公开(公告)号：CN1315906C

公开(公告)日：2007-05-16

申请号：CN99804515.2

申请日：1999-02-19

Applicant: 住友电木株式会社 ,  国际商业机器公司

Inventor： S·杰艾罗曼 ,  G·M·本艾迪克特 ,  L·F·罗德斯 ,  R·维卡里 ,  R·D·艾伦 ,  R·A·迪彼特罗 ,  R·苏瑞亚库玛曼 ,  T·沃洛

IPC: C08G61/08 ,  G03F7/038 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/039 ,  C08G61/02 ,  C08G61/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明涉及环状聚合物和其在照相平版印刷应用中的用途。这些环状聚合物含有酸不稳定官能侧基和含保护的羟基部分的官能基团。这些聚合物通过使羟基侧基部分脱保护并使该含脱保护羟基的部分与共反应剂反应而进行后改性。发现这些后-官能化的聚合物可用于化学放大光刻胶组合物中。

公开(公告)号：CN1251021C

公开(公告)日：2006-04-12

申请号：CN98808966.1

申请日：1998-09-03

Applicant: 住友电木株式会社 ,  国际商业机器公司

Inventor： B·L·古多尔 ,  S·佳亚拉曼 ,  R·A·希克 ,  L·F·罗德斯 ,  R·D·阿伦 ,  R·A·迪彼特罗 ,  T·瓦尔劳

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0045

Abstract: 本发明涉及一种辐射敏感的光刻胶组合物，包括光致酸引发剂和多环聚合物，该聚合物包括含酸不稳定侧基的重复单元。通过图像辐射源曝光，光致酸引发剂产生使酸不稳定侧基分裂的酸，使聚合物中的极性改变。在按图像光源曝光的区域使聚合物具有碱水溶液可溶性。

公开(公告)号：CN1295587A

公开(公告)日：2001-05-16

申请号：CN99804515.2

申请日：1999-02-19

Applicant: B·F·谷德里奇公司 ,  国际商业机器公司

Inventor： S·杰艾罗曼 ,  G·M·本艾迪克特 ,  L·F·罗德斯 ,  R·维卡里 ,  R·D·艾伦 ,  R·A·迪彼特罗 ,  R·苏瑞亚库玛曼 ,  T·沃格

IPC: C08G61/08 ,  G03F7/038 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/039 ,  C08G61/02 ,  C08G61/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明涉及环状聚合物和其在照相平版印刷应用中的用途。这些环状聚合物含有酸不稳定官能侧基和含保护的羟基部分的官能基团。这些聚合物通过使羟基侧基部分脱保护并使该含脱保护羟基的部分与共反应剂反应而进行后改性。发现这些后－官能化的聚合物可用于化学放大光刻胶组合物中。

公开(公告)号：CN101288027B

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN200680034135.3

申请日：2006-08-21

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： R·D·艾伦 ,  R·A·迪彼特罗 ,  H·特鲁昂 ,  P·J·布罗克 ,  R·苏利亚库马兰

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C07J9/00 ,  C07J17/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07J9/005 ,  C07J17/00 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/11 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

Abstract: 一种光致抗蚀剂组合物，它包括：聚合物；光致产酸剂；和溶解改性剂。使用该光致抗蚀剂组合物和溶解改性剂组合物，形成图像的方法。该溶解改性剂不溶于含水碱性显影剂内且抑制聚合物在显影剂内溶解，直到通过光致产酸剂暴露于光化辐射线下生成酸，其中溶解改性剂在合适的温度下变为可溶于显影剂内，并允许聚合物溶解在显影剂中。该溶解改性剂是用酸不稳定性的乙氧基乙基、四氢呋喃基和当归内酯基保护的葡糖苷、胆酸酯、柠檬酸酯和金刚烷二羧酸酯。

公开(公告)号：CN101288027A

公开(公告)日：2008-10-15

申请号：CN200680034135.3

申请日：2006-08-21

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： R·D·艾伦 ,  R·A·迪彼特罗 ,  H·特鲁昂 ,  P·J·布罗克 ,  R·苏利亚库马兰

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C07J9/00 ,  C07J17/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07J9/005 ,  C07J17/00 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/11 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

Abstract: 一种光致抗蚀剂组合物，它包括：聚合物；光致产酸剂；和溶解改性剂。使用该光致抗蚀剂组合物和溶解改性剂组合物，形成图像的方法。该溶解改性剂不溶于含水碱性显影剂内且抑制聚合物在显影剂内溶解，直到通过光致产酸剂暴露于光化辐射线下生成酸，其中溶解改性剂在合适的温度下变为可溶于显影剂内，并允许聚合物溶解在显影剂中。该溶解改性剂是用酸不稳定性的乙氧基乙基、四氢呋喃基和当归内酯基保护的葡糖苷、胆酸酯、柠檬酸酯和金刚烷二羧酸酯。

公开(公告)号：CN1276884A

公开(公告)日：2000-12-13

申请号：CN98808966.1

申请日：1998-09-03

Applicant: B·F·谷德里奇公司 ,  国际商业机器公司

Inventor： B·L·古多尔 ,  S·佳亚拉曼 ,  R·A·希克 ,  L·F·罗德斯 ,  R·D·阿伦 ,  R·A·迪彼特罗 ,  T·瓦尔劳

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0045

Abstract: 本发明涉及一种辐射敏感的光刻胶组合物,包括光致酸引发剂和多环聚合物,该聚合物包括含酸不稳定侧基的重复单元。通过图像辐射源曝光,光致酸引发剂产生使酸不稳定侧基分裂的酸,使聚合物中的极性改变。在按图像光源曝光的区域使聚合物具有碱水溶液可溶性。