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公开(公告)号：CN119955091A
公开(公告)日：2025-05-09
申请号：CN202411571755.7
申请日：2024-11-06
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及聚合物、正型及负型感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜、及电子零件。本发明课题为提供可溶于碱水溶液、可形成微细图案且可获得高分辨率且即使于低温硬化时其机械特性仍良好的可使用作为正型及负型感光性树脂组成物的基础树脂的聚合物。该课题解决手段为一种聚合物，含有通式(1)及/或(2)的结构单元与通式(3)及/或(4)的结构单元。#imgabs0#X1为4价有机基团，R1～R4为1价有机基团或氢原子且至少1者为1价有机基团，L为2价有机基团或2价原子。#imgabs1#X2为2价有机基团，R1～R4及L同前。#imgabs2#X3为4价有机基团，s为0或1，Z为2价键结基团。#imgabs3#X4为2价有机基团，s及Z同前。
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公开(公告)号：CN119439625A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411047002.6
申请日：2024-08-01
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: [课题]提供一种负型感光性树脂组合物、图案形成方法、固化覆膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜和电子部件，所述负型感光性树脂组合物可溶于碱水溶液，能够形成微细的图案且能够得到高分辨率，并且，即便在低温下进行固化的情况下，断裂伸长率、拉伸强度之类的机械特性也良好，进而，高温高湿试验前后的密合力不会劣化。[解决手段]一种负型感光性树脂组合物，其特征在于，包含(A)聚合物、(B)光产酸剂、(C)交联剂、(D)溶剂，所述(A)聚合物包含下述通式(1)和/或(2)所示的结构单元，且包含下述通式(3)和/或(4)所示的结构单元。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111830785B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202010291525.0
申请日：2020-04-14
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/32 , C08G73/10 , C08G73/14
Abstract: 本发明涉及树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、表面保护膜及电子零件。本发明的课题目的为提供一种正型感光性树脂组成物，能形成微细的图案且可获得高分辨率，且即使在低温硬化时，机械特性仍良好。该课题的解决方法为一种正型感光性树脂组成物，其特征为含有：(A‑1)碱可溶性树脂，至少包含选自于聚酰亚胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱体结构中的1种以上的结构；(A‑2)树脂，至少包含选自于不具碱可溶性基团而在分子末端具有至少具有1个以上的氮原子的杂环骨架的聚酰亚胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱体结构中的1种以上的结构；(B)特定感光剂；及(D)溶剂。
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公开(公告)号：CN110176432B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN201910491197.6
申请日：2015-03-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: H01L23/12 , H01L23/538 , H01L23/31 , H01L23/498 , H01L21/768 , H01L25/03 , H01L25/065 , H01L25/10 , H01L21/02 , H01L21/48 , H01L21/56 , B23K1/00 , B29C70/78 , B29C70/88 , C23C14/04 , C23C14/34 , C23C14/58 , C25D3/60 , C25D5/02 , C25D5/48 , C25D5/50 , C25D5/54 , C25D7/00 , C25D7/12 , H05K1/11 , H05K3/28 , H05K3/34 , H05K3/40
Abstract: 本发明是一种半导体装置，其具有半导体元件和与半导体元件电连接的半导体元件上金属焊盘和金属配线，金属配线与贯穿电极和焊料凸块电连接，其中，所述半导体装置，具有载置有半导体元件的第一绝缘层、形成于半导体元件上的第二绝缘层以及形成于第二绝缘层上的第三绝缘层；金属配线，在第二绝缘层的上表面，通过半导体元件上金属焊盘而与半导体元件电连接，并且自第二绝缘层的上表面贯穿第二绝缘层并在第二绝缘层的下表面与贯穿电极电连接；并且，在第一绝缘层与半导体元件之间配置有半导体元件下金属配线，半导体元件下金属配线，在第二绝缘层的下表面与金属配线电连接。据此，提供一种半导体装置，容易载置于配线基板上和积层半导体装置，即便在金属配线的密度较大的情况下，也可以抑制半导体装置翘曲。
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公开(公告)号：CN115113484A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210288306.6
申请日：2022-03-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及正型感光性树脂组成物、正型感光性干薄膜及其制造方法、图案形成方法。本发明的课题是为了提供在碱水溶液中为可溶，不会损及保护被膜的机械特性、密接性等优良的特征并能获得高分辨率，且即使在低温硬化时，机械特性、对基板的密接性仍良好的正型感光性树脂组成物、正型感光性干薄膜。该课题的解决手段是一种正型感光性树脂组成物，其特征为含有：(A)含有选自聚酰亚胺结构、聚酰胺结构、聚苯并噁唑结构、聚酰胺酰亚胺结构、它们的前驱物结构中的至少1种以上的结构的碱可溶性树脂，(B)具有环化聚合而成的结构单元的高分子化合物，及(C)因光而产生酸并使其对碱水溶液的溶解速度增加的感光剂，且具有重氮醌结构的化合物。
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公开(公告)号：CN106415823B
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201580018117.5
申请日：2015-03-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: H01L23/12 , C25D5/02 , C25D7/00 , H01L21/312 , H01L23/52 , H01L25/10 , H01L25/11 , H01L25/18 , H05K1/11 , H05K3/00 , H05K3/28 , H05K3/40
Abstract: 本发明是一种半导体装置，其具有半导体元件以及与半导体元件电连接的半导体元件上金属焊盘和金属配线，金属配线与贯穿电极和焊料凸块电连接，其中，所述半导体装置，具有载置有半导体元件的第一绝缘层、形成于半导体元件上的第二绝缘层以及形成于第二绝缘层上的第三绝缘层；金属配线，在第二绝缘层的上表面，通过半导体元件上金属焊盘而与半导体元件电连接，且自第二绝缘层的上表面贯穿第二绝缘层并在第二绝缘层的下表面与贯穿电极电连接。据此，提供一种半导体装置，容易载置于配线基板上和积层半导体装置，即便在金属配线的密度较大的情况下，也可以抑制半导体装置翘曲。
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公开(公告)号：CN113527680B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN202011486388.2
申请日：2020-12-16
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 国际商业机器公司
Abstract: 本发明的技术问题在于提供一种聚合物，该聚合物能够用作可溶于碱性水溶液、可形成微细图案、可获得高分辨率，并且即使在低温下进行固化时机械特性仍良好的正型光敏性树脂组合物及负型光敏性树脂组合物的基础树脂。此外，还提供使用了所述聚合物的正型光敏性树脂组合物及负型光敏性树脂组合物。所述聚合物的特征在于，含有下述通式(1)和/或(2)表示的结构单元。式中，T1、T2任选彼此相同或不同，表示‑CO‑、‑SO2‑中的任意一种，X1为4价有机基团，l为0或1。式中，T1、T2、l与所述T1、T2、l相同，X2为2价有机基团。
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公开(公告)号：CN115044040A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210219992.1
申请日：2022-03-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及含有聚酰亚胺的聚合物、正型感光性树脂组成物、负型感光性树脂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供溶剂溶解性良好且可溶于碱性水溶液中，又可形成微细图案且能获得高分辨率的正型感光性树脂组成物及负型感光性树脂组成物；可使用作为它们的基础树脂的含有聚酰亚胺的聚合物；以及使用了上述组成物的图案形成方法及硬化被膜形成方法。上述课题的解决手段为一种聚合物，其特征为：包含下列通式(1)表示的结构单元。式中，X1为4价的有机基团，Z1为2价的有机基团，k＝1～3的整数。
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公开(公告)号：CN114253069A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202111107270.9
申请日：2021-09-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/075 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、和表面保护膜。本发明的课题是提供一种感光性树脂组成物、使用前述感光性树脂组成物的图案形成方法、硬化膜、具有前述硬化膜的电子零件。该课题的解决手段为一种感光性树脂组成物，其含有：(A)树脂、(B)感光剂、(C)含有下述平均实验式(1)表示的结构单元的表面活性剂及(D)溶剂。(R1R2Y2SiO1/2)2(R3Y1SiO2/2)l(R5R6SiO2/2)n(R4SiO3/2)m(1)式中，Y1、Y2分别独立地为氢原子、甲基、苯基或下述式(2)表示的基团，而且Y1、Y2中的至少一者为下述式(2)表示的基团，R1～R6可相同也可相异地为也可含有杂原子的碳数1～20的1价烃基，l、n分别独立地为1～100的整数，m为0～100的整数。
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