含有两种吸附剂的过滤膜

    公开(公告)号:CN108472597A

    公开(公告)日:2018-08-31

    申请号:CN201680075693.8

    申请日:2016-12-23

    Applicant: 帕尔公司

    Inventor: D·厄克斯勒

    Abstract: 本发明涉及一种过滤装置,该过滤装置被设置用于稳定液体、特别是饮料,该过滤装置带有过滤单元(10)、特别是膜过滤单元,该过滤单元具有至少一个过滤元件(12)和至少一种集成的稳定剂(14)。本发明建议,过滤单元(10)具有至少另一种集成的稳定剂(16)。在本发明的另一个方面中建议,所述过滤装置包括至少一个第一前体(18),该第一前体被设置用于至少部分形成过滤元件(12),并且该同一第一前体(18)被设置用于至少部分构成所述稳定剂(14)。

    独立自支撑膜的制造及其在纳米颗粒图案合成中的应用

    公开(公告)号:CN103907056B

    公开(公告)日:2018-01-05

    申请号:CN201280053361.1

    申请日:2012-10-03

    Inventor: 杨军 李庭杰

    Abstract: 本专利公开了一种均匀孔径、特定形状以及规则孔分布的独立自支撑多孔膜加工方法,以及其在纳米颗粒图案合成中的应用。本方法包括将光致抗蚀剂层涂覆于基底上表面,首先将其加热相应时间段,然后通过具有预设图案的掩模版使该光致抗蚀剂层通过紫外曝光,并控制所述紫外线辐射剂量的强度和时间实现剂量控制,以便所述紫外线辐射剂量通过并进入所述光致抗蚀剂层顶部比与所述基底表面紧邻的光致抗蚀剂层底部经受更多的交联,从而在所述光致抗蚀剂层的厚度内产生交联梯度。由于与基低表面相邻的膜部分与膜表面相比交联程度低,去除掩模版后容易将膜层从基底表面分离。分离后的膜形成是具有特定图形分布的独立自支撑多孔膜。当沉积在UV透明基底上时,该方法也可以用正性光致抗蚀剂材料,以便将光致抗蚀剂从其顶部通过掩模对掩模版进行UV曝光并且从透明基底的背部掩模版进行直接无掩模的UV曝光。

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