公开(公告)号：CN1251021C

公开(公告)日：2006-04-12

申请号：CN98808966.1

申请日：1998-09-03

Applicant: 住友电木株式会社 ,  国际商业机器公司

Inventor： B·L·古多尔 ,  S·佳亚拉曼 ,  R·A·希克 ,  L·F·罗德斯 ,  R·D·阿伦 ,  R·A·迪彼特罗 ,  T·瓦尔劳

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0045

Abstract: 本发明涉及一种辐射敏感的光刻胶组合物，包括光致酸引发剂和多环聚合物，该聚合物包括含酸不稳定侧基的重复单元。通过图像辐射源曝光，光致酸引发剂产生使酸不稳定侧基分裂的酸，使聚合物中的极性改变。在按图像光源曝光的区域使聚合物具有碱水溶液可溶性。

公开(公告)号：CN1267001A

公开(公告)日：2000-09-20

申请号：CN00101869.8

申请日：2000-02-04

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： P·R·瓦拉纳斯 ,  R·D·阿伦 ,  T·I·瓦洛 ,  J·奥皮茨 ,  R·A·德彼得罗 ,  M·C·拉森 ,  A·M·梅惠特 ,  J·F·马尼斯卡科 ,  G·M·杰德哈默

IPC: G03F7/028

Abstract: 一种酸催化正型光刻胶组合物,它可以用193nm波长射线成像,而且可以显影形成高分辨及高抗蚀性的光刻胶结构物,所述组合物可以采用环烯烃聚合物、光敏产酸剂及饱和甾族化合物组份的混合物。所述环烯烃聚合物优选含有:i)带有极性官能团的环烯烃单元;ii)具有酸不稳定性基团的环烯烃单元,所述酸不稳定性基团能抑制碱水溶液中的溶解度。

公开(公告)号：CN1276884A

公开(公告)日：2000-12-13

申请号：CN98808966.1

申请日：1998-09-03

Applicant: B·F·谷德里奇公司 ,  国际商业机器公司

Inventor： B·L·古多尔 ,  S·佳亚拉曼 ,  R·A·希克 ,  L·F·罗德斯 ,  R·D·阿伦 ,  R·A·迪彼特罗 ,  T·瓦尔劳

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/039 ,  G03F7/0045

Abstract: 本发明涉及一种辐射敏感的光刻胶组合物,包括光致酸引发剂和多环聚合物,该聚合物包括含酸不稳定侧基的重复单元。通过图像辐射源曝光,光致酸引发剂产生使酸不稳定侧基分裂的酸,使聚合物中的极性改变。在按图像光源曝光的区域使聚合物具有碱水溶液可溶性。