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公开(公告)号：CN102317350A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201080008226.6
申请日：2010-02-18
CPC classification number: C08G69/28 , B01D61/025 , B01D61/027 , B01D67/0006 , B01D69/02 , B01D69/125 , B01D71/56 , B01D2323/40 , B01D2325/30 , C08G69/26 , C08G69/42 , Y02A20/131
Abstract: 聚合物膜包括载体上的活性层。活性层包括具有骨架的聚合物，和所述骨架附着至少一种氟代醇部分。
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公开(公告)号：CN102317350B
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201080008226.6
申请日：2010-02-18
CPC classification number: C08G69/28 , B01D61/025 , B01D61/027 , B01D67/0006 , B01D69/02 , B01D69/125 , B01D71/56 , B01D2323/40 , B01D2325/30 , C08G69/26 , C08G69/42 , Y02A20/131
Abstract: 聚合物膜包括载体上的活性层。活性层包括具有骨架的聚合物，和所述骨架附着至少一种氟代醇部分。
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公开(公告)号：CN102472971B
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201080036675.1
申请日：2010-08-03
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03F7/039
Abstract: 光致抗蚀剂组合物包含酚醛聚合物与无含醚部分和/或含羧酸部分的(甲基)丙烯酸酯基共聚物的掺合物及光酸产生剂。该(甲基)丙烯酸酯共聚物包含第一单体，其选自由以下各物组成的组：丙烯酸烷基酯、取代的丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸烷基酯、取代的甲基丙烯酸烷基酯及其混合物；和第二单体，其选自由以下各物组成的组：丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸酯或其混合物，该第二单体具有酸可裂解的酯取代基。本文也公开利用该光致抗蚀剂组合物在基板上生成光致抗蚀剂图像的方法。
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公开(公告)号：CN103768640B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201310486619.3
申请日：2013-10-17
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: A61L15/24
CPC classification number: A61L31/04 , A61L15/225
Abstract: 本文描述了一种创伤敷料以及制备创伤敷料的方法。该创伤敷料由吸收性基材(由一层或多层形成)和设置在基材上的低粘附层形成。低粘附层可以设置在至少一部分基材之内。低粘附层由至少一种高度氟化聚合物和至少一种酸性聚合物的混合物形成。所述的至少一种高度氟化聚合物具有的氟含量高于所述的至少一种酸性聚合物的氟含量。
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公开(公告)号：CN1315906C
公开(公告)日：2007-05-16
申请号：CN99804515.2
申请日：1999-02-19
CPC classification number: G03F7/039 , C08G61/02 , C08G61/08 , G03F7/0045 , G03F7/0395 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及环状聚合物和其在照相平版印刷应用中的用途。这些环状聚合物含有酸不稳定官能侧基和含保护的羟基部分的官能基团。这些聚合物通过使羟基侧基部分脱保护并使该含脱保护羟基的部分与共反应剂反应而进行后改性。发现这些后-官能化的聚合物可用于化学放大光刻胶组合物中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114651358A
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202080077824.2
申请日：2020-10-22
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: H01M10/0568 , H01M4/38
Abstract: 一种电池，包括：正极，该正极具有金属卤化物和导电材料，其中该金属卤化物充当活性正极材料；多孔硅负极，该多孔硅负极具有含有孔的表面，该孔具有约0.5微米至约500微米的深度，并且该多孔硅负极包括在该表面上和在该孔中的至少一些中的金属；以及与该负极和该正极接触的电解质，其中该电解质包括腈部分。
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公开(公告)号：CN102482533B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201080038243.4
申请日：2010-08-23
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: C08G77/14 , C09D183/04 , C09D183/14 , H01L21/312
Abstract: 本发明涉及倍半硅氧烷聚合物、在负型可光图案化介电配制剂中的倍半硅氧烷聚合物、使用含有倍半硅氧烷聚合物的可光图案化介电配制剂的形成构件的方法和由倍半硅氧烷聚合物制造的构件。
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公开(公告)号：CN103768640A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201310486619.3
申请日：2013-10-17
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: A61L15/24
CPC classification number: A61L31/04 , A61L15/225
Abstract: 本文描述了一种创伤敷料以及制备创伤敷料的方法。该创伤敷料由吸收性基材(由一层或多层形成)和设置在基材上的低粘附层形成。低粘附层可以设置在至少一部分基材之内。低粘附层由至少一种高度氟化聚合物和至少一种酸性聚合物的混合物形成。所述的至少一种高度氟化聚合物具有的氟含量高于所述的至少一种酸性聚合物的氟含量。
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公开(公告)号：CN100561337C
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200480031181.9
申请日：2004-10-22
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03C1/76
CPC classification number: G03F7/0757 , G03F7/0045 , G03F7/0046
Abstract: 本发明提供了倍半硅氧烷聚合物、含有所述倍半硅氧烷聚合物的抗蚀剂组合物，其中至少部分倍半硅氧烷聚合物含有氟化残基并且至少部分倍半硅氧烷聚合物含有对于酸催化断裂而言具有低活化能的作为侧基的抑制溶解度的酸不稳定残基，并且使高光学密度的存在最小化或得以避免。本发明的聚合物还含有提高抗蚀剂在碱性水溶液中的碱溶解度的作为侧基的极性残基。本发明的聚合物特别可用于正性抗蚀剂组合物。本发明包括将所述抗蚀剂组合物用于在基材上形成图案结构的方法，特别是多层(例如双层)光刻法，所述光刻法能够在波长为例如193nm和157nm下生产高分辨率的图像。
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公开(公告)号：CN1871550A
公开(公告)日：2006-11-29
申请号：CN200480031181.9
申请日：2004-10-22
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03C1/76
CPC classification number: G03F7/0757 , G03F7/0045 , G03F7/0046
Abstract: 本发明提供了倍半硅氧烷聚合物、含有所述倍半硅氧烷聚合物的抗蚀剂组合物，其中至少部分倍半硅氧烷聚合物含有氟化残基并且至少部分倍半硅氧烷聚合物含有对于酸催化断裂而言具有低活化能的作为侧基的抑制溶解度的酸不稳定残基，并且使高光学密度的存在最小化或得以避免。本发明的聚合物还含有提高抗蚀剂在碱性水溶液中的碱溶解度的作为侧基的极性残基。本发明的聚合物特别可用于正性抗蚀剂组合物。本发明包括将所述抗蚀剂组合物用于在基材上形成图案结构的方法，特别是多层(例如双层)光刻法，所述光刻法能够在波长为例如193nm和157nm下生产高分辨率的图像。
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