公开(公告)号：CN104007623B

公开(公告)日：2017-06-16

申请号：CN201410061770.7

申请日：2014-02-24

Applicant: 国际商业机器公司 ,  JSR株式会社

Inventor： R·D·艾伦 ,  R·阿约西 ,  L·D·玻加诺 ,  W·D·辛斯伯格 ,  L·K·桑德伯格 ,  S·A·斯万松 ,  H·D·特鲁昂 ,  G·M·瓦尔拉夫

IPC: G03F7/32 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 提供用包含有机显像剂溶剂显像正色调化学增强抗蚀剂的方法，所述有机显像剂溶剂具有单独或者与其它有机溶剂如异丙醇和/或水组合的至少一种多元醇，例如乙二醇和/或甘油。本文所述有机溶剂显像正色调抗蚀剂用于光刻图案形成方法；用于生产半导体器件，例如集成电路(IC)；以及用于其中碱性溶剂不合适的应用，例如用生物分子阵列图案化的芯片的生产或不需要存在酸结构部分的去保护应用。

公开(公告)号：CN104007623A

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：CN201410061770.7

申请日：2014-02-24

Applicant: 国际商业机器公司 ,  JSR株式会社

Inventor： R·D·艾伦 ,  R·阿约西 ,  L·D·玻加诺 ,  W·D·辛斯伯格 ,  L·K·桑德伯格 ,  S·A·斯万松 ,  H·D·特鲁昂 ,  G·M·瓦尔拉夫

IPC: G03F7/32 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 提供用包含有机显像剂溶剂显像正色调化学增强抗蚀剂的方法，所述有机显像剂溶剂具有单独或者与其它有机溶剂如异丙醇和/或水组合的至少一种多元醇，例如乙二醇和/或甘油。本文所述有机溶剂显像正色调抗蚀剂用于光刻图案形成方法；用于生产半导体器件，例如集成电路(IC)；以及用于其中碱性溶剂不合适的应用，例如用生物分子阵列图案化的芯片的生产或不需要存在酸结构部分的去保护应用。

公开(公告)号：CN102143981A

公开(公告)日：2011-08-03

申请号：CN200980134701.1

申请日：2009-07-16

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： R·苏里亚库马兰 ,  H·特鲁昂 ,  R·A·迪皮特罗 ,  S·A·斯万松

IPC: C08F36/20 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开用于光刻胶组合物中的聚合物，其包括具有下式的重复单元，其中Z表示聚合物主链的重复单元；X为选自由以下组成的组的连接基团：亚烷基、亚芳基、亚芳烷基、羰基、羧基、羧基亚烷基、氧基、氧亚烷基及其组合；且R选自由以下组成的组：氢、烷基、芳基及环烷基；其条件为X与R不为同一环系统的一部分。本发明也公开光刻胶组合物的浮雕影像的图案化方法，其中该光刻胶组合物具有小于6.5E+14个分子/平方厘米/秒的释气速率。

公开(公告)号：CN102597138A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201080049821.4

申请日：2010-09-14

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： R·苏里亚库马兰 ,  R·D·艾伦 ,  P·J·布洛克 ,  S·A·斯万松 ,  H·特鲁昂 ,  K-J·陈 ,  W-S·黄 ,  A·弗里兹

IPC: C09D143/04 ,  G03F7/075 ,  G03F7/00

CPC classification number: C09D143/04 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明公开了涂料组合物，其包含其中R1为含硅结构部分，R2为酸稳定的内酯官能团，且R3为酸不稳定的内酯官能团；X1、X2、X3独立地为H或CH3；和m和o为非零正整数且n为零或正整数(表示重复单元数)的聚合物(I)、光酸产生剂和溶剂。本发明还公开了在含有相同组分的涂料组合物中形成图案的方法。

公开(公告)号：CN102597138B

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：CN201080049821.4

申请日：2010-09-14

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： R·苏里亚库马兰 ,  R·D·艾伦 ,  P·J·布洛克 ,  S·A·斯万松 ,  H·特鲁昂 ,  K-J·陈 ,  W-S·黄 ,  A·弗里兹

IPC: C09D143/04 ,  G03F7/075 ,  G03F7/00

CPC classification number: C09D143/04 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明公开了涂料组合物，其包含其中R1为含硅结构部分，R2为酸稳定的内酯官能团，且R3为酸不稳定的内酯官能团；X1、X2、X3独立地为H或CH3；和m和o为非零正整数且n为零或正整数(表示重复单元数)的聚合物(I)、光酸产生剂和溶剂。本发明还公开了在含有相同组分的涂料组合物中形成图案的方法。

公开(公告)号：CN102143981B

公开(公告)日：2013-05-15

申请号：CN200980134701.1

申请日：2009-07-16

Applicant: 国际商业机器公司

Inventor： R·苏里亚库马兰 ,  H·特鲁昂 ,  R·A·迪皮特罗 ,  S·A·斯万松

IPC: C08F36/20 ,  G03F7/09

Abstract: 本发明公开用于光刻胶组合物中的聚合物，其包括具有下式的重复单元，其中Z表示聚合物主链的重复单元；X为选自由以下组成的组的连接基团：亚烷基、亚芳基、亚芳烷基、羰基、羧基、羧基亚烷基、氧基、氧亚烷基及其组合；且R选自由以下组成的组：氢、烷基、芳基及环烷基；其条件为X与R不为同一环系统的一部分。本发明也公开光刻胶组合物的浮雕影像的图案化方法，其中该光刻胶组合物具有小于6.5E+14个分子/平方厘米/秒的释气速率。