公开(公告)号：CN104007623B

公开(公告)日：2017-06-16

申请号：CN201410061770.7

申请日：2014-02-24

Applicant: 国际商业机器公司 ,  JSR株式会社

Inventor： R·D·艾伦 ,  R·阿约西 ,  L·D·玻加诺 ,  W·D·辛斯伯格 ,  L·K·桑德伯格 ,  S·A·斯万松 ,  H·D·特鲁昂 ,  G·M·瓦尔拉夫

IPC: G03F7/32 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 提供用包含有机显像剂溶剂显像正色调化学增强抗蚀剂的方法，所述有机显像剂溶剂具有单独或者与其它有机溶剂如异丙醇和/或水组合的至少一种多元醇，例如乙二醇和/或甘油。本文所述有机溶剂显像正色调抗蚀剂用于光刻图案形成方法；用于生产半导体器件，例如集成电路(IC)；以及用于其中碱性溶剂不合适的应用，例如用生物分子阵列图案化的芯片的生产或不需要存在酸结构部分的去保护应用。

公开(公告)号：CN104007623A

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：CN201410061770.7

申请日：2014-02-24

Applicant: 国际商业机器公司 ,  JSR株式会社

Inventor： R·D·艾伦 ,  R·阿约西 ,  L·D·玻加诺 ,  W·D·辛斯伯格 ,  L·K·桑德伯格 ,  S·A·斯万松 ,  H·D·特鲁昂 ,  G·M·瓦尔拉夫

IPC: G03F7/32 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397

Abstract: 提供用包含有机显像剂溶剂显像正色调化学增强抗蚀剂的方法，所述有机显像剂溶剂具有单独或者与其它有机溶剂如异丙醇和/或水组合的至少一种多元醇，例如乙二醇和/或甘油。本文所述有机溶剂显像正色调抗蚀剂用于光刻图案形成方法；用于生产半导体器件，例如集成电路(IC)；以及用于其中碱性溶剂不合适的应用，例如用生物分子阵列图案化的芯片的生产或不需要存在酸结构部分的去保护应用。