-
公开(公告)号：CN103044063A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201210549666.3
申请日：2007-06-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 国立大学法人东北大学
IPC: C04B38/00 , C23C16/455 , H01L21/205 , H01L21/306 , H05H1/46
CPC classification number: B05B1/18 , C23C16/45565 , C23C16/45568 , C23C16/511 , H01J37/3244 , H01J37/32449
Abstract: 本发明提供一种喷淋板及其制造方法、和使用了它的等离子体处理装置、处理方法及电子装置的制造方法。该喷淋板能够更完全地防止等离子体发生逆流、或在纵孔部分的等离子体激励用气体发生着火，从而可以高效地激励等离子体。喷淋板（105）配置在等离子体处理装置的处理室（102）中，为了在处理室（102）中产生等离子体而排出等离子体激励用气体，其中，在形成为等离子体激励用气体的排出路径的纵孔（112）中安装有具有在气体流通方向上连通的气孔的多孔质气体流通体（114）。将由多孔质气体流通体（114）的连通的气孔形成的气体流通路径中的狭路的气孔直径设在10μm以下。
-
公开(公告)号：CN102484939A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080037151.4
申请日：2010-08-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , C23C16/511 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32192 , C23C16/455 , C23C16/511 , H01J37/3222 , H01J37/32229 , H01J37/3244 , H05H1/46 , H05H2001/463
Abstract: 等离子体处理装置(11)所具备的微波供给单元(20)具备短截线部件(51)，该短截线部件，作为使内导体(32)的外周面(36)的一部分与在径向与内导体(32)的外周面的一部分相对的相对部在此为冷却板突出部(47)在径向的距离变更的变更单元，能够从外导体(33)侧向内导体(32)侧延伸出。短截线部件(51)包括：在外导体(33)侧被支承，且设置为在径向延伸的棒状部(52)；和作为对棒状部(52)的径向的移动量进行调整的移动量调整部件的螺钉部(53)。
-
公开(公告)号：CN101556909B
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN200910129409.2
申请日：2009-03-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/20 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01L21/311 , C23C16/00 , H05H1/24
CPC classification number: H01L21/67069 , C23C16/54
Abstract: 本发明提供等离子体处理装置及其密封结构、密封方法。该装置的密封结构能使等离子体稳定，防止密封构件老化。密封等离子体产生室(2)的开口部的闸阀包括阀体(16)、阀杆(17)和密封阀体与等离子体产生室的间隙的环状密封构件(11、12)。密封构件(11)位于等离子体产生室侧，直接接触等离子体气体介质。密封构件(11)与密封构件(12)不接触，存在间隙(S)。阀体沿密封构件(11)长度方向有多个气体槽(13)。气体槽位于与密封构件(11)的长度方向大致正交的方向上，连通间隙和等离子体产生室。在等离子体产生室的壁上设有向间隙注入气体的气体注入通路(14)。设有沿密封构件(11)长度方向连续的凹部(15)，将气体注入通路的气体排出口和凹部连结。
-
公开(公告)号：CN101606227A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200880004230.8
申请日：2008-02-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/205 , H01L21/683 , C23C16/458 , C23C16/52
CPC classification number: H01L21/68742 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/4585 , C23C16/4586 , C23C16/50 , H01J37/3244 , H01L21/6831 , H01L21/6833 , H01L21/68735 , H01L21/6875
Abstract: 所公开的载置台构造，是在对基板进行规定处理的可抽真空的处理容器内支撑基板的载置台构造，该载置台构造具有：载置台主体，其载置基板；升降销机构，其构成为将基板降到载置台主体，并从载置台抬起基板；阶梯部，其形成在载置台主体上，使得载置在载置台主体上的基板的背面周缘部暴露于供给到处理容器中的处理气体中。
-
公开(公告)号：CN101587825A
公开(公告)日：2009-11-25
申请号：CN200910129414.3
申请日：2009-03-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 石桥清隆
IPC: H01L21/00 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H05H1/24
CPC classification number: H01L21/67069 , C23C16/54
Abstract: 本发明提供等离子体处理装置及等离子体处理方法。即使簇射极板破裂，也能防止毒性气体被放出到装置外部。以将由腔室(1)、隔离件(1b)和上板(1a)构成的处理容器的上部开口封闭的方式配置簇射极板(7)，自簇射极板的开口部(9)向腔室内放射等离子体激发用气体。向配置在簇射极板外侧的隙缝天线(12)供给微波而产生等离子体，用气体吸引装置(28)从气体排出口(18、22)吸引隔离件的内壁与簇射极板的外周面间的第1间隙(16)、隙缝天线的放射面与电介质盖板(6)间的第2间隙(19)中的大气；用气体除害装置(29)除去毒性气体，即使簇射极板破裂，有毒的毒性气体也不会被放出到等离子体处理装置(50)的周边。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100508689C
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN03813083.1
申请日：2003-05-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32192 , H01J37/32238
Abstract: 一种等离子体处理装置，它具有：在内部进行等离子体处理用的腔室(1)；由塞住所述腔室(1)的上侧的电介质构成的顶板(15)；和作为通过所述顶板(15)将高频供给所述腔室(1)内的高频供给部件的天线部(3)；在顶板(15)内部具有反射部件(23a、23b)。反射部件(23a、23b)的侧壁起作为反射在顶板(15)内沿径向传播的高频的波反射部件的作用。或者，没有反射部件，则用顶板(15)的凹部的侧壁作为波反射部件也可以。
-
公开(公告)号：CN1846300A
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN200480025471.2
申请日：2004-09-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/205 , H01L21/3065 , C23F4/00 , H05H1/46 , C23C16/511
Abstract: 在腔室(1)上部的开口部配置有由微波驱动并产生电磁场的天线部(3)，在天线部(3)的下部设置有密封腔室(1)的开口部的顶板(4)，在顶板(4)的下表面一侧设置有环形的突条(41)，其径向的厚度以锥形连续变化，从而在等离子的任意条件下均可以在某处产生共振。由此，仅准备一种顶板就可以起到与准备各种厚度的顶板相同的效果，可以使等离子的吸收率显著提高，并且从高压至低压均可以稳定地产生等离子。
-
公开(公告)号：CN104851771B
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201510086922.3
申请日：2015-02-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , C23C16/513
Abstract: 本发明可将基板上的每个位置通过等离子体区域的时间不均抑制得较低，并且可提高所产生的等离子体的均匀性。本发明所揭示的基板处理装置(10)包括：载置台(14)，能够以轴线(X)为中心旋转地设置；气体供给部，对通过载置台(14)的旋转而基板(W)依序通过的区域供给气体；及等离子体产生部(22)，产生所供给的气体的等离子体；且等离子体产生部(22)包括：天线(22a)，辐射微波；及同轴波导管(22b)，将微波供给至天线(22a)；且在构成从沿着轴线(X)的方向观察天线(22a)的情况下的截面形状的线段包含随着从轴线(X)离开而相互远离的2个线段，同轴波导管(22b)将微波从天线(22a)的重心供给至天线(22a)。
-
公开(公告)号：CN102867725B
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN201210235937.8
申请日：2012-07-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01J37/32238
Abstract: 本发明提供一种能够改善基板表面处理量的面内均匀性的天线、电介质窗、等离子体处理装置和等离子体处理方法。该天线具备电介质窗（16）和设置于电介质窗（16）一个表面上的槽板（20）。电介质窗（16）的另一个表面具有：平坦面（146），其被环状的第一凹部包围；和第二凹部（153），其以包围平坦面（146）的重心位置的方式在平坦面（146）内形成多个。当从与槽板的主表面垂直的方向观看时，各个第二凹部（153）的重心位置重叠位于槽板（20）中的各个槽（133）内。
-
公开(公告)号：CN102867725A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201210235937.8
申请日：2012-07-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01J37/32238
Abstract: 本发明提供一种能够改善基板表面处理量的面内均匀性的天线、电介质窗、等离子体处理装置和等离子体处理方法。该天线具备电介质窗（16）和设置于电介质窗（16）一个表面上的槽板（20）。电介质窗（16）的另一个表面具有：平坦面（146），其被环状的第一凹部包围；和第二凹部（153），其以包围平坦面（146）的重心位置的方式在平坦面（146）内形成多个。当从与槽板的主表面垂直的方向观看时，各个第二凹部（153）的重心位置重叠位于槽板（20）中的各个槽（133）内。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
56
records
(took 0.026 seconds)
