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公开(公告)号：CN1269530A
公开(公告)日：2000-10-11
申请号：CN00103850.8
申请日：2000-03-03
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0045 , Y10S430/106 , Y10S430/115
Abstract: 一种酸催化正型光刻胶组合物,它可以用193nm波长射线成像,而且可以显影形成高分辨及高抗蚀性的光刻胶结构物,所述组合物可以采用环烯烃聚合物、光敏产酸剂及含多个酸不稳定性连接基团的疏水非甾族多脂环组份的混合物。所述环烯烃聚合物优选含有:i)带有极性官能团的环烯烃单元;ii)具有酸不稳定性基团的环烯烃单元,所述酸不稳定性基团能抑制碱水溶液中的溶解度。
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公开(公告)号：CN101861638A
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200880116679.3
申请日：2008-11-11
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: H01L21/00
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/40
Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物及在多重曝光/多层方法中使用所述光致抗蚀剂组合物的方法。所述光致抗蚀剂组合物包含：包含含有羟基结构部分的重复单元的聚合物，光酸产生剂；以及溶剂。当形成在衬底上时，所述聚合物在加热至约150℃或更高的温度后实质上不可溶于所述溶剂。一种方法包括在衬底上形成第一光致抗蚀剂层，在图案位置处曝光所述第一光致抗蚀剂层，在所述衬底以及图案化第一光致抗蚀剂层上形成第二非光致抗蚀剂层。另一种方法包括在衬底上形成第一光致抗蚀剂层，在图案位置处曝光所述第一光致抗蚀剂层，在所述衬底以及图案化第一光致抗蚀剂层上形成第二光致抗蚀剂层并且在图案位置处曝光所述第二光致抗蚀剂层。
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公开(公告)号：CN1782876A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510115296.2
申请日：2005-11-11
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/126
Abstract: 本发明公开了一种包含一种聚合物的光刻胶组合物，该聚合物包括至少一种具有下列结构的单体：其中，R1选自氢(H)、具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、半氟化或全氟化的具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、以及CN；R2为具有5个或更多个碳原子的脂环基团；X为选自亚甲基、醚、酯、酰胺和碳酸酯的连接部分；R3为具有1个或多个碳原子的线形或支化亚烷基或者半氟化或全氟化的线形或支化亚烷基；R4选自氢(H)、甲基(CH3)、三氟甲基(CF3)、二氟甲基(CHF2)、氟代甲基(CH2F)、以及半氟化或全氟化的脂族基团；R5选自三氟甲基(CF3)、二氟甲基(CHF2)、氟代甲基(CH2F)、以及半氟化或全氟化的取代或未取代的脂族基团；n为1或更大的整数；OR12为OH或者选自叔烷基碳酸酯、叔烷基酯、叔烷基醚、缩醛和缩酮的至少一种酸不稳定基团。本发明还公开了一种在衬底上形成图案的方法，其中该方法包括：将上述光刻胶组合物施于衬底上以形成膜；将该膜曝露在成像辐射源下形成图案；和对该膜区域进行显影以形成图案化衬底。
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公开(公告)号：CN1773377A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200510119432.5
申请日：2005-11-11
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/40
Abstract: 使用具有丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯单体单元的聚合物获得了可在低的能级下用193nm照射(并且可能是其他的照射)成像的酸催化的正性抗蚀剂组合物，其中该单体单元包括优选连接到萘酯基团上的低活化能部分。该抗蚀剂允许了具有低活化能的丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯聚合物用于成像的性能优势，由此允许了提高的分辨率和降低的后曝光烘焙敏感性。该抗蚀剂聚合物还优选含有包括氟代醇部分的单体单元和包括内酯部分的单体单元。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1252541C
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN00103850.8
申请日：2000-03-03
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/039 , G03F7/0045 , Y10S430/106 , Y10S430/115
Abstract: 一种酸催化正型光刻胶组合物，它可以用193nm波长射线成像，而且可以显影形成高分辨及高抗蚀性的光刻胶结构物，所述组合物可以采用环烯烃聚合物、光敏产酸剂及含多个酸不稳定性连接基团的疏水非甾族多脂环组份的混合物。所述环烯烃聚合物优选含有：i)带有极性官能团的环烯烃单元；ii)具有酸不稳定性基团的环烯烃单元，所述酸不稳定性基团能抑制碱水溶液中的溶解度。
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公开(公告)号：CN100541329C
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200510119431.0
申请日：2005-11-11
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0397
Abstract: 使用具有含萘酚酯基团的丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯单体单元的聚合物获得了可用193nm照射成像的酸催化的正性抗蚀剂组合物。该抗蚀剂可任选含有具有带含氟官能团的丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯单体单元的聚合物。与常规含氟193nm的抗蚀剂相比，含有具有含萘酚酯基团的丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯单体单元的聚合物的该抗蚀剂具有提高的加工范围，包括提高的耐蚀刻性和降低的溶胀性。
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公开(公告)号：CN1790163A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200510119431.0
申请日：2005-11-11
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0397
Abstract: 使用具有含萘酚酯基团的丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯单体单元的聚合物获得了可用193nm照射成像的酸催化的正性抗蚀剂组合物。该抗蚀剂可任选含有具有带含氟官能团的丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯单体单元的聚合物。与常规含氟193nm的抗蚀剂相比，含有具有含萘酚酯基团的丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯单体单元的聚合物的该抗蚀剂具有提高的加工范围，包括提高的耐蚀刻性和降低的溶胀性。
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公开(公告)号：CN101861638B
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN200880116679.3
申请日：2008-11-11
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: H01L21/00
CPC classification number: G03F7/0048 , G03F7/0035 , G03F7/0397 , G03F7/40
Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物及在多重曝光/多层方法中使用所述光致抗蚀剂组合物的方法。所述光致抗蚀剂组合物包含：包含含有羟基结构部分的重复单元的聚合物；光酸产生剂；以及溶剂。当形成在衬底上时，所述聚合物在加热至约150℃或更高的温度后实质上不可溶于所述溶剂。一种方法包括在衬底上形成第一光致抗蚀剂层，在图案位置处曝光所述第一光致抗蚀剂层，在所述衬底以及图案化第一光致抗蚀剂层上形成第二非光致抗蚀剂层。另一种方法包括在衬底上形成第一光致抗蚀剂层，在图案位置处曝光所述第一光致抗蚀剂层，在所述衬底以及图案化第一光致抗蚀剂层上形成第二光致抗蚀剂层并且在图案位置处曝光所述第二光致抗蚀剂层。
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公开(公告)号：CN100561344C
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200510115296.2
申请日：2005-11-11
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/126
Abstract: 本发明公开了一种包含一种聚合物的光刻胶组合物，该聚合物包括至少一种具有下列结构的单体：其中，R1选自氢(H)、具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、半氟化或全氟化的具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、以及CN；R2为具有5个或更多个碳原子的脂环基团；X为选自亚甲基、醚、酯、酰胺和碳酸酯的连接部分；R3为具有1个或多个碳原子的线形或支化亚烷基或者半氟化或全氟化的线形或支化亚烷基；R4选自氢(H)、甲基(CH3)、三氟甲基(CF3)、二氟甲基(CHF2)、氟代甲基(CH2F)、以及半氟化或全氟化的脂族基团；R5选自三氟甲基(CF3)、二氟甲基(CHF2)、氟代甲基(CH2F)、以及半氟化或全氟化的取代或未取代的脂族基团；n为1或更大的整数；OR12为OH或者选自叔烷基碳酸酯、叔烷基酯、叔烷基醚、缩醛和缩酮的至少一种酸不稳定基团。本发明还公开了一种在衬底上形成图案的方法，其中该方法包括：将上述光刻胶组合物施于衬底上以形成膜；将该膜曝露在成像辐射源下形成图案；和对该膜区域进行显影以形成图案化衬底。
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