公开(公告)号：CN108732868B

公开(公告)日：2022-12-13

申请号：CN201810340335.6

申请日：2018-04-17

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 平野祯典 ,  浅井聪 ,  近藤和纪

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明为正型抗蚀剂膜层合体和图案形成方法。提供了包括热塑性膜和正型抗蚀剂膜的层合体，所述正型抗蚀剂膜包括(A)酚醛清漆树脂‑萘醌二叠氮化物(NQD)系树脂组合物，(B)聚酯和(C)3‑30重量％的有机溶剂。可以将所述抗蚀剂膜转印至有阶梯的支持体而不形成空隙。

公开(公告)号：CN111338181B

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN201911315425.0

申请日：2019-12-19

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 平野祯典 ,  菅生道博 ,  浅井聪 ,  五井孝浩

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/075

Abstract: 本发明提供感光性树脂组合物、感光性干膜和图案形成方法。包含以下的感光性树脂组合物具有改进的膜性质：含有硅亚苯基骨架和芴骨架并且在分子内具有可交联位点的聚合物，Mw为300‑10,000的酚化合物，光致产酸剂，和苯并三唑或咪唑化合物。即使由厚膜，也可形成细微尺寸图案。

公开(公告)号：CN105404096B

公开(公告)日：2021-07-16

申请号：CN201510564914.5

申请日：2015-09-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 平野祯典 ,  浅井聪 ,  柳泽秀好

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/09 ,  G03F7/16

Abstract: 待在支持膜上形成的化学增幅型正型抗蚀剂干膜包含5‑40重量％的在大气压下具有55℃至250℃的沸点的组分。可以通过简单的步骤制备具有柔性和尺寸稳定性的抗蚀剂干膜。可以将所述抗蚀剂干膜有效地和简易地置于制品上并加工，以形成图案。

公开(公告)号：CN105404096A

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：CN201510564914.5

申请日：2015-09-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 平野祯典 ,  浅井聪 ,  柳泽秀好

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/09 ,  G03F7/16

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/11 ,  G03F7/168

Abstract: 待在支持膜上形成的化学增幅型正型抗蚀剂干膜包含5-40重量％的在大气压下具有55℃至250℃的沸点的组分。可以通过简单的步骤制备具有柔性和尺寸稳定性的抗蚀剂干膜。可以将所述抗蚀剂干膜有效地和简易地置于制品上并加工，以形成图案。

公开(公告)号：CN111338181A

公开(公告)日：2020-06-26

申请号：CN201911315425.0

申请日：2019-12-19

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 平野祯典 ,  菅生道博 ,  浅井聪 ,  五井孝浩

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/075

Abstract: 本发明提供感光性树脂组合物、感光性干膜和图案形成方法。包含以下的感光性树脂组合物具有改进的膜性质：含有硅亚苯基骨架和芴骨架并且在分子内具有可交联位点的聚合物，Mw为300-10,000的酚化合物，光致产酸剂，和苯并三唑或咪唑化合物。即使由厚膜，也可形成细微尺寸图案。

公开(公告)号：CN108107676A

公开(公告)日：2018-06-01

申请号：CN201711186205.3

申请日：2017-11-24

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 平野祯典 ,  浅井聪 ,  近藤和纪

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/016 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/161 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0163

Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂膜层叠体和图案形成方法。提供层叠体，其包括热塑性膜和其上的化学增幅正型抗蚀剂膜，该抗蚀剂膜包含：(A)具有羟基苯基和保护基团的基础聚合物，该聚合物由于在酸的作用下保护基团被除去而变为碱可溶，(B)光致产酸剂，(C)有机溶剂，和(D)在其主链中具有酯键的聚合物。该抗蚀剂膜可被转印至台阶形支承体而不形成空隙。

公开(公告)号：CN106610566A

公开(公告)日：2017-05-03

申请号：CN201610948118.6

申请日：2016-10-27

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 平野祯典 ,  柳泽秀好

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/322 ,  G03F7/40 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004

Abstract: 提供了化学增幅型正型抗蚀剂组合物，其包括在有机溶剂中的适应于在酸的作用下变成可溶于碱性水溶液中的特定的碱溶性聚合物作为基础树脂，碱溶性聚合物和光致产酸剂。所述组合物形成抗蚀剂膜，所述抗蚀剂膜可以短时间显影从而以高感光度形成图案而不在图案侧壁中产生凹坑。

公开(公告)号：CN114600045B

公开(公告)日：2025-05-09

申请号：CN202080073517.7

申请日：2020-09-24

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 平野祯典 ,  浅井聪 ,  五井孝浩

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/032 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

Abstract: 提供感光性树脂组合物，其包含：(A)包含由下述式(A1)表示的重复单元、和选自由下述式(A2)表示的重复单元及由下述式(A3)表示的重复单元中的至少1种的聚合物、(B)在1分子中平均包含4个以上的环氧基的环氧化合物、(C)光致产酸剂、(D)苯并三唑化合物和/或咪唑化合物、和(E)有机溶剂。#imgabs0#

公开(公告)号：CN108107676B

公开(公告)日：2023-02-21

申请号：CN201711186205.3

申请日：2017-11-24

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 平野祯典 ,  浅井聪 ,  近藤和纪

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/016 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂膜层叠体和图案形成方法。提供层叠体，其包括热塑性膜和其上的化学增幅正型抗蚀剂膜，该抗蚀剂膜包含：(A)具有羟基苯基和保护基团的基础聚合物，该聚合物由于在酸的作用下保护基团被除去而变为碱可溶，(B)光致产酸剂，(C)有机溶剂，和(D)在其主链中具有酯键的聚合物。该抗蚀剂膜可被转印至台阶形支承体而不形成空隙。

公开(公告)号：CN108459469B

公开(公告)日：2022-11-11

申请号：CN201810153834.4

申请日：2018-02-22

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 平野祯典 ,  柳泽秀好

IPC: G03F7/039

Abstract: 本发明为图案形成方法。通过以下形成图案：(i)将包括(A)基础树脂、(B)光致产酸剂、(C)有机溶剂和(D)聚乙烯醇或聚乙烯基烷基醚的化学增幅正型抗蚀剂组合物施加至基板上以在其上形成抗蚀剂膜，(ii)将抗蚀剂膜曝光至辐射，和(iii)采用含氧气的气体干法蚀刻抗蚀剂膜以显影。使用所述化学增幅正型抗蚀剂组合物，经由干法显影形成正型图案而不需要硅烷化。