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公开(公告)号：CN1782876A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510115296.2
申请日：2005-11-11
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/126
Abstract: 本发明公开了一种包含一种聚合物的光刻胶组合物，该聚合物包括至少一种具有下列结构的单体：其中，R1选自氢(H)、具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、半氟化或全氟化的具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、以及CN；R2为具有5个或更多个碳原子的脂环基团；X为选自亚甲基、醚、酯、酰胺和碳酸酯的连接部分；R3为具有1个或多个碳原子的线形或支化亚烷基或者半氟化或全氟化的线形或支化亚烷基；R4选自氢(H)、甲基(CH3)、三氟甲基(CF3)、二氟甲基(CHF2)、氟代甲基(CH2F)、以及半氟化或全氟化的脂族基团；R5选自三氟甲基(CF3)、二氟甲基(CHF2)、氟代甲基(CH2F)、以及半氟化或全氟化的取代或未取代的脂族基团；n为1或更大的整数；OR12为OH或者选自叔烷基碳酸酯、叔烷基酯、叔烷基醚、缩醛和缩酮的至少一种酸不稳定基团。本发明还公开了一种在衬底上形成图案的方法，其中该方法包括：将上述光刻胶组合物施于衬底上以形成膜；将该膜曝露在成像辐射源下形成图案；和对该膜区域进行显影以形成图案化衬底。
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公开(公告)号：CN100561344C
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200510115296.2
申请日：2005-11-11
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/126
Abstract: 本发明公开了一种包含一种聚合物的光刻胶组合物，该聚合物包括至少一种具有下列结构的单体：其中，R1选自氢(H)、具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、半氟化或全氟化的具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、以及CN；R2为具有5个或更多个碳原子的脂环基团；X为选自亚甲基、醚、酯、酰胺和碳酸酯的连接部分；R3为具有1个或多个碳原子的线形或支化亚烷基或者半氟化或全氟化的线形或支化亚烷基；R4选自氢(H)、甲基(CH3)、三氟甲基(CF3)、二氟甲基(CHF2)、氟代甲基(CH2F)、以及半氟化或全氟化的脂族基团；R5选自三氟甲基(CF3)、二氟甲基(CHF2)、氟代甲基(CH2F)、以及半氟化或全氟化的取代或未取代的脂族基团；n为1或更大的整数；OR12为OH或者选自叔烷基碳酸酯、叔烷基酯、叔烷基醚、缩醛和缩酮的至少一种酸不稳定基团。本发明还公开了一种在衬底上形成图案的方法，其中该方法包括：将上述光刻胶组合物施于衬底上以形成膜；将该膜曝露在成像辐射源下形成图案；和对该膜区域进行显影以形成图案化衬底。
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公开(公告)号：CN101427181B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200780014095.0
申请日：2007-04-18
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03C1/00
CPC classification number: G03F7/091 , C08F220/28 , C08F222/40 , C08F232/08 , Y10S430/151
Abstract: 本发明公开了一种用于在衬底表面和正性光刻胶组合物之间施用的抗反射涂料组合物。该抗反射涂料组合物可在含水碱性显影液中显影。该抗反射涂料组合物包含聚合物，该聚合物包含至少一种含选自内酯、马来酰亚胺和N-烷基马来酰亚胺的一个或多个结构部分的单体单元和至少一种含一个或多个吸收性结构部分的单体单元。该聚合物不包含酸不稳定基团。本发明还公开了一种通过在光刻中使用本发明抗反射涂料组合物形成并转印浮雕图像的方法。
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公开(公告)号：CN101427181A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200780014095.0
申请日：2007-04-18
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03C1/00
CPC classification number: G03F7/091 , C08F220/28 , C08F222/40 , C08F232/08 , Y10S430/151
Abstract: 本发明公开了一种用于在衬底表面和正性光刻胶组合物之间施用的抗反射涂料组合物。该抗反射涂料组合物可在含水碱性显影液中显影。该抗反射涂料组合物包含聚合物，该聚合物包含至少一种含选自内酯、马来酰亚胺和N－烷基马来酰亚胺的一个或多个结构部分的单体单元和至少一种含一个或多个吸收性结构部分的单体单元。该聚合物不包含酸不稳定基团。本发明还公开了一种通过在光刻中使用本发明抗反射涂料组合物形成并转印浮雕图像的方法。
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