公开(公告)号：CN101164013A

公开(公告)日：2008-04-16

申请号：CN200680004726.6

申请日：2006-02-22

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： R·D·艾伦 ,  P·J·布罗克 ,  D·吉尔 ,  W·D·欣斯伯格 ,  C·E·拉森 ,  L·K·森德伯格 ,  G·M·沃尔拉夫

IPC: G03C1/00

CPC classification number: G03F7/11 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 公开了在光致抗蚀剂材料上涂施的表面涂料。该表面涂料包含至少一种溶剂和在含水碱性显影剂中具有至少3000/秒的溶解速率的聚合物。该聚合物含有六氟醇单体单元，该单元包含下列两种结构之一：(I)，其中n是整数。该表面涂料可用在光刻法中，其中将该表面涂料涂施在光致抗蚀剂层上。表面涂料优选不溶于水，因此特别可用在使用水作为成像介质的浸渍光刻技术中。

公开(公告)号：CN114651358B

公开(公告)日：2024-09-03

申请号：CN202080077824.2

申请日：2020-10-22

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： 罗英惠 ,  金暲祐 ,  R·D·艾伦 ,  J·德索扎 ,  J·科林斯 ,  D·萨达纳

IPC: H01M10/0568 ,  H01M4/38

Abstract: 一种电池，包括：正极，该正极具有金属卤化物和导电材料，其中该金属卤化物充当活性正极材料；多孔硅负极，该多孔硅负极具有含有孔的表面，该孔具有约0.5微米至约500微米的深度，并且该多孔硅负极包括在该表面上和在该孔中的至少一些中的金属；以及与该负极和该正极接触的电解质，其中该电解质包括腈部分。

公开(公告)号：CN116529298A

公开(公告)日：2023-08-01

申请号：CN202180080582.7

申请日：2021-12-02

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： G·布雷耶塔 ,  R·D·艾伦 ,  N·S·帕拉赫

IPC: C08J11/04

Abstract: 通过将废聚酯材料溶解在包含六氟异丙醇(HFIPA)和氯化烃(例如二氯甲烷(DCM))和/或芳烃(例如甲苯或二甲苯)的溶液中以形成溶解的聚酯样品，制备该材料用于再循环。溶解的聚酯可以通过蒸发、喷雾干燥和/或沉淀制备以便再循环，这产生纯化的固体聚酯产物。与纯化的固体聚酯产物分离的溶解溶液也通过蒸馏与纯化而再循环。

公开(公告)号：CN106980235A

公开(公告)日：2017-07-25

申请号：CN201611129943.X

申请日：2010-08-03

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： R·A·迪佩托 ,  R·D·艾伦 ,  P·J·布罗克 ,  H·特鲁昂

IPC: G03F7/039

Abstract: 本发明涉及化学放大型光致抗蚀剂组合物及其使用方法。光致抗蚀剂组合物包含酚醛聚合物与无含醚部分和/或含羧酸部分的(甲基)丙烯酸酯基共聚物的掺合物及光酸产生剂。该(甲基)丙烯酸酯共聚物包含第一单体，其选自由以下各物组成的组：丙烯酸烷基酯、取代的丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸烷基酯、取代的甲基丙烯酸烷基酯及其混合物；和第二单体，其选自由以下各物组成的组：丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸酯或其混合物，该第二单体具有酸可裂解的酯取代基。本文也公开利用该光致抗蚀剂组合物在基板上生成光致抗蚀剂图像的方法。

公开(公告)号：CN104007623A

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：CN201410061770.7

申请日：2014-02-24

Applicant: 国际商业机器公司 ,  JSR株式会社

Inventor： R·D·艾伦 ,  R·阿约西 ,  L·D·玻加诺 ,  W·D·辛斯伯格 ,  L·K·桑德伯格 ,  S·A·斯万松 ,  H·D·特鲁昂 ,  G·M·瓦尔拉夫

IPC: G03F7/32 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 提供用包含有机显像剂溶剂显像正色调化学增强抗蚀剂的方法，所述有机显像剂溶剂具有单独或者与其它有机溶剂如异丙醇和/或水组合的至少一种多元醇，例如乙二醇和/或甘油。本文所述有机溶剂显像正色调抗蚀剂用于光刻图案形成方法；用于生产半导体器件，例如集成电路(IC)；以及用于其中碱性溶剂不合适的应用，例如用生物分子阵列图案化的芯片的生产或不需要存在酸结构部分的去保护应用。

公开(公告)号：CN102317350B

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：CN201080008226.6

申请日：2010-02-18

Applicant: 国际商业机器公司 ,  中央硝子株式会社

Inventor： R·D·艾伦 ,  罗荣慧 ,  R·索里亚库马兰 ,  藤原昌生 ,  山中一广

IPC: C08G69/28 ,  B01D69/12 ,  B01D71/56 ,  B01D67/00

CPC classification number: C08G69/28 ,  B01D61/025 ,  B01D61/027 ,  B01D67/0006 ,  B01D69/02 ,  B01D69/125 ,  B01D71/56 ,  B01D2323/40 ,  B01D2325/30 ,  C08G69/26 ,  C08G69/42 ,  Y02A20/131

Abstract: 聚合物膜包括载体上的活性层。活性层包括具有骨架的聚合物，和所述骨架附着至少一种氟代醇部分。

公开(公告)号：CN102597138A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201080049821.4

申请日：2010-09-14

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： R·苏里亚库马兰 ,  R·D·艾伦 ,  P·J·布洛克 ,  S·A·斯万松 ,  H·特鲁昂 ,  K-J·陈 ,  W-S·黄 ,  A·弗里兹

IPC: C09D143/04 ,  G03F7/075 ,  G03F7/00

CPC classification number: C09D143/04 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明公开了涂料组合物，其包含其中R1为含硅结构部分，R2为酸稳定的内酯官能团，且R3为酸不稳定的内酯官能团；X1、X2、X3独立地为H或CH3；和m和o为非零正整数且n为零或正整数(表示重复单元数)的聚合物(I)、光酸产生剂和溶剂。本发明还公开了在含有相同组分的涂料组合物中形成图案的方法。

公开(公告)号：CN102472971A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080036675.1

申请日：2010-08-03

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： R·A·迪佩托 ,  R·D·艾伦 ,  P·J·布罗克 ,  H·特鲁昂

IPC: G03F7/039

Abstract: 光致抗蚀剂组合物包含酚醛聚合物与无含醚部分和/或含羧酸部分的(甲基)丙烯酸酯基共聚物的掺合物及光酸产生剂。该(甲基)丙烯酸酯共聚物包含第一单体，其选自由以下各物组成的组：丙烯酸烷基酯、取代的丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸烷基酯、取代的甲基丙烯酸烷基酯及其混合物；和第二单体，其选自由以下各物组成的组：丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸酯或其混合物，该第二单体具有酸可裂解的酯取代基。本发明也公开利用该光致抗蚀剂组合物在基板上生成光致抗蚀剂图像的方法。

公开(公告)号：CN1292002A

公开(公告)日：2001-04-18

申请号：CN99803249.2

申请日：1999-02-19

Applicant: B.F.谷德里奇公司 ,  国际商业机器公司

Inventor： S·杰雅拉曼 ,  B·L·谷德戴尔 ,  L·F·罗迪斯 ,  R·A·西克 ,  R·维卡里 ,  R·D·艾伦 ,  J·欧皮兹 ,  R·苏利亚库马兰 ,  T·瓦罗

IPC: C08F32/08 ,  C08F232/08 ,  C08G61/08 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08F232/08 ,  C08G61/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/115

Abstract: 公开了含有芳香侧基单元的多环类聚合物。聚合物对远UV波长显示出光学透明性,从而能在高分辨率照相平版印刷行业中应用。这些聚合物特别适用于化学放大的正性和负性光刻胶。