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公开(公告)号：CN102597138A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080049821.4
申请日：2010-09-14
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: C09D143/04 , G03F7/075 , G03F7/00
CPC classification number: C09D143/04 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开了涂料组合物，其包含其中R1为含硅结构部分，R2为酸稳定的内酯官能团，且R3为酸不稳定的内酯官能团；X1、X2、X3独立地为H或CH3；和m和o为非零正整数且n为零或正整数(表示重复单元数)的聚合物(I)、光酸产生剂和溶剂。本发明还公开了在含有相同组分的涂料组合物中形成图案的方法。
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公开(公告)号：CN107210197B
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN201680009251.3
申请日：2016-02-08
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/311 , H01L29/06 , H05K3/00
Abstract: 制备混杂预制图案以用于能够形成层状域图案的给定嵌段共聚物的定向自组装。混杂预制图案具有顶表面，其包括散布有相邻凹陷表面的独立的抬升表面。抬升表面对于通过自组装形成的域是中性润湿的。在给定的蚀刻方法中，在抬升表面下方的材料比在凹陷表面下方的材料具有更大的抗蚀刻性。按照本文所述的混杂预制图案的其他尺寸约束，在混杂预制图案上形成给定嵌段共聚物的层。层的自组装产生在抬升表面上的包括自对准的、单向的、垂直取向的薄片的层状域图案，以及在凹陷表面上平行和/或垂直取向的薄片。域图案沿着预制图案的主轴显示长程有序性。层状域图案可用于形成包括二维定制特征的转印图案。
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公开(公告)号：CN107210197A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680009251.3
申请日：2016-02-08
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/311 , H01L29/06 , H05K3/00
Abstract: 制备混杂预制图案以用于能够形成层状域图案的给定嵌段共聚物的定向自组装。混杂预制图案具有顶表面，其包括散布有相邻凹陷表面的独立的抬升表面。抬升表面对于通过自组装形成的域是中性润湿的。在给定的蚀刻方法中，在抬升表面下方的材料比在凹陷表面下方的材料具有更大的抗蚀刻性。按照本文所述的混杂预制图案的其他尺寸约束，在混杂预制图案上形成给定嵌段共聚物的层。层的自组装产生在抬升表面上的包括自对准的、单向的、垂直取向的薄片的层状域图案，以及在凹陷表面上平行和/或垂直取向的薄片。域图案沿着预制图案的主轴显示长程有序性。层状域图案可用于形成包括二维定制特征的转印图案。
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公开(公告)号：CN102597138B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201080049821.4
申请日：2010-09-14
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: C09D143/04 , G03F7/075 , G03F7/00
CPC classification number: C09D143/04 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开了涂料组合物，其包含其中R1为含硅结构部分，R2为酸稳定的内酯官能团，且R3为酸不稳定的内酯官能团；X1、X2、X3独立地为H或CH3；和m和o为非零正整数且n为零或正整数(表示重复单元数)的聚合物(I)、光酸产生剂和溶剂。本发明还公开了在含有相同组分的涂料组合物中形成图案的方法。
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