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公开(公告)号：CN102317350B
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201080008226.6
申请日：2010-02-18
CPC classification number: C08G69/28 , B01D61/025 , B01D61/027 , B01D67/0006 , B01D69/02 , B01D69/125 , B01D71/56 , B01D2323/40 , B01D2325/30 , C08G69/26 , C08G69/42 , Y02A20/131
Abstract: 聚合物膜包括载体上的活性层。活性层包括具有骨架的聚合物，和所述骨架附着至少一种氟代醇部分。
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公开(公告)号：CN102317349B
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201080007524.3
申请日：2010-02-18
CPC classification number: C08G69/28 , B01D61/025 , B01D67/0006 , B01D69/125 , B01D71/56 , B01D2323/40
Abstract: 一种方法，其包括以下步骤：使化学混合物(A)与化学混合物(B)反应以形成聚合化合物，其中(A)与(B)彼此不混溶，且其中：(A)为含水碱，其包含由式1：CF 3HO--R 0-(-NH2)mCF3Z n n表示的具有一个或多个六氟代醇基团的单体多元胺反应物，在式1中R0表示选自脂族基、脂环基、芳基、杂环基及其组合的有机基团，m为2或更大的整数，且n为1或更大的整数；和(B)为有机的且包含由式2：R1-(-COx)p表示的单体多官能酰卤反应物，在式2中R1表示选自含有脂族脂环基、芳基、杂环基及其组合的组的有机基团，X选自氟、氯、溴和碘，且p表示2或更大的整数。
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公开(公告)号：CN102317349A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201080007524.3
申请日：2010-02-18
CPC classification number: C08G69/28 , B01D61/025 , B01D67/0006 , B01D69/125 , B01D71/56 , B01D2323/40
Abstract: 一种方法，其包括以下步骤：使化学混合物(A)与化学混合物(B)反应以形成聚合化合物，其中(A)与(B)彼此不混溶，且其中：(A)为含水碱，其包含由式1：CF 3HO--R 0-(-NH2)mCF3Z n n表示的具有一个或多个六氟代醇基团的单体多元胺反应物，在式1中R0表示选自脂族基、脂环基、芳基、杂环基及其组合的有机基团，m为2或更大的整数，且n为1或更大的整数；和(B)为有机的且包含由式2：R1-(-COx)p表示的单体多官能酰卤反应物，在式2中R1表示选自含有脂族脂环基、芳基、杂环基及其组合的组的有机基团，X选自氟、氯、溴和碘，且p表示2或更大的整数。
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公开(公告)号：CN102317350A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201080008226.6
申请日：2010-02-18
CPC classification number: C08G69/28 , B01D61/025 , B01D61/027 , B01D67/0006 , B01D69/02 , B01D69/125 , B01D71/56 , B01D2323/40 , B01D2325/30 , C08G69/26 , C08G69/42 , Y02A20/131
Abstract: 聚合物膜包括载体上的活性层。活性层包括具有骨架的聚合物，和所述骨架附着至少一种氟代醇部分。
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公开(公告)号：CN103890100B
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201280052834.6
申请日：2012-10-16
Applicant: 中央硝子株式会社
CPC classification number: C08G77/04 , C08G77/045 , C08G77/12 , C08G77/20 , C08G77/80 , C08L63/00 , C08L83/04 , H01L23/296 , H01L2924/0002 , C08L83/00 , H01L2924/00
Abstract: 得到即便在130℃以上的高温下长时间暴露也不劣化、具有更好的耐热性的耐热性密封材料用的材料。一种组合物，包含通式(1)所示的硅氧烷化合物(A)以及金属化合物，式中，X用通式X1或X2表示，X1为1～8，X2为0～7；R1～R4为氢原子，碳原子数1～8的烷基、烯基、炔基，或碳原子数6～8的芳基，氢原子可以被氟原子取代；R5为碳原子数1～18的烷基、烯基、炔基或芳基，氢原子可以被氟原子取代，碳原子可以被氧原子或氮原子置换；R6为氢原子或乙烯基；m、n为1～4，3≤m+n。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104837809A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201380062274.7
申请日：2013-11-26
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: C07C215/68 , C07C213/00 , C08G69/26 , C08G73/06 , C08G73/10 , C09K11/06
CPC classification number: C08G73/06 , C07C215/68 , C07C215/70 , C07C217/90 , C07C225/22 , C07C317/36 , C07C323/37 , C07C2601/14 , C07D209/48 , C07D487/04 , C08G69/32 , C08G69/42 , C08G73/1039 , C08G73/1067 , C09K11/06 , C09K2211/1466
Abstract: 本发明公开由以下通式所表示的二胺、将其作为原料的聚酰亚胺和聚酰胺、其环化物、及其制造方法。式中，A为单键、醚键、硫醚键、CO、CH2、SO、SO2、C(CH3)2、NHCO或C(CF3)2，或者为具有脂环、杂环或芳环的2价基团，R1为碳数1～4的烷基或卤素基，a和b各自独立地表示0～2的整数，且1≤a+b≤4。前述聚酰亚胺和聚酰胺为以形成光器件时可利用湿法成膜的程度地易溶于有机溶剂、形成膜时具有耐热性的同时具有强度、且兼有优异的荧光特性的荧光性聚酰亚胺和荧光性聚酰胺。
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公开(公告)号：CN103561852A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201280026569.4
申请日：2012-05-30
Applicant: 中央硝子株式会社
CPC classification number: B01D71/64 , B01D53/228 , B01D71/82 , B01D2323/30 , C08G73/1039 , C08G73/1042 , C08G73/1046 , C08G73/105 , C08G73/1071 , C08L79/08 , C08L63/00
Abstract: 用于聚合成含有六氟异亚丙基的聚酰亚胺的二胺和羧酸二酐在形成聚酰亚胺膜时化学结构方面存在限制，因此作为气体分离膜时存在难以设计考虑了强度和分离性能的化学结构的问题。本发明是要获得容易作为易溶于有机溶剂、成型性优异的气体分离膜使用、气体分离性能优异的气体分离膜。本发明的气体分离膜含有聚酰亚胺，该聚酰亚胺含有下述通式（1）所示的重复单元（式（1）中，R1是2价有机基且R2是4价有机基，R1包含2-羟基-1,1,1,3,3,3-六氟异丙基（-C(CF3)2OH）。）。
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公开(公告)号：CN103130826A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210480299.6
申请日：2012-11-22
Applicant: 中央硝子株式会社
CPC classification number: G03F7/0755 , C07F7/1804 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0757 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种硅化合物、缩合物和使用了其的抗蚀剂组合物、以及使用其的图案形成方法。本发明提供一种硅化合物，其使用烷氧基硅烷等水解性的硅化合物作为原料，能够简便地合成，同一分子内具有烷氧基等水解性基团和通过高能量射线的照射而解离并产生酸的光产酸基团。一种硅化合物，其由通式(1)表示，式(1)中，R1分别独立地为氢原子、碳原子数1~20的直链状的烃基、碳原子数3~20的支链或环状的烃基，该烃基的碳原子也可以被氧原子置换，还可以包含氟原子。A为酸分解性基团，B为水解基团，n为0~2的整数，m为1~3的整数，n+m为1~3的整数。R1nAmSiB4-(n+m) (1)。
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公开(公告)号：CN102325824B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201080008736.3
申请日：2010-02-18
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: C08G69/42 , C07C57/58 , C07C57/76 , C07C59/64 , C07C69/65 , C07C69/734 , C08G63/682 , C08G73/06
CPC classification number: C07C59/64 , C07C69/65 , C07C69/734 , C08G63/6826 , C08G69/42 , C08G73/06 , C08G73/1039 , C08G73/22
Abstract: 本发明提供一种高分子化合物，其通过使通式(M-1)所示的含氟二羧酸衍生物或该含氟二羧酸的酸酐与具有2～4个能够对它们的羰基部位的反应性进行应答的反应性基团的多官能化合物缩聚而得到。AOCF2C-Q-CF2COA′(M-1)[式中，Q为具有可具有取代基的芳香环的二价有机基团，A、A’表示有机基团。]该高分子具有如下特征：作为半导体的保护膜具有充分低的介电常数，并且，可在250℃以下这样比较低的温度下形成薄膜。
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