能够作为可形成精细图案并能够得到高分辨率的正型光敏树脂组合物的基础树脂而使用。所述聚合物具有聚酰胺、聚酰胺酰亚胺或聚酰亚胺结构单元,其特征在于,所述聚合物选自聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚苯并噁唑、聚苯并噁唑前体,所述聚合物包含二胺与下述通式(3)所表示的四羧酸二酐及下述通式(4)所表示的二羧酸或二羧酸卤化物中的任意一种以上的反应生成物,所述二胺含有下述通式(1)所表示的二胺及通式(2)所表示的二胺中的任意一种以上。[化学式1][化学式2][化学式3][化学式4]。

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